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유입 포트가 형성된 상판과, 배기 포트가 형성된 하판과, 상판과 하판을 연결하는 측벽을 포함하는 공정 챔버;세정 대상인 패턴 마스크와, 패턴 마스크의 가장자리에 연결된 프레임을 포함하며, 상기 공정 챔버의 내부에서 상기 상판의 아래에 위치하는 마스크-프레임 조립체; 및상기 공정 챔버의 내부에서 방전 공간을 사이에 두고 상기 패턴 마스크의 아래에 위치하며, 절연체로 둘러싸인 전극을 포함하고,상기 마스크-프레임 조립체와 상기 전극 중 어느 하나는 고전압 전원에 접속되어 플라즈마 방전을 위한 구동 전압을 인가받고, 다른 하나는 접지되며,상기 유입 포트로 주입된 세정 가스는 상기 패턴 마스크에 형성된 복수의 개구부를 통과하며 상기 방전 공간에 균일하게 분배되는 마스크 세정 장치
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제1항에 있어서,상기 마스크-프레임 조립체는, 상기 프레임의 가장자리에 연결되며 상기 절연체를 향해 꺾인 플랜지를 더 포함하고,상기 방전 공간은 상기 패턴 마스크와 상기 플랜지 및 상기 절연체로 둘러싸이는 마스크 세정 장치
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제2항에 있어서,상기 마스크-프레임 조립체는 상기 공정 챔버와 함께 접지되고,상기 고전압 전원은 상기 전극에 접속되는 마스크 세정 장치
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제3항에 있어서,상기 상판과 상기 패턴 마스크 사이에 위치하며, 상기 유입 포트로 공급된 세정 가스를 상기 패턴 마스크의 전체면으로 확산시키는 확산판; 및상기 확산판의 가장자리에 연결되며, 상기 상판 및 상기 프레임에 밀착되어 상기 공정 챔버와 상기 프레임을 통전시키는 지지체를 더 포함하는 마스크 세정 장치
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제2항에 있어서,상기 고전압 전원은 상기 마스크-프레임 조립체에 접속되고,상기 전극은 상기 공정 챔버와 함께 접지되는 마스크 세정 장치
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제5항에 있어서,상기 절연체는 제2 절연체이고,상기 마스크-프레임 조립체의 상측 부분과 상기 플랜지를 둘러싸며, 상기 공정 챔버와 상기 마스크-프레임 조립체를 절연시키는 제1 절연체를 더 포함하는 마스크 세정 장치
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제6항에 있어서,상기 제1 절연체는,상기 상판과 상기 패턴 마스크 사이에 위치하며, 상기 유입 포트와 상기 패턴 마스크를 연통시키는 세정 가스 채널을 포함하는 수평부; 및상기 수평부의 가장자리에 연결되고, 상기 플랜지를 둘러싸는 수직부를 포함하는 마스크 세정 장치
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제7항에 있어서,상기 세정 가스 채널은 상기 유입 포트와 연결되는 제1 수평 채널과, 상기 패턴 마스크와 마주하는 제2 수평 채널과, 상기 제1 수평 채널과 상기 제2 수평 채널을 연결하는 복수의 수직 채널을 포함하는 마스크 세정 장치
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제6항에 있어서,상기 제2 절연체는 상기 전극을 지지하는 하부 절연체와, 상기 전극을 덮는 상부 절연체와, 하부 절연체의 네 코너측 아래에 위치하는 받침대를 포함하며,상기 전극은 상기 받침대 내부에 위치하는 커넥터에 의해 상기 공정 챔버의 하판과 통전되는 마스크 세정 장치
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제1항의 마스크 세정 장치를 이용하는 마스크 세정 방법에 있어서,상기 상판과 상기 절연체 사이에 마스크-프레임 조립체를 배치하는 단계;상기 배기 포트를 통해 상기 공정 챔버의 내부를 배기시킨 후 상기 유입 포트를 통해 세정 가스를 공급하여 상기 패턴 마스크에 형성된 복수의 개구부를 통해 상기 방전 공간으로 세정 가스를 균일하게 분배하는 단계; 및상기 마스크-프레임 조립체와 상기 전극 중 어느 하나를 접지시키고, 다른 하나에 고전압 전원을 접속하여 상기 방전 공간에 플라즈마를 발생시킴으로써 상기 절연체와 마주하는 상기 패턴 마스크의 아랫면과 상기 복수의 개구부에 축적된 유기물을 제거하는 단계를 포함하는 마스크 세정 방법
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제10항에 있어서,상기 세정 가스는 순수한 산소를 포함하거나 산소에 NF3, CF4, SF6 가운데 적어도 하나가 혼합된 혼합 가스를 포함하는 마스크 세정 방법
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제11항에 있어서,상기 플라즈마는 상기 세정 가스를 분해하여 산소 라디칼과 불소 라디칼을 발생시키고,상기 패턴 마스크의 유기물은 상기 산소 라디칼 및 상기 불소 라디칼과 화학반응하여 가스상 물질로 전환 및 제거되는 마스크 세정 방법
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