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2차원 절연체를 포함하는 근적외선 센서

  • 기술번호 : KST2019016604
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 개시된 근적외선 센서는 기판 상의 2차원 물질 반도체층과, 상기 2차원 물질 반도체층 상의 터널링층과, 상기 터널링층의 상면 양단에 각각 배치된 제1 전극 및 제2 전극을 포함한다. 상기 반도체층은 대략 10nm ~ 100nm 두께를 가진 전이금속 디칼코게나이드다. 상기 터널링층과 상기 기판은 hBN 물질로 이루어질 수 있다.
Int. CL H01L 31/09 (2006.01.01) H01L 31/032 (2006.01.01) H01L 31/0224 (2006.01.01)
CPC H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01) H01L 31/09(2013.01)
출원번호/일자 1020180018071 (2018.02.13)
출원인 삼성전자주식회사, 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0097981 (2019.08.21) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조상현 대한민국 서울특별시 동작구
2 양희준 서울특별시 서대문구
3 황근우 경상북도 김천시
4 신현진 대한민국 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2018-0159962-05
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상의 2차원 물질 반도체층;상기 2차원 물질 반도체층 상의 터널링층; 및상기 터널링층의 상면 양단에 각각 배치된 제1 전극 및 제2 전극;을 구비하는 근적외선 센서
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 반도체층은 전이금속 디칼코게나이드를 포함하는 근적외선 센서
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 반도체층은 , MoS2, MoSe2, MoTe2, WS2, WSe2, WTe2, ZrS2, ZrSe2, HfS2, HfSe2, NbSe2, ReSe2, CuS 를 포함하는 근적외선 센서
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 반도체층은 대략 10nm ~ 100nm 두께를 가진 근적외선 센서
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 터널링층은 hBN, 알루미나, 하프늄 옥사이드를 포함하는 근적외선 센서
6 6
제 1 항에 있어서,상기 터널링층의 두께는 대략 3nm ~ 10nm인 근적외선 센서
7 7
제 1 항에 있어서,상기 기판은 hBN으로 이루어진 근적외선 센서
8 8
제 1 항에 있어서,상기 기판에서 상기 반도체층을 마주보게 형성된 게이트 전극을 더 포함하는 근적외선 센서
9 9
제 7 항에 있어서,상기 기판의 두께는 대략 3nm ~ 10nm인 근적외선 센서
10 10
제 1 항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 투명한 도전성 산화물을 포함하는 근적외선 센서
11 11
hBN 기판 상의 MoTe2 반도체층;상기 MoTe2 반도체층 상의 hBN 터널링층; 및상기 터널링층의 상면 양단에 각각 배치된 제1 전극 및 제2 전극;을 구비하는 근적외선 센서
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 MoTe2 반도체층 은 대략 10nm ~ 100nm 두께를 가진 근적외선 센서
13 13
제 11 항에 있어서, 상기 터널링층의 두께는 대략 3nm ~ 10nm인 근적외선 센서
14 14
제 11 항에 있어서,상기 기판에서 상기 MoTe2 반도체층 을 마주보게 형성된 게이트 전극을 더 포함하는 근적외선 센서
15 15
제 14 항에 있어서,상기 기판의 두께는 대략 3nm ~ 10nm인 근적외선 센서
16 16
제 11 항에 있어서,상기 제1 전극 및 제2 전극은 투명한 도전성 산화물을 포함하는 근적외선 센서
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20190252569 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2019252569 US 미국 DOCDBFAMILY
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