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광위상 공액을 이용한 단화소 홀로그래픽 이미징 방법 및 시스템

  • 기술번호 : KST2019024081
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 광위상 공액을 이용한 단화소 홀로그래픽 이미징 방법 및 시스템이 개시된다. 단화소 홀로그래픽 이미징 시스템은 기정의된 파면을 갖는 광을 방사하는 광원, 상기 광원에서 방사된 광을 입사받아 회절시키는 시편, 상기 시편에 의해 회절된 광의 파면을 상기 기정의된 파면으로 변환하는 파면 제어기, 및 상기 파면 제어기로부터 파면이 제어된 광을 입력받아 홀로그래픽 이미징을 구현하는 단화소 광 검출기(bucket detector)를 포함할 수 있다.
Int. CL G03H 1/08 (2006.01.01) G03H 1/22 (2006.01.01) G02B 26/06 (2006.01.01)
CPC G03H 1/0866(2013.01) G03H 1/0866(2013.01) G03H 1/0866(2013.01) G03H 1/0866(2013.01)
출원번호/일자 1020160138955 (2016.10.25)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1832068-0000 (2018.02.19)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180223) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.10.25)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박용근 대한민국 대전광역시 유성구
2 신승우 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.10.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-1035467-96
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.06.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.08.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0115691-97
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.08.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0559419-18
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.10.11 수리 (Accepted) 1-1-2017-0978636-23
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.10.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0978637-79
7 등록결정서
Decision to grant
2018.01.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0067447-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기정의된 파면을 갖는 광을 방사하는 광원;상기 광원에서 방사된 광을 입사받아 회절시키는 시편;상기 시편에 의해 회절된 광의 파면을 상기 기정의된 파면으로 변환하는 파면 제어기; 및상기 파면 제어기로부터 파면이 제어된 광을 입력받아 홀로그래픽 이미징을 구현하는 단화소 광 검출기(bucket detector)를 포함하고,상기 단화소 광 검출기는,파면 제어기의 공간적 마스크 패턴(spatial mask pattern)을 통과한 광의 파면에 해당하는 세기에 기초하여 상기 통과한 광의 파면에 해당하는 2차원 세기 분포를 재구성하는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 시스템
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 파면 제어기의 공간적 마스크 패턴은 복수회 위상 지연(global phase shift)되고,상기 단화소 광 검출기는,상기 복수회 위상 지연된 공간적 마스크 패턴을 각각 통과한 광의 파면에 해당하는 세기에 기초하여 상기 복수회 위상 지연에 따른 세기 변화를 측정하는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 시스템
4 4
제1항에 있어서, 상기 단화소 광 검출기는,2차원 평면 상의 각 픽셀들을 대상으로, 래스터 스캐닝(raster scanning) 또는 하다마르 베이시스(Hadamard basis)에 기초하여 2차원 평면을 나타내는 벡터들을 스캐닝함에 따라 상기 파면 제어기의 공간적 마스크 패턴(spatial mask pattern)을 통과한 광의 파면에 해당하는 세기를 측정하는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 시스템
5 5
제1항에 있어서, 상기 파면 제어기의 공간적 마스크 패턴은, 위상 지연된 공간적 마스크 패턴과 기정의된 기준 파면을 포함하는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 시스템
6 6
제1항에 있어서, 상기 광원은,평면파 또는 구면파의 광을 상기 시편으로 조사하고,상기 파면 제어기는,상기 회절된 광의 파면을 상기 평면파 또는 구면파로 변환하는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 시스템
7 7
기정의된 파면을 갖는 광을 시편에 입사시키는 단계;상기 시편에 입사된 광이 상기 시편에 의해 회절되는 단계; 회절된 광의 파면이 상기 기정의된 파면이 되도록 상기 회절된 광의 파면을 제어하는 단계; 및상기 파면이 제어된 광에 해당하는 광량을 측정하여 홀로그래픽 이미징을 구현하는 단계를 포함하고,상기 광량을 측정하여 홀로그래픽 이미징을 구현하는 단계는,파면 제어기의 공간적 마스크 패턴(spatial mask pattern)을 통과한 광의 파면에 해당하는 세기에 기초하여 상기 통과한 광의 파면에 해당하는 2차원 세기 분포를 재구성하는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 방법
8 8
삭제
9 9
제7항에 있어서, 상기 시편에 의해 회절된 광은, 파면 제어기의 공간적 마스크 패턴을 통과하고,상기 파면 제어기의 공간적 마스크 패턴은 복수회 위상 지연(global phase shift)되는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 광량을 측정하여 홀로그래픽 이미징을 구현하는 단계는,상기 복수회 위상 지연된 공간적 마스크 패턴을 각각 통과한 광의 파면에 해당하는 세기에 기초하여 상기 복수회 위상 지연에 따른 세기 변화를 측정하는 단계를 포함하는 단화소 홀로그래픽 이미징 방법
11 11
제7항에 있어서, 상기 광량을 측정하여 홀로그래픽 이미징을 구현하는 단계는,2차원 평면 상의 각 픽셀들을 대상으로, 래스터 스캐닝(raster scanning) 또는 하다마르 베이시스(Hadamard basis)에 기초하여 2차원 평면을 나타내는 벡터들을 스캐닝함에 따라 상기 파면 제어기의 공간적 마스크 패턴(spatial mask pattern)을 통과한 광의 파면에 해당하는 세기를 측정하는 단계를 포함하는 단화소 홀로그래픽 이미징 방법
12 12
제7항에 있어서, 상기 파면 제어기의 공간적 마스크 패턴은, 위상 지연된 공간적 마스크 패턴과 기정의된 기준 파면을 포함하는 것을 특징으로 하는 단화소 홀로그래픽 이미징 방법
13 13
제7항에 있어서, 상기 시편에 입사되는 광은, 평면파 또는 구면파의 광을 포함하고,상기 회절된 광의 파면을 제어하는 단계는,상기 시편에 의해 회절된 광의 파면을 상기 평면파 또는 구면파로 변환하는 단계를 포함하는 단화소 홀로그래픽 이미징 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술원 이공분야기초연구사업 시간 역행 반사 연구단(1단계1차년도)
2 미래창조과학부 한국과학기술원 원천기술개발사업 능동형 위상제어 광원 및 렌즈 원천기술 개발(2016)