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원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법

  • 기술번호 : KST2019030944
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 원자층 증착 장비가 제공된다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 원자층 증착 장비는, 소스 가스, 퍼지 가스 및 반응 가스를 포함하는 원자층 증착 가스를 동시에 증착 대상 기판의 다른 영역에 분사하는 가스 공급 모듈 및 상기 가스 공급 모듈의 일 측에 마련되며, 상기 증착 대상 기판을 직선으로 이송시키는 스테이지를 포함하되, 상기 스테이지를 따라 상기 증착 대상 기판이 상기 직선으로 1 싸이클(cycle) 이송됨에 따라 2층 이상의 원자층이 상기 증착 대상 기판에 증착될 수 있다.
Int. CL C23C 16/455 (2006.01.01) C23C 16/44 (2006.01.01) C23C 16/54 (2006.01.01)
CPC C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01)
출원번호/일자 1020160108985 (2016.08.26)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1861008-0000 (2018.05.17)
공개번호/일자 10-2018-0024088 (2018.03.08) 문서열기
공고번호/일자 (20180525) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.08.26)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전형탁 대한민국 서울 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2016-0831534-83
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.05.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.06.12 수리 (Accepted) 9-1-2017-0018158-14
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0737025-53
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.12.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1290573-21
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2017-1290574-77
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.03.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0159613-22
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.04.06 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0344636-10
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-0344612-25
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2018.05.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0303630-99
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
소스 가스, 퍼지 가스 및 반응 가스를 포함하는 원자층 증착 가스를 동시에 증착 대상 기판의 다른 영역에 분사하는 가스 공급 모듈; 및상기 가스 공급 모듈의 일 측에 마련되며, 상기 증착 대상 기판을 직선으로 이송시키는 스테이지;를 포함하되,상기 스테이지를 따라 상기 증착 대상 기판이 상기 직선을 따라 1 싸이클(cycle) 이송됨에 따라 2층 이상의 원자층이 상기 증착 대상 기판에 증착되되,상기 스테이지는, 제1 방향으로 직선 연장하는 제1 및 제3 로드 및 제2 방향으로 직선 연장하는 제2 및 제4 로드를 포함하며, 상기 제1 내지 제4 로드들은 폐 경로(closed path)를 이루며,상기 가스 공급 모듈은, 상기 증착 대상 기판의 직선 이송 경로를 따라, 제1 외측 퍼지 가스 공급부, 제1 반응 가스 공급부, 제1 퍼지 가스 공급부, 소스 가스 공급부, 제2 퍼지 가스 공급부 및 제2 반응 가스 공급부 및 제2 외측 퍼지 가스 공급부를 포함하고, 상기 가스 공급 모듈은, 상기 제1 반응 가스 공급부, 상기 소스 가스 공급부 및 상기 제2 반응 가스 공급부의 양 측으로 가스를 배기하는 배기구를 더 포함하고,상기 소스 가스 공급부는 상기 제1 반응 가스 공급부와 상기 제2 반응 가스 공급부 사이에 위치하며,상기 증착 대상 기판은 상기 로드들 중 일 로드를 이동하며, 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 순차적으로 제공받은 후, 상기 로드들 중 타 로드를 이동하며, 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 재차 반응 가스를 제공받고, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 다시 제공받는 원자층 증착 장비
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삭제
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4 4
제1 항에 있어서,상기 배기구는 상기 배기구에서, 상기 증착 대상 기판으로 향하는 방향과 반대 방향으로 가스를 배기하는 원자층 증착 장비
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제1 항에 있어서,상기 가스 공급 모듈은, 서브 가스 공급 모듈들로 구성되며, 상기 서브 가스 공급 모듈은, 일정 각도로 환형으로 배치되는, 원자층 증착 장비
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제1 항에 있어서,상기 가스 공급 모듈은, 서로 다른 소스 가스를 제공하는 서브 가스 모듈들로 구성되며, 상기 증착 대상 기판이 스테이지를 따라 이송됨에 따라 상기 증착 대상 기판에는 이종의 박막들이 형성되는 원자층 증착 장비
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폐 경로로 이루어진 스테이지 상에서, 증착 대상 기판을 직선으로 이송시켜, 상기 증착 대상 기판에 원자층 증착 가스를 공급하는 가스 공급 모듈을 통하여 제1 원자층을 증착하는 단계; 및상기 증착 대상 기판을 추가 이송시켜, 상기 증착 대상 기판에 상기 가스 공급 모듈을 통하여 제2 원자층을 증착하는 단계;를 포함하며,상기 증착 대상 기판이 상기 폐 경로를 따라, 1 싸이클 이송되는 경우, 상기 증착 대상 기판에 2층 이상의 원자층이 증착되되,상기 가스 공급 모듈은, 상기 증착 대상 기판의 직선 이송 경로를 따라, 제1 외측 퍼지 가스 공급부, 제1 반응 가스 공급부, 제1 퍼지 가스 공급부, 소스 가스 공급부, 제2 퍼지 가스 공급부 및 제2 반응 가스 공급부 및 제2 외측 퍼지 가스 공급부를 포함하고, 상기 가스 공급 모듈은, 상기 제1 반응 가스 공급부, 상기 소스 가스 공급부 및 상기 제2 반응 가스 공급부의 양 측으로 가스를 배기하는 배기구를 더 포함하고,상기 소스 가스 공급부는 상기 제1 반응 가스 공급부와 상기 제2 반응 가스 공급부 사이에 위치하고, 상기 증착 대상 기판은 상기 폐 경로의 일 측을 이동하며, 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 순차적으로 제공받은 후, 상기 폐 경로의 타 측을 이동하며, 상기 제2 반응 가스 공급부로부터 재차 반응 가스를 제공받고, 상기 소스 가스 공급부로부터 소스 가스 및 상기 제1 반응 가스 공급부로부터 반응 가스를 다시 제공받는 원자층 증착 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN109642317 CN 중국 FAMILY
2 US20190186013 US 미국 FAMILY
3 WO2018038547 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN109642317 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 US2019186013 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2018038547 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 (재)한국연구재단 이공분야 기초연구사업 / 중견연구자지원사업 / 도약연구(전략-연구분야지정) 주석 황화물 기반 광에너지 수확 기술 개발