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소스 가스, 퍼지 가스 및 반응 가스를 포함하는 원자층 증착 가스를 동시에 증착 대상 기판의 다른 영역에 분사하는 가스 공급 모듈; 및상기 가스 공급 모듈의 일 측에 마련되며, 상기 증착 대상 기판을 직선으로 이송시키는 스테이지;를 포함하되,상기 스테이지를 따라 상기 증착 대상 기판이 상기 직선을 따라 1 싸이클(cycle) 이송됨에 따라 2층 이상의 원자층이 상기 증착 대상 기판에 증착되되,상기 스테이지는, 제1 방향으로 직선 연장하는 제1 및 제3 로드 및 제2 방향으로 직선 연장하는 제2 및 제4 로드를 포함하며, 상기 제1 내지 제4 로드들은 폐 경로(closed path)를 이루며,상기 가스 공급 모듈은, 상기 증착 대상 기판의 직선 이송 경로를 따라, 제1 외측 퍼지 가스 공급부, 제1 반응 가스 공급부, 제1 퍼지 가스 공급부, 소스 가스 공급부, 제2 퍼지 가스 공급부 및 제2 반응 가스 공급부 및 제2 외측 퍼지 가스 공급부를 포함하고, 상기 가스 공급 모듈은, 상기 제1 반응 가스 공급부, 상기 소스 가스 공급부 및 상기 제2 반응 가스 공급부의 양 측으로 가스를 배기하는 배기구를 더 포함하고,상기 소스 가스 공급부는 상기 제1 반응 가스 공급부와 상기 제2 반응 가스 공급부 사이에 위치하며,상기 증착 대상 기판은 상기 로드들 중 일 로드를 이동하며, 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 순차적으로 제공받은 후, 상기 로드들 중 타 로드를 이동하며, 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 재차 반응 가스를 제공받고, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 다시 제공받는 원자층 증착 장비
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제1 항에 있어서,상기 배기구는 상기 배기구에서, 상기 증착 대상 기판으로 향하는 방향과 반대 방향으로 가스를 배기하는 원자층 증착 장비
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제1 항에 있어서,상기 가스 공급 모듈은, 서브 가스 공급 모듈들로 구성되며, 상기 서브 가스 공급 모듈은, 일정 각도로 환형으로 배치되는, 원자층 증착 장비
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제1 항에 있어서,상기 가스 공급 모듈은, 서로 다른 소스 가스를 제공하는 서브 가스 모듈들로 구성되며, 상기 증착 대상 기판이 스테이지를 따라 이송됨에 따라 상기 증착 대상 기판에는 이종의 박막들이 형성되는 원자층 증착 장비
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폐 경로로 이루어진 스테이지 상에서, 증착 대상 기판을 직선으로 이송시켜, 상기 증착 대상 기판에 원자층 증착 가스를 공급하는 가스 공급 모듈을 통하여 제1 원자층을 증착하는 단계; 및상기 증착 대상 기판을 추가 이송시켜, 상기 증착 대상 기판에 상기 가스 공급 모듈을 통하여 제2 원자층을 증착하는 단계;를 포함하며,상기 증착 대상 기판이 상기 폐 경로를 따라, 1 싸이클 이송되는 경우, 상기 증착 대상 기판에 2층 이상의 원자층이 증착되되,상기 가스 공급 모듈은, 상기 증착 대상 기판의 직선 이송 경로를 따라, 제1 외측 퍼지 가스 공급부, 제1 반응 가스 공급부, 제1 퍼지 가스 공급부, 소스 가스 공급부, 제2 퍼지 가스 공급부 및 제2 반응 가스 공급부 및 제2 외측 퍼지 가스 공급부를 포함하고, 상기 가스 공급 모듈은, 상기 제1 반응 가스 공급부, 상기 소스 가스 공급부 및 상기 제2 반응 가스 공급부의 양 측으로 가스를 배기하는 배기구를 더 포함하고,상기 소스 가스 공급부는 상기 제1 반응 가스 공급부와 상기 제2 반응 가스 공급부 사이에 위치하고, 상기 증착 대상 기판은 상기 폐 경로의 일 측을 이동하며, 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 순차적으로 제공받은 후, 상기 폐 경로의 타 측을 이동하며, 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 재차 반응 가스를 제공받고, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 다시 제공받는 원자층 증착 방법
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