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유연기판 상에 금속패턴을 형성하는 단계;상기 금속패턴 상에 자기조합단층박막을 형성하는 단계;상기 유연기판 상에서 상기 자기조합단층박막이 형성되지 않은 영역에 원자층을 형성하는 단계;상기 자기조합단층박막을 상기 금속패턴의 상면으로부터 제거하는 단계; 및상기 자기조합단층박막의 제거로 노출된 금속패턴을 제거하거나 또는 소결하는 단계를 포함하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 자기조합단층박막을 형성하는 단계에서,상기 자기조합단층박막은 슬롯다이코팅 또는 롤코팅으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 자기조합단층박막을 형성하는 단계에서, 상기 자기조합단층박막은 상기 금속패턴 전면에 형성되거나, 또는 상기 금속패턴의 일부면에 선택적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제3항에 있어서, 상기 금속패턴을 제거하거나 소결하는 단계는, 상기 자기조합단층박막의 제거로 노출된 금속패턴으로 식각액을 제공하는 단계; 및상기 식각액의 제공에 따라 금속패턴이 제거되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제4항에 있어서, 상기 자기조합단층박막이 상기 금속패턴의 일부면에 선택적으로 형성되는 경우, 상기 식각액은 상기 노출된 금속패턴을 통해 상기 유연기판 상에 형성된 금속패턴 전체에 제공되어, 상기 금속패턴이 전체적으로 제거되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제3항에 있어서, 상기 금속패턴을 제거하거나 소결하는 단계는, 상기 자기조합단층박막의 제거로 노출된 금속패턴을 환원하는 단계; 및상기 금속패턴의 환원에 따라 전극이 형성되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제6항에 있어서, 상기 금속패턴을 환원하는 단계는, 상기 금속패턴을 급속광(intense pulsed light: IPL)소결하여 금속을 환원하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제7항에 있어서, 상기 자기조합단층박막이 상기 금속패턴의 일부면에 선택적으로 형성되는 경우, 상기 급속광은 상기 노출된 금속패턴을 통해 상기 유연기판 상에 형성된 금속패턴 전체에 제공되어, 상기 금속패턴이 전체적으로 소결되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 원자층을 형성하는 단계에서, 상기 원자층은 원자층증착 공정으로 형성되고, 상기 원자층은 상기 자기조합단층박막이 형성되지 않은 영역에만 증착되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 자기조합단층박막을 제거하는 단계에서, 상기 자기조합단층박막 및 상기 원자층이 형성된 상기 유연기판으로 자외선 또는 플라즈마를 제공하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 자기조합단층박막은 상기 금속패턴에 포함된 금속에 친화성이 있는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법
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유연기판 상에 금속 패턴을 형성하는 인쇄유닛;상기 금속 패턴이 형성된 상기 유연기판 상에 자기조합단층박막을 형성하는 코팅유닛;상기 자기조합단층박막이 형성된 유연기판 상에 원자층을 형성하는 증착유닛; 상기 자기조합단층박막을 상기 금속 패턴으로부터 제거하는 제거유닛; 및상기 자기조합단층박막의 제거로 노출된 금속패턴을 제거하는 식각유닛 또는 상기 자기조합단층박막의 제거로 노출된 금속패턴을 소결하는 광소결 유닛을 포함하는 패턴 형성장치
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제12항에 있어서, 상기 패턴 형성장치는,상기 금속 패턴을 건조하는 제1 건조유닛; 및상기 자기조합단층박막을 건조하는 제2 건조유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성장치
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