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기판 세정에 접합한 세정액을 제조 사용하는 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치에 있어서,내부에 세정액이 제조되는 수용공간이 형성되고, 기판과 마주보는 일측에 세정액 방출부가 형성되며, 상기 수용공간으로 액체를 안내하는 액체 유입부와, 상기 수용공간으로 기체를 안내하는 기체 유입부와, 상기 수용공간에 위치된 기체를 외부로 방출하는 기체 방출부를 포함하는 몸체;상기 수용공간 내부에 세정액을 사이에 두고 상기 세정액 방출부와 일정거리 이격 형성되며, 상기 세정액 방출부를 향해 초음파를 방출하는 초음파 발생부; 상기 기판을 향해 세정물질을 방출하는 세정물질 방출부; 및상기 기판과 이격 형성되는 석션부; 를 포함하며, 상기 수용공간에 위치되는 불필요한 기체는 상기 기체 방출부를 통해 외부로 방출되어, 수용공간에 위치된 세정액이 기판 세정에 적합한 성질을 가지는 것을 특징으로 하는, 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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제 1항에 있어서, 상기 세정액 방출부는 나노 내지 마이크로 크기의 직경을 가지는 방출통로가 복수개 형성된 나노 구조체인 것을 특징으로 하는, 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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제 2항에 있어서,상기 방출통로는 타측에서 일측으로 갈수록 단면적이 좁아지는 것을 특징으로 하는, 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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제 1항에 있어서,상기 세정액 방출부는 나노 내지 마이크로 크기의 홀이 복수개 형성된 나노 구조체인 것을 특징으로 하는 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 세정물질 방출부는 상기 기판의 이동 경로에 위치되는 상기 몸체의 양측에 형성된 것을 특징으로 하는, 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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제 5항에 있어서,상기 석션부는 상기 기판의 이동 경로에 위치되는 상기 세정물질 방출부의 양측에 이격 형성된 것을 특징으로 하는, 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 초음파 발생부와 상기 세정액 방출부의 거리(L)는 하기 식 1에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는, 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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액체와 기체를 혼합하여 기판의 세정에 적합한 세정액을 형성하는 세정액 형성단계;세정물질을 기판으로 방출하는 세정물질 방출단계;초음파를 이용하여 세정액을 기판으로 방출하는 세정액 방출단계; 및세정액과 세정물질이 혼합된 세정액 혼합물을 회수하는 세정액 혼합물 회수단계; 를 포함하며,세정액 형성 과정에서 기체 방출부를 통해 불필요한 기체가 배출되는 것을 특징으로 하는, 액적을 이용하는 대면적용 초음파 세정장치
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