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적어도 4 이상의 소재를 혼합시키고 멜팅시켜 고엔트로피 합금을 형성하는 단계; 상기 고엔트로피 합금을 분쇄시켜 분쇄분말을 형성하는 단계; 상기 분쇄분말을 분급하여 분급분말을 형성하는 단계; 및 상기 분급분말을 고주파 플라즈마 반응기에 제공하고 구상화시켜 구형의 고엔트로피 합금분말을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 고엔트로피 합금은 원자가 전자농도(valence electron concentration)가 4
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제 1항에 있어서, 상기 고엔트로피 합금분말은 상기 고주파 플라즈마 반응기를 통과한 공정 이후에 단일상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 고엔트로피 합금을 형성하는 분말은 바나듐(V), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 하프늄(Hf), 크롬(Cr) 및 이들의 혼합물 중 선택된 적어도 4 이상인 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서, 적어도 4 이상의 소재를 혼합시키고 멜팅시켜 고엔트로피 합금을 형성하는 단계에 있어서, 상기 소재들은 균일한 혼합비율로 혼합되어 상기 고엔트로피 합금을 형성하는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서, 적어도 4 이상의 소재를 혼합시키고 멜팅시켜 고엔트로피 합금을 형성하는 단계에 있어서, 상기 고엔트로피 합금은 아크 용해, 플라즈마 용해 및 이들을 혼합한 방법 중 선택되는 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 고엔트로피 합금을 분쇄시켜 분쇄분말을 형성하는 단계에 있어서, 상기 분쇄분말은 해머 밀링(hammer milling), 볼 밀링(Ball milling) 및 이들을 혼합한 방법 중 선택되는 적어도 어느 하나의 방법을 사용하여 상기 고엔트로피 합금을 분쇄하여 형성되는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 분쇄분말을 분급하여 분급분말을 형성하는 단계에 있어서,상기 분쇄분말을 분급할 수 있는 분급체는 100mesh 내지 160mesh 범위인 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 분급체는 130um 이하의 상기 분쇄분말을 필터링시키는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 분급분말을 고주파 플라즈마 반응기에 제공하고 구상화시켜 구형의 고엔트로피 합금분말을 형성하는 단계에 이후에, 상기 구형의 고엔트로피 합금분말을 분급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 분급분말을 고주파 플라즈마 반응기에 제공하고 구상화시켜 구형의 고엔트로피 합금분말을 형성하는 단계에 있어서, 상기 고주파 플라즈마 반응기는,출력파워를 제공하는 출력부와, 상기 분급분말을 반응영역에 제공할 수 있는 분말 제공부와,상기 분급분말을 운반하는 운반가스를 제공하는 가스유입구를 포함하는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 고주파 플라즈마 반응기는, 상기 분급분말의 이동 구간 중, 상기 분급분말이 가열되는 상기 반응영역에 대응하는 일 부위에 전자기장을 생성하는 유도코일을 구비하는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 출력부는 8kW 내지 12kW의 출력파워를 제공하고, 상기 반응영역의 내부압력은 80kPa 내지 100kPa범위로 형성되는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 분급분말은 상기 고주파 플라즈마 반응기의 상부로부터 상기 고주파 플라즈마 반응기의 하부 방향으로 유동하면서 구형화되는 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 고엔트로피 합금분말은 체심입방구조(body centered cubic, BCC) 인 것을 특징으로 하는 고엔트로피 합금분말의 제조방법
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제 1항의 고엔트로피 합금분말의 제조방법에 의해서 제조되는 고엔트로피 합금분말
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