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내부에 빈 공간을 갖는 입체형상의 은 매트릭스; 상기 은 매트릭스와의 접촉면에 형성되고, 독립적으로 존재하는 하나 이상의 금속 나노입자;를 포함하는 은-금속복합나노구조체로서,상기 금속 나노입자의 표면의 일부가 각각 상기 은-금속 복합나노구조체의 내부의 빈 공간 및 외부로 동시에 노출되는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체
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제 1항에 있어서,상기 은 매트릭스는 다면체 형상인 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체
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제 3항에 있어서,상기 은 매트릭스는 육면체 형상인 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체
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제 1항 및 제 3항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 금속 나노입자는, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 백금, 금 및 알루미늄으로 구성된 그룹 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체
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다면체인 AgCl 형판과 금속이온이 혼합된 혼합물을 제조하는 단계; 상기 혼합물을 유기산에 첨가하여 AgCl 형판 표면에 독립적으로 존재하는 하나 이상의 금속 나노입자를 포함하는 은 매트릭스를 형성시키는 단계;상기 은 매트릭스가 표면에 형성된 AgCl 형판을 추출하는 단계; 및상기 추출된 은 매트릭스가 표면에 형성된 AgCl 형판을 수산화암모늄에 첨가하여 AgCl 형판을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 다면체인 AgCl 형판과 금속이온이 혼합된 혼합물을 제조하는 단계는,금속염화물, 은화합물 및 금속이온 안정제를 혼합하여 제조하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 금속염화물은, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 백금, 금 및 알루미늄으로 구성된 그룹 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 은화합물은, AgClO4, AgClO3, AgCl, CH3CO2Ag, AgBrO3, AgIO3, Ag2SO4, Ag2SO3, Ag2CrO4, AgNO3, Ag3PO4, Ag3AsO4, Ag3AsO3, Ag2CO3 및 Ag2SiO3으로 구성된 그룹 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 금속이온 안정제는, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 소디움 도데실 벤젠설포네이트, 및 테트라부틸암모늄 브로마이드알킬메타크릴레이트, 도데실메타크릴레이트, 폴리비닐알콜 및 이들 유도체로 구성된 그룹 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 유기산은, 아스코르빈산, 개미산, 아세트산, 구연산으로 구성된 그룹 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 금속 나노입자는, 상기 은 매트릭스 내에 형성되고, 독립적으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은-금속 복합나노구조체의 제조방법
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