| 1 |
1
종단면에 미세 패턴이 형성된 광섬유로서 이루어지는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자를 제작하는 방법으로서,광섬유(500)의 종단면이 페룰(600)의 종단면과 동일 평면상에 위치하도록 상기 페룰(600) 안에 상기 광섬유(500)가 결합되어 광섬유-페룰 어셈블리(1000)가 형성되는 광섬유-페룰 어셈블리 형성 단계;상기 광섬유-페룰 어셈블리(1000)의 종단면에 감광성 재료가 도포되어 감광층(550)이 형성되는 감광층 형성 단계;상기 감광층(550)에 패턴광이 조사되어 상기 감광층(550)의 노광이 이루어지는 감광층 노광 단계; 및상기 광섬유(500)의 종단면에 상기 패턴광의 형상에 따른 미세 패턴이 형성되도록 상기 감광층(550)이 현상되는 감광층 현상 단계;를 포함하며,상기 감광층 형성 단계에서 형성되는 감광층(550)은 상기 광섬유-페룰 어셈블리(1000)의 종단면에 상기 감광성 재료를 스핀 코팅하는 스핀 코팅법에 의해 형성되고,상기 광섬유-페룰 어셈블리 형성 단계는,상기 광섬유(500)가 상기 페룰(600) 안으로 삽입되는 단계;상기 광섬유(500)와 상기 페룰(600) 사이의 갭에 액체 상태의 폴리머(700)가 채워지는 단계;상기 액체 상태의 폴리머(700)에 열이 가해져 상기 광섬유(500)와 상기 페룰(600)이 결합되는 단계; 및상기 광섬유(500)의 종단면이 상기 페룰(600)의 종단면과 동일 평면상에 위치하도록 폴리싱되는 단계;를 포함하고,상기 감광층 현상 단계 이후에,상기 광섬유(500)와 상기 페룰(600) 사이의 갭에 채워진 폴리머(700)만을 폴리머 제거 용액(800)으로 용해시켜, 상기 광섬유-페룰 어셈블리(1000)에서 상기 광섬유(500)를 분리시키는 광섬유 분리 단계;를 더 포함하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법은,광원(110)으로부터 조사된 광이 공간 광 변조기(120)에 의해 상기 광섬유(500)의 종단면에 미세 패턴을 형성하기 위한 상기 패턴광으로 변조되는 광 변조 단계;를 더 포함하여, 상기 광 변조 단계에서 변조된 상기 패턴광이 상기 감광층(550)에 조사되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 공간 광 변조기(120)는, 배치 각도가 가변되는 다수개의 가변 미러(125)들이 평면 상에 배열된 형태로 이루어져, 상기 가변 미러(125)들의 배치 각도에 따라 입사된 광을 선택적인 방향으로 반사시킴으로써 상기 패턴광으로 변조하는 디지털 미소반사 표시기(Digital Micromirror Device, DMD)인 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 6 |
6
제4항에 있어서,상기 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법은,상기 광 변조 단계에서 변조된 상기 패턴광이 집광 렌즈(130)에 의해 축소되는 광 축소 단계;를 더 포함하여, 축소된 상기 패턴광이 상기 감광층(550)에 조사되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 7 |
7
제6항에 있어서, 상기 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법은,상기 공간 광 변조기(120) 및 상기 집광 렌즈(130) 사이에 빔 스플리터(140)가 더 구비되고, 상기 집광 렌즈(130) 후단측에 관측용 카메라(150)가 더 구비되어,상기 광 변조 단계에서 변조된 상기 패턴광이 상기 빔 스플리터(140)로 입사되어 광경로가 변경됨으로써 상기 집광 렌즈(130)로 입사되어 상기 광 축소 단계가 수행되고,상기 감광층(550)에 조사 및 반사된 반사광이 상기 빔 스플리터(140)를 통과하여 상기 관측용 카메라(150)에 입사되어 상기 감광층(550)의 영상이 획득되는 감광층 영상 획득 단계가 더 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 상기 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법은,상기 광원(110)이, 상기 감광성 재료와 반응하는 광특성을 가지는 특성광을 발생시키는 특성광원(111) 및 백색광으로부터 상기 특성광이 제거되어 이루어지는 관측광을 발생시키는 관측광원(112)을 포함하여 이루어져,상기 특성광에 의해 상기 감광층 노광 단계가 수행되고, 상기 관측광에 의해 상기 감광층 영상 획득 단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 9 |
9
제4항에 있어서, 상기 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법은,상기 광원(110) 및 상기 공간 광 변조기(120) 사이에 빔 균질기(160)가 더 구비되어, 상기 광원(110)으로부터 조사된 광이 상기 빔 균질기(160)에 의해 광 세기가 균일화된 후 상기 공간 광 변조기(120)로 입사되어 상기 광 변조 단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 10 |
10
제4항에 있어서, 상기 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법은,상기 광원(110) 및 상기 공간 광 변조기(120) 사이에 빔 확장기(170)가 더 구비되어, 상기 광원(110)으로부터 조사된 광이 상기 공간 광 변조기(120)의 광 입사면 면적에 상응하는 면적을 가지도록 확장된 후 상기 공간 광 변조기(120)로 입사되어 상기 광 변조 단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 11 |
11
제6항에 있어서, 상기 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법은,상기 공간 광 변조기(120) 및 상기 집광 렌즈(130) 사이에 축소 렌즈(180)가 더 구비되어,상기 공간 광 변조기(120)에 의해 변조된 패턴광이 상기 축소 렌즈(180)에 의해 미리 축소된 후 상기 집광 렌즈(130)로 입사되어 상기 광 축소 단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 12 |
12
제1항에 있어서,상기 감광층 형성 단계에서 형성되는 감광층(550)은, 상기 광섬유-페룰 어셈블리(1000)의 종단면이 페룰홀더(900)의 상면과 동일 평면상에 위치하도록, 상기 페룰홀더(900)에 구비된 홀(950)에 상기 광섬유-페룰 어셈블리(1000)가 삽입 결합된 후, 상기 광섬유-페룰 어셈블리(1000)의 종단면과 상기 페룰홀더(900)의 상면에 동시에 형성되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 일체형 광섬유 소자 제작 방법
|
| 13 |
13
삭제
|
| 14 |
14
삭제
|
