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금속원료의 표면 산화물을 제거하여 용융로에 공급하기 위한 장치로서,상기 금속원료가 투입 및 배출되는 원료 투하실과, 플라즈마 식각 처리를 수행하는 원료 식각실이 마련된 하우징; 및상기 하우징 내에서 상기 원료 투하실과 상기 원료 식각실 사이를 왕복 이동할 수 있게 설치되는 전처리 케이싱;을 포함하고,상기 전처리 케이싱은 상기 원료 투하실에서 상기 금속원료를 공급받아 저장하고, 상기 원료 식각실로 이동하여 저장된 상기 금속원료의 표면 산화층을 플라즈마 식각 처리한 후 상기 원료 투하실로 복귀하여 식각된 상기 금속원료를 상기 용융로에 투하시키는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 전처리 케이싱은 회전할 수 있게 설치되며, 상기 원료 식각실에 위치되어 플라즈마 식각 공정이 진행될 때 상기 금속원료의 교반을 위해 회전되는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 전처리 케이싱의 외면에는 상기 전처리 케이싱 내외로 플라즈마의 이동을 위한 복수의 출입공이 마련되는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 전처리 케이싱 외면에는 상기 금속원료의 투입 및 배출을 위한 출입구와, 상기 출입구를 선택적으로 개폐하는 개폐커버가 마련되는 원료 공급장치
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제4항에 있어서,상기 개폐커버는 상기 전처리 케이싱의 외주를 따라 회전할 수 있게 설치되되, 상기 전처리 케이싱에 결합된 탄성로드의 가압력에 의해 상기 개폐커버는 상기 출입구를 닫는 위치에 유지되고, 상기 개폐커버와 선택적으로 접촉할 수 있게 설치된 클램프의 가압력에 의해 상기 출입구를 개방하는 위치에 유지되는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 하우징에는 상기 원료 식각실을 가열하여 상기 전처리 케이싱 내부에 채워진 상기 금속원료를 예열하기 위한 히터가 마련되는 원료 공급장치
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제2항에 있어서,상기 전처리 케이싱 내벽에는 회전 시 저장된 금속원료를 일정한 위치까지 상승시키기 위한 리프트가 마련되는 원료 공급장치
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제4항에 있어서,상기 출입구와 인접한 상기 전처리 케이싱 내에는 상기 전처리 케이싱 내에서 일측으로 편향된 금속원료가 상기 출입구를 통해 원활히 배출되도록 유도하기 위한 경사안내면이 마련되는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 원료 투하실의 상부에는 상기 금속원료를 공급하는 원료 공급부와 연결되는 투입구가 마련되고, 상기 원료 투하실의 하부에는 상기 용융로와 연결되는 배출구가 마련되는 원료 공급장치
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제9항에 있어서,상기 원료 공급부는 상기 금속원료가 저장되는 저장호퍼와, 상기 저장호퍼로부터 상기 금속원료를 제공받아 평량하여 상기 투입구에 공급하는 평량호퍼를 포함하는 원료 공급장치
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제9항에 있어서,상기 원료 투하실과 상기 용융로 사이에는 상기 배출구로부터 배출되는 식각된 금속원료를 진공상태로 일시 저장하여 상기 용융로에 제공하기 위한 버퍼호퍼가 마련되는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 하우징의 일측에는 상기 원료 식각실을 개폐할 수 있는 도어가 설치되고, 상기 도어에는 상기 원료 식각실 내부를 육안으로 확인할 수 있는 투명창이 마련되는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 전처리 케이싱은 상기 하우징의 일측을 관통하여 연장되는 지지축과 연결되고, 상기 지지축은 구동모터와 축 연결되어 회전력을 전달받아 회전되면서 상기 하우징 외측에 마련된 엑츄에이터와 연계되어 왕복 이동하는 원료 공급장치
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제1항에 있어서,상기 하우징의 일측은 상기 전처리 케이싱이 상기 원료 식각실에 위치될 때 상기 원료 식각실의 진공 분위기 형성을 위한 진공발생부 및 상기 원료 식각실에 반응가스를 제공하기 위한 가스공급부가 연결되는 원료 공급장치
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용융로에 금속원료를 공급하는 방법에 있어서,저장호퍼에 저장된 금속원료를 평량호퍼로 제공하고,상기 평량호퍼에서 평량된 금속원료를 하우징 내의 챔버에 배치된 전처리 케이싱에 투입하고,상기 챔버에 진공 형성 및 반응가스를 주입하여 플라즈마 식각 공정을 수행하여 금속원료 표면 산화물을 제거하고,상기 전처리 케이싱에서 산화물이 제거된 금속원료를 용융로에 공급하고,상기 챔버 내에서 구분된 원료 투하실과 원료 식각실 사이를 이동하는 상기 전처리 케이싱을 이용하여 금속원료의 투입 및 배출과, 금속원료의 식각 공정을 수행하는 것을 포함하는 원료 공급방법
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제15항에 있어서,상기 플라즈마 식각 공정을 수행하는 동안 상기 전처리 케이싱을 회전시키는 것을 더 포함하는 원료 공급방법
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제15항에 있어서,상기 플라즈마 식각 공정을 수행하는 것은, 상기 원료 식각실을 가열하여 상기 전처리 케이싱에 저장된 금속원료의 예열을 수행하는 것을 더 포함하는 원료 공급방법
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제15항에 있어서,상기 산화물이 제거된 금속원료를 용융로에 공급하는 것은, 상기 용융로와 동일한 분위기 내에서 공급하는 원료 공급방법
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