1 |
1
변조된 레이저 광을 출력하는 광원부;상기 레이저 광을 반사하고 서로 직교하는 양축의 구동 전압이 각각 정현파로 입력되어 리사쥬 스캐닝을 실행하는 멤스 미러;사용자가 원하는 구조광의 패턴 개수, 패턴 모양 및 시야의 정보를 입력할 수 있는 정보입력부; 상기 정보에 기초하여 설정된, 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수, 초기 위상 및 진폭에 대한 값이 기저장되어 있는 메모리부; 및상기 정보에 상응하는 구조광을 생성하기 위해 상기 정보를 수신하고 상기 메모리부와 통신하여 상기 멤스 미러의 제어 신호 및 상기 광원부의 변조 신호를 생성하여 송신하는 제어부를 포함하며,상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수는, 상기 패턴 개수와 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최대 공약수가 음의 상관관계를 갖도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 제어부는,상기 정보입력부를 통해 입력되는 구조광의 패턴 개수, 패턴 모양 및 시야에 대한 정보를 수신하는 정보수신부;상기 정보에 상응하는 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수, 초기 위상 및 진폭에 대한 값을 상기 메모리부와 통신하여 추출하고, 상기 추출된 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최소공배수를 상기 광원부의 레이저 변조 주파수로 계산하고, 상기 추출된 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수, 초기 위상 및 진폭에 대한 값으로 형성되는 정현파의 제어 신호 및 상기 계산된 광원부의 레이저 변조 주파수로 형성되는 구형파의 변조 신호를 생성하는 신호생성부; 및상기 제어 신호를 상기 멤스 미러에 송신하고 상기 변조 신호를 상기 광원부에 송신하는 신호송신부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 멤스 미러는 서로 직교하는 양축을 기준으로 회전 진동하고 제1축의 회전 진동에 대한 품질인자(Q-factor)가 제2축의 회전 진동에 대한 품질인자보다 더 낮게 설계되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 구조광의 패턴 모양은 일정하지 않는 임의의 모양을 갖고 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동주파수 및 초기 위상에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
6 |
6
제1항에 있어서,상기 구조광의 시야는, 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 진폭과 양의 상관관계를 갖고 상기 진폭에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 광원부에서 출력되는 레이저 광이 ON/OFF 방식의 구형파에 의해 변조되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
8 |
8
제1항에 있어서,상기 변조 신호의 주파수는 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최소공배수의 배수인 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
9 |
9
제1항에 있어서,상기 광원부는 레이저 광을 변조시키기 위해 상기 멤스 미러로 향하는 레이저의 일측에 광변조 소자를 더 포함하고, 상기 광변조 소자에 ON/OFF 방식의 구형파인 변조 신호가 가해지고, 상기 구형파의 변조 주파수는 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최소공배수 또는 상기 최소공배수의 배수인 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 장치
|
10 |
10
가변 구조광 생성 장치를 이용하여 가변 구조광을 생성하는 방법으로서,사용자로부터 구조광의 패턴 개수, 패턴 모양 및 시야의 정보를 입력받는 단계;상기 정보에 기초하여 설정된 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수, 초기 위상 및 진폭에 대한 값을 메모리부와 통신하여 추출하고, 상기 추출된 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최소공배수를 광원부의 레이저 변조 주파수로 계산하고, 상기 추출된 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수, 초기 위상 및 진폭에 대한 값으로 형성되는 정현파의 제어 신호 및 상기 계산된 광원부의 레이저 변조 주파수로 형성되는 구형파의 변조 신호를 생성하는 단계; 및상기 제어 신호를 상기 멤스 미러에 송신하고 상기 변조 신호를 상기 광원부에 송신하여 변조된 레이저 광이 리사쥬 스캐닝을 실행하는 상기 멤스 미러에 의해 반사되어 구조광을 생성하는 단계를 포함하며,상기 메모리부에는, 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최대공약수가 상기 패턴 개수와 음의 상관관계를 갖도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 방법
|
11 |
11
제10항에 있어서,상기 멤스 미러는 서로 직교하는 양축을 기준으로 회전 진동하고 제1축의 회전 진동에 대한 품질인자가 제2축의 회전 진동에 대한 품질인자보다 더 낮게 설계되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 방법
|
12 |
12
삭제
|
13 |
13
제10항에 있어서,상기 구조광의 패턴 모양은 일정하지 않는 임의의 모양을 갖고 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동주파수 및 초기 위상에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 방법
|
14 |
14
제10항에 있어서,상기 구조광의 시야는, 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 진폭과 양의 상관관계를 갖고 상기 진폭에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 방법
|
15 |
15
제10항에 있어서,상기 광원부에서 출력되는 레이저 광이 ON/OFF 방식의 구형파에 의해 변조되는 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 방법
|
16 |
16
제10항에 있어서,상기 변조 신호의 주파수는 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최소공배수의 배수인 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 방법
|
17 |
17
제15항에 있어서,상기 광원부는 레이저 광을 변조시키기 위해 상기 멤스 미러로 향하는 레이저의 일측에 광변조 소자를 더 포함하고, 상기 광변조 소자에 ON/OFF 방식의 구형파인 변조 신호가 가해지고, 상기 구형파의 변조 주파수는 상기 멤스 미러의 양축 구동 전압의 구동 주파수의 최소공배수 또는 상기 최소공배수의 배수인 것을 특징으로 하는 가변 구조광 생성 방법
|