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유연기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계;상기 마스크 패턴의 측부에 보호필름을 부착하는 단계;상기 마스크 패턴 및 상기 보호필름이 형성된 유연기판 상에 원자층을 형성하는 단계;상기 보호필름을 제거하는 단계; 및상기 마스크 패턴을 식각하여 제거하는 단계를 포함하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 마스크 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 마스크 패턴은 상기 유연기판 상에 서로 연결되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 보호필름을 부착하는 단계에서, 상기 보호필름은 상기 마스크 패턴의 가장자리에 상기 마스크 패턴과 측부가 접촉되도록 부착되거나, 상기 마스크 패턴과 측부의 일부가 중첩되도록 부착되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제3항에 있어서, 상기 보호필름을 제거하는 단계에서, 상기 보호필름은 상기 유연기판의 외부로 연장되는 탈착부를 포함하며, 상기 탈착부를 통해 상기 유연기판으로부터 탈착되어 제거되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제4항에 있어서, 상기 보호필름을 제거하는 단계에서 상기 보호필름이 제거됨에 따라, 상기 마스크 패턴의 측부는 외부로 노출되어 제거공간을 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제5항에 있어서, 상기 마스크 패턴을 식각하여 제거하는 단계에서, 상기 제거공간으로 식각액이 유입되어 상기 마스크 패턴이 제거되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 원자층을 형성하는 단계에서, 상기 원자층은 원자층 증착법으로 증착되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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유연기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 인쇄유닛;상기 유연기판 상에 형성된 상기 마스크 패턴을 건조하는 제1 건조유닛;상기 마스크 패턴의 측부에 보호필름을 부착하는 부착유닛;상기 마스크 패턴 및 상기 보호필름이 형성된 유연기판 상에 원자층을 형성하는 증착유닛;상기 보호필름을 제거하는 제거유닛; 상기 마스크 패턴을 식각하여 제거하는 식각유닛; 및상기 마스크 패턴이 식각되어 잔류한 상기 원자층을 건조하는 제2 건조유닛을 포함하는 패턴 형성장치
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유연기판 상에 마스크 패턴이 형성되는 영역에 접착물질을 도포하는 단계;상기 접착물질의 상부에 마스크 패턴을 형성하는 단계;상기 마스크 패턴이 형성된 유연기판 상에 원자층을 형성하는 단계;서로 중첩된 상기 마스크 패턴과 상기 접착물질 중 상기 접착물질만을 제거하여, 상기 유연기판과 상기 마스크 패턴 사이에 유격부를 형성하는 단계; 및상기 마스크 패턴을 식각하여 제거하는 단계를 포함하고, 상기 유격부가 형성됨에 따라 상기 마스크 패턴은 상기 유연기판과 접촉되되, 상기 유연기판과 상기 마스크 패턴 사이에 미세한 공간들이 형성되고, 상기 미세한 공간들로 식각액이 인입되어 상기 마스크 패턴이 식각되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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10
제9항에 있어서, 상기 접착물질을 제거하여 상기 유연기판과 상기 마스크 패턴 사이에 유격부를 형성하는 단계에서, 상기 접착물질은 상기 유연기판의 외부로 연장되는 탈착부를 포함하며, 상기 탈착부를 통해 상기 접착물질이 상기 유연기판으로부터 탈착되어 제거되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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삭제
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유연기판 상에 마스크 패턴이 형성되는 영역에 접착물질을 도포하는 도포유닛;상기 유연기판 상에 도포된 상기 접착물질을 건조하는 제1 건조유닛;상기 접착물질의 상부에 마스크 패턴을 형성하는 인쇄유닛;상기 마스크 패턴을 건조하는 제2 건조유닛;상기 마스크 패턴이 형성된 유연기판 상에 원자층을 형성하는 증착유닛;서로 중첩된 상기 마스크 패턴과 상기 접착물질 중 상기 접착물질만을 제거하여 상기 유연기판과 상기 마스크 패턴 사이에 유격부를 형성하는 제거유닛;상기 마스크 패턴을 식각하여 제거하는 식각유닛; 및상기 마스크 패턴이 식각되어 잔류한 상기 원자층을 건조하는 제3 건조유닛을 포함하고, 상기 유격부가 형성됨에 따라 상기 마스크 패턴은 상기 유연기판과 접촉되되, 상기 유연기판과 상기 마스크 패턴 사이에 미세한 공간들이 형성되고, 상기 미세한 공간들로 식각액이 인입되어 상기 마스크 패턴이 식각되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성장치
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