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기판으로 세정액을 방출하여 기판을 세정하는 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치에 있어서,기판을 향해 기체를 방출하는 기체 방출부;상기 기체 방출부에서 상기 기판으로 이동하는 기체에 세정액을 미세 입자 상태로 방출하는 세정액 방출부;상기 기판을 향해 세정물질을 방출하는 세정물질 방출부; 및상기 기판 표면의 세정액 혼합물을 흡수하는 석션부; 를 포함하며,기판으로 이동하는 기체는 유입된 세정액 입자의 이동경로 및 분사 범위를 조절하고, 세정액 입자가 기판으로 이동하는 과정에서 재결합 되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는, 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치
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기판으로 세정액을 방출하여 기판을 세정하는 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치에 있어서,기판과 마주보는 일측이 개방된 외부 하우징;상기 외부 하우징 내부에 형성되며, 상기 기판을 향해 기체를 방출하는 기체 방출부;상기 외부 하우징의 반경방향 일측에 형성되며, 상기 기체 방출부에서 상기 기판으로 이동하는 기체에 세정액을 미세 입자 상태로 방출하는 세정액 방출부;상기 외부 하우징의 반경방향 타측에 형성되며, 상기 기판을 향해 세정물질을 방출하는 세정물질 방출부; 및상기 외부 하우징의 반경방향 일측에 이격 형성되며, 상기 기판의 표면의 세정액 혼합물을 흡수하는 석션부; 를 포함하며, 기판으로 이동하는 기체는 유입된 세정액 입자의 이동경로 및 분사 범위를 조절하고, 세정액 입자가 기판으로 이동하는 과정에서 재결합 되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는, 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 기체 방출부는 방출되는 기체의 가장자리에 에어커튼을 형성하는, 균일한 액적을 이용하는 기판용 초음파 세정장치
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제 3항에 있어서,상기 기체 방출부는 기체가 방출되는 제1 노즐을 향해 초음파를 방출하는 제1 초음파 발생부를 더 포함하는, 균일한 액적을 이용한 기판용 초음파 세정장치
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제 4항에 있어서,상기 세정액 방출부는 세정액이 방출되는 제2 노즐을 향해 초음파를 방출하는 제2 초음파 발생부를 더 포함하는, 균일한 액적을 이용한 기판용 초음파 세정장치
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제 5항에 있어서, 상기 제1 노즐은 방출되는 기체가 기판(1)에 인접할수록 단면적이 넓어지는 확산형인 것을 특징으로 하는, 균일한 액적을 이용한 기판용 초음파 세정장치
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제 5항에 있어서, 상기 제1 노즐은 상기 제1 초음파 발생부가 위치된 타측에서 상기 기판이 위치된 일측으로 방출되는 기체의 방출면적을 일정하게 제한하는 유지형인 것을 특징으로 하는, 균일한 액적을 이용한 기판용 초음파 세정장치
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제 2항에 있어서,상기 하우징은 상기 기판과 마주보는 일측 단부가 기체가 이동하는 내측으로 벤딩된 것을 특징으로 하는, 균일한 액적을 이용한 기판용 초음파 세정장치
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제 8항에 있어서,상기 세정물질 방출부는 일측 단부가 상기 하우징의 벤딩 형상에 대응하여 내측으로 벤딩된 것을 특징으로 하는, 균일한 액적을 이용한 기판용 초음파 세정장치
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기판으로 세정물질을 방출하는 세정물질 방출단계;초음파를 인가하여 기판으로 기체를 방출하는 기체 방출단계;초음파를 인가하여 상기 기판으로 방출되는 기체를 향해 세정액을 미세 입자 상태로 방출하는 세정액 방출단계;세정액 혼합물 회수단계;를 포함하며,상기 세정액 방출단계에서 기체로 세정액을 방출 시, 기체는 유입된 세정액 입자의 이동경로 및 분사 범위를 조절함과 동시에, 세정액 입자가 기판으로 이동하는 과정에서 재결합 되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는, 균일한 액적을 이용한 기판용 초음파 세정방법
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