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도전 물질의 패터닝 장치 및 방법(PATTERNING APPARATUS AND METHOD OF CONDUCTIVE MATERIAL)

  • 기술번호 : KST2017018088
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 도전 물질의 패터닝 장치는 액체 금속을 포함하는 도전 물질이 형성된 전사 기판, 상기 전사 기판을 회전시키는 회전부, 상기 도전 물질에 레이저 빔을 조사하는 레이저부, 상기 전사 기판과 이격되어 위치하며 상기 도전 물질을 수용하는 수용 기판이 탑재되는 스테이지, 그리고 상기 전사 기판과 인접하여 위치하며 상기 도전 물질을 냉각시키는 냉각부를 포함한다.
Int. CL H01L 21/3213 (2016.06.21) H01L 21/28 (2016.06.21) H01L 21/268 (2016.06.21) H01L 21/687 (2016.06.21) H01L 21/67 (2016.06.21) H01L 21/027 (2016.06.21) H01L 21/02 (2016.06.21) H01L 21/56 (2016.06.21)
CPC H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01) H01L 21/3213(2013.01)
출원번호/일자 1020160061597 (2016.05.19)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0130852 (2017.11.29) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.05.19)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장원석 대한민국 대전광역시 서구
2 박철민 대한민국 대전광역시 유성구
3 최원석 대한민국 대전광역시 유성구
4 조성학 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.05.19 수리 (Accepted) 1-1-2016-0482453-96
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.10.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0709129-02
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-1242905-27
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.12.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1242906-73
6 등록결정서
Decision to grant		 2018.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0254404-48
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번호 청구항
1 1
액체 금속을 포함하는 도전 물질이 형성된 전사 기판,상기 전사 기판을 회전시키는 회전부,상기 도전 물질에 레이저 빔을 조사하는 레이저부,상기 전사 기판과 이격되어 위치하며 상기 도전 물질을 수용하는 수용 기판이 탑재되는 스테이지, 그리고상기 전사 기판과 인접하여 위치하며 상기 도전 물질을 냉각시키는 냉각부를 포함하고,상기 레이저 빔의 파장은 300nm 내지 1500nm이며, 상기 레이저 빔의 펄스 에너지는 0
2 2
제1항에서,상기 수용 기판에 설치되며 상기 도전 물질과 상기 수용 기판간의 거리를 측정하는 거리 센서를 더 포함하는 도전 물질의 패터닝 장치
3 3
제2항에서,상기 스테이지의 위치를 조절하는 스테이지 위치 조절부를 더 포함하는 도전 물질의 패터닝 장치
4 4
제2항에서,상기 회전부에 연결되어 있으며 상기 전사 기판의 위치를 조절하는 전사 기판 위치 조절부를 더 포함하는 도전 물질의 패터닝 장치
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
전사 기판 위에 액체 금속을 포함하는 도전 물질을 형성하는 단계,상기 전사 기판에 연결된 회전부를 이용하여 상기 전사 기판을 회전시켜 레이저 빔에 대응하는 위치에 상기 도전 물질을 위치시키는 단계,상기 레이저 빔을 이용하여 상기 전사 기판으로부터 상기 도전 물질을 박리시켜 수용 기판에 전사하는 단계, 그리고상기 전사 기판에 인접한 냉각부를 이용하여 상기 도전 물질을 냉각시키는 단계를 포함하고,상기 레이저 빔의 파장은 300nm 내지 1500nm이며, 상기 레이저 빔의 펄스 에너지는 0
9 9
제8항에서,상기 전사 기판 위에 상기 도전 물질을 형성하는 단계는상기 전사 기판의 표면을 플라즈마 처리하는 단계, 그리고상기 전사 기판에 상기 도전 물질을 코팅하는 단계를 포함하는 도전 물질의 패터닝 방법
10 10
제8항에서,상기 수용 기판에 설치되는 거리 센서를 이용하여 상기 전사 기판에 형성된 도전 물질의 표면과 상기 수용 기판간의 거리를 조절하는 단계를 더 포함하는 도전 물질의 패터닝 방법
11 11
제8항에서,상기 회전부에 연결된 전사 기판 위치 조절부를 이용하여 상기 전사 기판의 위치를 조절하는 단계를 더 포함하는 도전 물질의 패터닝 방법
12 12
삭제
13 13
삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2017200229 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2017200229 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 기계연구원 주요사업 광전소자 분석을 위한 레이저 주사형 형광 및 광전류 현미경 시스템 기술개발(1/1)
2 미래창조과학부 기계연구원 미래부-국가연구개발사업 극한물성시스템 제조 플랫폼기술 (2/2)
3 미래창조과학부 기계연구원 미래부-국가연구개발사업 소프트기판용 고해상 전극 레이저 패터닝 기술개발 (3/3)