| 1 |
1
베이스 기판을 연속적으로 공급 및 회수하는 공급부 및 회수부; 상기 베이스 기판을 고정한 상태에서, 상기 베이스 기판을 길이를 5% 이상 신장시켜 신장 영역을 형성하고, 상기 베이스 기판이 연속적으로 이동됨에 따라 상기 베이스 기판을 신장시킨 상태에서 이송되는 기판 신장유닛;상기 신장 영역 상에, 전도성 잉크를 도포하는 인쇄유닛; 상기 신장 영역 상에, 광을 제공하여 상기 도포된 전도성 잉크를 소결하여 전극 패턴을 형성하는 소결유닛; 및상기 신장 영역 상에, 소결되지 않은 전도성 잉크를 상기 베이스 기판으로부터 제거하는 세정유닛을 포함하며, 상기 베이스 기판에 전극 패턴만 잔류한 경우, 상기 기판 신장유닛은 상기 베이스 기판을 원래 크기로 복원시키고, 상기 기판 신장유닛은, 상기 베이스 기판의 신장 전에, 상기 베이스 기판을 상면에 위치시켜 지지하며 상기 베이스 기판 방향으로 이송되고, 상기 베이스 기판의 복원 후에, 상기 베이스 기판으로부터 탈거되는 스테이지부; 및 상기 베이스 기판의 모서리를 고정하여 신장시키는 복수의 신장부들을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 베이스 기판은 유연성 기판인 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
제2항에 있어서, 상기 인쇄유닛, 상기 소결유닛 및 상기 세정유닛이 상기 베이스 기판으로 이동하여 각각의 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
|
| 5 |
5
제2항에 있어서, 상기 기판 신장유닛은, 상기 베이스 기판의 이송과 평행한 방향 또는 상기 베이스 기판의 이송과 수직인 방향으로 상기 베이스 기판을 신장시키는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
|
| 6 |
6
삭제
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 소결유닛은 상기 베이스 기판의 신장 영역에 면광원을 제공하며,상기 제공되는 면광원은 IPL(intense pulsed light)인 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성시스템
|
| 8 |
8
베이스 기판이 연속 공정으로 연속적으로 공급 및 회수되며, 기판 신장유닛이 상기 베이스 기판을 고정한 상태에서, 상기 베이스 기판을 길이를 5% 이상 신장시켜 신장 영역을 형성하고, 상기 베이스 기판이 연속적으로 이동됨에 따라 상기 베이스 기판을 신장시킨 상태에서 이송되는 단계;상기 신장 영역 상에 전도성 잉크를 도포하는 단계;상기 신장 영역 상에, 광을 제공하여 상기 도포된 전도성 잉크를 소결하여 전극 패턴을 형성하는 단계;상기 신장 영역 상에, 소결되지 않은 전도성 잉크를 상기 베이스 기판으로부터 제거하는 단계; 및상기 기판 신장유닛이 상기 고정된 베이스 기판을 원래 크기로 복원시키는 단계를 포함하고, 상기 기판 신장유닛은, 상기 베이스 기판의 신정 전에 상기 베이스 기판을 상면에 위치시켜 지지하도록 상기 베이스 기판 방향으로 이송되며, 상기 베이스 기판의 복원 후에 상기 베이스 기판으로부터 탈거되고, 복수의 신장부들을 통해 상기 베이스 기판의 모서리를 고정하여 신장시키는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성방법
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
제8항에 있어서, 상기 기판 신장유닛은, 상기 전도성 잉크를 도포하는 단계, 상기 전극 패턴을 형성하는 단계 및 상기 전도성 잉크를 제거하는 단계에서, 상기 베이스 기판을 고정하여 신장시킨 상태로 상기 베이스 기판과 함께 이송되는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성방법
|
| 11 |
11
삭제
|
| 12 |
12
제8항에 있어서, 상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 베이스 기판 상에 도포된 전도성 잉크를 건조한 후, 상기 건조된 전도성 잉크의 상면에 마스크를 배치하고, 상기 마스크의 상부로부터 광을 제공하는 것을 특징으로 하는 전극 패턴 형성방법
|
