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고투과성 나노와이어 그리드 편광자 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2018007866
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 두 가지의 고유 선형 편광 중 한가지인 선형 편광 TM 편광과, 다른 한 가지인 선형 편광 TE 편광 중 하나는 반사시키고, 다른 하나는 투과시키는 투과성 나노와이어 그리드 편광자, 및 상기 투과성 나노와이어 그리드 편광자의 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL G02B 5/30 (2006.01.01) G02B 6/02 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020170168716 (2017.12.08)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0065962 (2018.06.18) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020160167033   |   2016.12.08
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.12.08)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신종화 대전광역시 유성구
2 허민성 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-1227365-75
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2018.08.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 심사처리보류(연기)보고서
Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination		 2018.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0118091-62
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.10.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0127561-20
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0712738-03
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2018-1288649-34
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.01.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0077694-07
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2019-0077556-15
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0389328-32
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2019.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2019-0785137-50
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2019.08.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0895026-93
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2019-0894985-74
14 등록결정서
Decision to grant		 2020.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0045650-75
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 유전체를 포함하며 서로 이격된, 제 1 층과 제 2 층; 및상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이에 형성된 편광층;을 포함하며, 상기 편광층은, 제 2 유전체와, 상기 제 2 유전체 내부에 삽입되며 서로 평행하게 배열된 복수의 와이어를 포함하는 것이고, 상기 제 2 유전체의 유전율은 상기 제 1 유전체의 유전율보다 작고,상기 와이어의 두께는 상기 와이어를 형성하는 물질의 표피 두께 수준 (skin depth level) 이하인 것이고,상기 와이어의 크기, 주기, 또는 상기 와이어 사이의 간격을 조정하여 상기 편광층의 유효 임피던스가 제어되고,상기 제 1 층 및 상기 제 2 층의 유효 임피던스와 상기 편광층의 유효 임피던스가 동일하여 임피던스 정합 조건이 만족되는 것인,와이어 그리드 편광자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 와이어는 복소 유전율의 절대값이 10 이상인 물질을 포함하는 것인,와이어 그리드 편광자
3 3
제 1 항에 있어서,상기 와이어는 나노와이어를 포함하는 것인,와이어 그리드 편광자
4 4
제 1 항에 있어서,상기 제 2 유전체는 다공성 유전체 물질을 포함하는 것인, 와이어 그리드 편광자
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 편광층의 두께는 상기 제 1 층 및 상기 제 2 층 중 빛이 입사되는 층의 두께보다 두꺼운 것인,와이어 그리드 편광자
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
제 1' 유전체를 포함하는 제 1 층;제 3' 유전체를 포함하는 제 2 층; 및상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이에 형성된 편광층을 포함하며, 상기 편광층은, 제 2' 유전체와, 상기 제 2' 유전체 내부에 삽입되며 서로 평행하게 배열된 복수의 와이어를 포함하는 것고, 상기 와이어의 두께는 상기 와이어를 형성하는 물질의 표피 두께 수준 (skin depth level) 이하인 것이고,상기 제 1 층과 상기 제 2 층의 임피던스는 서로 동일하고, 상기 편광층의 임피던스는 상기 제 1 층과 상기 제 2 층의 임피던스보다 크거나 작으며, 상기 편광층의 두께는 입사되는 빛의 파장의 1/2의 정수배이거나,상기 제 1 층과 상기 제 2 층의 임피던스는 서로 상이하고, 상기 편광층의 임피던스는 상기 제 1 층과 상기 제 2 층 중 빛이 입사되는 층의 임피던스보다 크고 나머지 층의 임피던스보다 작으며, 상기 편광층의 두께는 상기 입사되는 빛의 파장의 1/4의 홀수배인 것인,와이어 그리드 편광자
9 9
제 8 항에 있어서,상기 편광자는 전자기파 상쇄 및 보강 간섭의 원리에 따라 편광 투과가 향상되는 것인, 와이어 그리드 편광자
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
제 8 항에 있어서,상기 와이어는 복소 유전율의 절대값이 10 이상인 물질을 포함하는 것인,와이어 그리드 편광자
13 13
제 8 항에 있어서,상기 와이어는 나노와이어를 포함하는 것인,와이어 그리드 편광자
14 14
제 8 항에 있어서,상기 제 2' 유전체는 다공성 유전체 물질을 포함하는 것인, 와이어 그리드 편광자
15 15
삭제
16 16
제 8 항에 있어서, 상기 와이어는 1 보다 큰 종횡비를 갖는 것인, 와이어 그리드 편광자
17 17
제 1 항에 따른 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법으로서,상기 편광자는,제 1 유전체를 포함하며 서로 이격된, 제 1 층과 제 2 층; 및상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이에 형성된 편광층;을 포함하며, 상기 편광층은, 제 2 유전체와, 상기 제 2 유전체 내부에 삽입되며 서로 평행하게 배열된 복수의 와이어를 포함하는 것이고, 상기 제 2 유전체의 유전율은 상기 제 1 유전체의 유전율보다 작고,상기 와이어의 두께는 상기 와이어를 형성하는 물질의 표피 두께 수준 (skin depth level) 이하이며, 상기 와이어의 크기, 주기, 또는 상기 와이어 사이의 간격을 조정하여 상기 편광층의 유효 임피던스가 제어되고,상기 제 1 층 및 상기 제 2 층의 유효 임피던스와 상기 편광층의 유효 임피던스가 동일하여 임피던스 정합 조건이 만족되는 것이고, 상기 편광자의 제조 방법은,(1) 상기 편광층의 기하학적 특성에 따라 TM 방향 유효 부피 비율 및 TE 방향 유효 부피 비율을 산출하는 단계;(2) 상기 TM 방향 유효 부피 비율, 상기 와이어의 유전율 및 상기 제2 유전체의 유전율을 이용하여 TM 방향 유효 유전율을 산출하는 단계;(3) 상기 TE 방향 유효 부피 비율, 상기 와이어의 유전율 및 상기 제2 유전체의 유전율을 이용하여 TE 방향 유효 유전율을 산출하는 단계;(4) 상기 TM 방향 유효 유전율을 이용하여 TM 방향 임피던스를 산출하는 단계;(5) 상기 TE 방향 유효 유전율을 이용하여 TE 방향 임피던스를 산출하는 단계;(6) 상기 TM 방향 임피던스를 이용하여 산출한 제1 투과계수를 산출하는 단계; 및(7) 상기 TE 방향 임피던스를 이용하여 산출한 제2 투과계수를 산출하는 단계;를 포함하며,상기 (1) 단계 내지 (7) 단계를 반복하여, 상기 제 1 투과 계수는 1에 가깝고, 상기 제 2 투과계수는 0에 가깝도록 하는 상기 편광층의 기하학적 특성을 조정함으로써 임피던스 정합 방법에 의하여 상기 와이어 그리드 편광자를 제조하는 것인, 제 1 항에 따른 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법
18 18
제 17 항에 있어서,상기 (1) 단계는,기하학적 부피 비율로부터 유효 부피 비율을 산출하는 것인, 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법
19 19
제 8 항에 따른 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법으로서,상기 편광자는,제 1' 유전체를 포함하는 제 1 층;제 3' 유전체를 포함하는 제 2 층; 및상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이에 형성된 편광층을 포함하며, 상기 편광층은, 제 2' 유전체와, 상기 제 2' 유전체 내부에 삽입되며 서로 평행하게 배열된 복수의 와이어를 포함하는 것이고, 상기 와이어의 두께는 상기 와이어를 형성하는 물질의 표피 두께 수준 (skin depth level) 이하이며,상기 제 1 층과 상기 제 2 층의 임피던스는 서로 동일하고, 상기 편광층의 임피던스는 상기 제 1 층과 상기 제 2 층의 임피던스보다 크거나 작으며, 상기 편광층의 두께는 입사되는 빛의 파장의 1/2의 정수배이거나,상기 제 1 층과 상기 제 2 층의 임피던스는 서로 상이하고, 상기 편광층의 임피던스는 상기 제 1 층과 상기 제 2 층 중 빛이 입사되는 층의 임피던스보다 크고 나머지 층의 임피던스보다 작으며, 상기 편광층의 두께는 상기 입사되는 빛의 파장의 1/4의 홀수배인 것이고,상기 편광자의 제조 방법은,(1) 상기 편광층의 기하학적 특성에 따라 TM 방향 유효 부피 비율 및 TE 방향 유효 부피 비율을 산출하는 단계;(2) 상기 TM 방향 유효 부피 비율, 상기 와이어의 유전율 및 상기 제2 유전체의 유전율을 이용하여 TM 방향 유효 유전율을 산출하는 단계;(3) 상기 TE 방향 유효 부피 비율, 상기 와이어의 유전율 및 상기 제2 유전체의 유전율을 이용하여 TE 방향 유효 유전율을 산출하는 단계;(4) 상기 TM 방향 유효 유전율을 이용하여 TM 방향 임피던스를 산출하는 단계;(5) 상기 TE 방향 유효 유전율을 이용하여 TE 방향 임피던스를 산출하는 단계;(6) 상기 TM 방향 임피던스를 이용하여 산출한 제 1' 투과계수를 산출하는 단계; 및(7) 상기 TE 방향 임피던스를 이용하여 산출한 제 2' 투과계수를 산출하는 단계;를 포함하며,상기 (1) 단계 내지 (7) 단계를 반복하여, 상기 제 1' 투과 계수는 1에 가깝고, 상기 제 2' 투과계수는 0에 가깝도록 하는 상기 편광층의 기하학적 특성을 조정함으로써 전자기파 상쇄 및 보강 간섭의 원리에 의하여 상기 와이어 그리드 편광자를 제조하는 것인, 제 8 항에 따른 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법
20 20
제 19 항에 있어서,상기 (1) 단계는,기하학적 부피 비율로부터 유효 부피 비율을 산출하는 것인, 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 이화여자대학교 산학협력단 이공학분야(S/ERC) 후속지원 양자메타물질연구센터
2 미래창조과학부 한국과학기술원 미래유망 융합기술 파이오니아사업 테라스케일 메타물질을 위한 공정 고려 메타구조체 설계
3 미래창조과학부 한국과학기술원 원천기술개발사업-나노·소재 기술개발사업-나노·소재원천기술개발사업 블록공중합체 기반 하이브리드 공정을 이용한 대면적 초미세 삼차원 구조 제작 기술 개발