| 1 |
1
코히어런트 광을 신호 광(signal beam) 및 참조 광(reference beam)으로 분할하는 단계;신호 광의 파면(wavefront)을 제어하는 단계;제어된 파면을 갖는 신호 광과 상기 참조 광이 광 굴절 물질에 입사되어 간섭무늬를 형성하는 단계;상기 간섭무늬를 상기 광 굴절 물질에 기록하는 단계; 상기 참조 광을 상기 간섭무늬가 기록된 광 굴절 물질에 다시 조사시켜, 상기 간섭무늬에 의해 상기 제어된 파면을 갖는 신호 광을 재생하는 단계; 및재생된 상기 신호 광이 복잡매질에 입사함에 함에 따라 상기 복잡매질에 의해 발생하는 다중산란에 기초하여 상기 복잡매질을 투과한 광의 성질을 제어하는 단계를 포함하고,상기 복잡매질은, 매질로 입사되는 광과 매질을 투과하여 출사되는 광의 진폭, 위상, 파장 및 편광을 뒤섞는 매질을 나타내는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 신호 광의 파면을 제어하는 단계는,파면 제어기를 이용하여 상기 광 굴절 물질에 입사되는 신호 광의 위상 및 진폭 중 적어도 하나를 제어하는 단계;위상 및 진폭 중 적어도 하나가 제어된 신호 광을 상기 광 굴절 물질에 입사시키는 단계;상기 광 굴절 물질을 투과한 신호 광을 상기 복잡매질에 입사시키는 단계; 및상기 복잡매질을 투과하여 출사된 광의 정보를 측정하여 파면 최적화를 수행하는 단계를 포함하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 간섭무늬를 형성하는 단계는,파면이 최적화된 상기 신호 광과 상기 참조 광이 상기 광 굴절 물질에 기정의된 기준 세기 이상의 강한 세기로 조사되어 빔 스플리터(beam splitter)를 투과한 후, 상기 광 굴절 물질에서 다시 만나는 신호 광과 참조 광이 지나온 경로 차가 기정의된 간섭길이 이내에 해당하는 경우, 상기 신호 광과 상기 참조 광이 상기 광 굴절 물질에서 서로 간섭을 일으켜 상기 간섭무늬를 형성하는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 4 |
4
제2항에 있어서, 상기 신호 광의 파면의 최적화가 수행되는 동안 상기 광 굴절 물질로 참조 광의 입사가 차단되는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 제어된 파면을 갖는 신호 광을 재생하는 단계는,신호 광이 상기 광 굴절 물질로 입사하는 것을 차단하는 단계; 및상기 간섭무늬가 기록된 광 굴절 물질에 다시 조사된 참조 광이 상기 간섭무늬에 의해 회절 또는 산란됨에 따라 상기 제어된 파면을 갖는 신호 광을 재생하는 단계를 포함하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 참조 광은 SMF(single mode fiber)를 투과한 후 상기 광 굴절 물질에 입사됨에 따라 상기 간섭무늬가 상기 광 굴절 물질에서 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 복잡매질을 투과한 광의 성질을 제어하는 단계는,상기 복잡매질로 입사하는 광의 위상 및 진폭 중 적어도 하나를 제어하여 상기 복잡매질을 투과하여 출사되는 광의 진폭, 위상, 파장 및 편광을 제어하는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서, 상기 간섭무늬를 상기 광 굴절 물질에 기록하는 단계는,상기 간섭무늬가 기록된 광 굴절 물질에 자외선을 조사시켜 UV 큐어(cure)를 수행하는 단계를 포함하는 다중 산란을 이용한 광학 제어 방법
|
| 9 |
9
코히어런트 광이 분할된 신호 광(signal beam)의 파면(wavefront)을 제어하는 파면 제어기;제어된 파면을 갖는 신호 광과 상기 코히어런트 광이 분할된 참조 광이 입사되어 간섭무늬를 형성하고, 형성된 간섭무늬를 기록하는 광 굴절 물질; 상기 간섭무늬가 기록된 광 굴절 물질에 상기 참조 광이 다시 조사됨에 따라 재생된 상기 제어된 파면을 갖는 신호 광을 입사시키는 복잡매질; 및상기 복잡매질에 의해 발생하는 다중산란에 기초하여 상기 복잡매질을 투과한 광의 성질을 제어 및 측정하는 측정부를 포함하고,상기 복잡매질은, 매질로 입사되는 광과 매질을 투과하여 출사되는 광의 진폭, 위상, 파장 및 편광을 뒤섞는 매질을 나타내는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 10 |
10
제9항에 있어서, 상기 파면 제어기는,상기 광 굴절 물질에 입사되는 신호 광의 위상 및 진폭 중 적어도 하나를 변경하고, 위상 및 진폭 중 적어도 하나가 변경된 신호 광을 상기 광 굴절 물질에 입사시키고,상기 측정부는,상기 광 굴절 물질을 투과한 신호 광이 상기 복잡매질을 투과하여 출사된 광의 정보를 측정함으로써, 파면 최적화를 수행하는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 11 |
11
제10항에 있어서, 상기 간섭무늬는,파면이 최적화된 상기 신호 광과 상기 참조 광이 상기 광 굴절 물질에 기정의된 기준 세기 이상의 강한 세기로 조사되어 빔 스플리터(beam splitter)를 투과한 후, 상기 광 굴절 물질에서 다시 만나는 신호 광과 참조 광이 지나온 경로 차가 기정의된 간섭길이 이내에 해당하는 경우, 상기 신호 광과 상기 참조 광이 상기 광 굴절 물질에서 서로 간섭을 일으킴에 따라 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 12 |
12
제9항에 있어서, 상기 코히어런트 광을 방사하는 광원; 및상기 코히어런트 광을 상기 신호 광 및 상기 참조 광으로 분할하는 빔 스플리터(beam splitter)를 더 포함하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 13 |
13
제12항에 있어서, 상기 빔 스플리터는,상기 신호 광의 파면에 대한 최적화가 수행되는 동안 상기 광 굴절 물질로 참조 광이 입사되는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 14 |
14
제9항에 있어서, 상기 광 굴절 물질에 상기 간섭무늬가 기록된 이후 상기 신호 광이 상기 광 굴절 물질로 입사하는 것을 차단하는 셔터를 더 포함하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 15 |
15
제14항에 있어서, 상기 광 굴절 물질은,빔 스플리터로부터 조사된 참조 광이 상기 간섭무늬에 의해 회절 또는 산란됨에 따라 상기 제어된 파면을 갖는 신호 광을 재생시키고,상기 셔터는, 상기 파면 제어기와 상기 광 굴절 물질 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 16 |
16
제9항에 있어서, 빔 스플리터에서 분할된 참조 광을 투과시키는 SMF(single mode fiber)를 더 포함하고,상기 광 굴절 물질은,상기 SMF를 투과한 참조 광을 입사시키는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 17 |
17
제9항에 있어서, 상기 파면 제어기를 통해 상기 복잡매질로 입사하는 광의 위상 및 진폭 중 적어도 하나가 제어됨에 따라, 상기 복잡매질을 투과하여 출사되는 광의 진폭, 위상, 파장 및 편광이 제어되는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 18 |
18
제9항에 있어서, 상기 간섭무늬가 기록된 광 굴절 물질을 대상으로 자외선을 조사시키는 UV 큐어(cure)가 수행되는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 19 |
19
제9항에 있어서, 최적화된 파면을 갖는 신호 광이 상기 복잡매질을 투과함에 따라, 투과된 광은 기정의된 원하는 광학 필드(desired optical field)를 나타내고,최적화되지 않은 파면은 갖는 신호 광이 상기 복잡매질을 투과함에 따라 상기 투과된 광은 시공간적으로 랜덤한 세기 분포를 가지는 스페클 패턴(speckle pattern)을 나타내는 것을 특징으로 하는 다중 산란을 이용한 광학 장치
|
| 20 |
20
파면 최적화를 통해 제어된 파면(wavefront)을 갖는 광에 기초하여 형성된 간섭무늬가 기록되는 광 굴절 물질; 및상기 광 굴절 물질로 조사된 광과 상기 간섭무늬에 기초하여 재생된 상기 제어된 파면을 갖는 광을 입사시키고, 입사된 광을 투과 또는 반사시키는 복잡매질을 포함하고,상기 복잡매질로 입사된 광은 상기 복잡매질에 의해 제어된 다중 산란(multiple light scattering)을 일으키고, 다중 산란된 광의 파면은 기정의된 원하는 형태의 광학적 필드(desired optical field)를 나타내도록 제어되고,상기 복잡매질은, 매질로 입사되는 광과 매질을 투과하여 출사되는 광의 진폭, 위상, 파장 및 편광을 뒤섞는 매질을 나타내는 것을 특징으로 하는 산란 광학 기기(SOE)
|
