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EUV 리소그래피용 펠리클 제조 방법 및 그 제조 장치

  • 기술번호 : KST2020002914
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 펠리클의 제조 방법이 제공된다. 상기 펠리클의 제조 방법은, 예비 펠리클 구조체를 준비하는 단계, 상기 예비 펠리클 구조체를 식각 용액 내에 제공하여, 상기 예비 펠리클 구조체를 식각하는 단계, 및 식각된 상기 예비 펠리클 구조체를 상기 식각 용액으로부터 꺼내는 동시에 식각된 상기 예비 펠리클 구조체를 열처리 건조하는 단계를 포함할 수 있다.
Int. CL G03F 1/62 (2012.01.01) G03F 1/80 (2012.01.01) G03F 7/00 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020190105407 (2019.08.27)
출원인 한양대학교 에리카산학협력단, 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0024117 (2020.03.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020180100594   |   2018.08.27
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.08.27)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구
2 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박진구 경기도 안산시 상록구
2 김현태 경기도 안산시 상록구
3 오혜근 서울특별시 영등포구
4 안진호 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2019-0882475-75
2 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2019-0890551-80
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0574676-14
4 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2020.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2020-1122902-03
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-1263878-12
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.11.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-1263879-57
7 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2020.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2020-1342644-11
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
예비 펠리클 구조체를 준비하는 단계;상기 예비 펠리클 구조체를 식각 용액 내에 제공하여, 상기 예비 펠리클 구조체를 식각하는 단계; 및식각된 상기 예비 펠리클 구조체를 상기 식각 용액으로부터 꺼내는 동시에 식각된 상기 예비 펠리클 구조체를 열처리 건조하는 단계를 포함하는 펠리클의 제조 방법
2 2
제1 항에 있어서, 상기 식각 용액은, 제1 온도의 제1 영역; 및상기 제1 온도보다 높은 제2 온도의 제2 영역을 포함하고, 상기 예비 펠리클 구조체를 식각하는 단계는, 상기 예비 펠리클 구조체를 상기 제1 영역에서 1차 식각하는 단계; 및상기 1차 식각된 상기 예비 펠리클 구조체를 상기 제2 영역에서 2차 식각하는 단계를 포함하는 펠리클의 제조 방법
3 3
제2 항에 있어서, 상기 예비 펠리클 구조체는 제1 시간 동안 상기 1차 식각되고, 상기 제1 시간보다 짧은 제2 시간동안 상기 2차 식각되는 것을 포함하는 펠리클의 제조 방법
4 4
제2 항에 있어서, 상기 제1 영역은, 상기 제2 영역 아래에 제공되는 것을 포함하는 펠리클의 제조 방법
5 5
제2 항에 있어서, 상기 제2 영역에서 상기 2차 식각된 상기 예비 펠리클 구조체가, 상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 사이를 왕복 이동하여, 식각된 상기 예비 펠리클 구조체 상의 식각 잔여물을 제거하는 단계를 더 포함하는 펠리클의 제조 방법
6 6
제2 항에 있어서, 상기 식각 용액은, 상기 제1 온도보다 낮은 제3 영역을 포함하고, 상기 2차 식각된 상기 예비 펠리클 구조체는 상기 제3 영역으로 이동하여, 3차 식각되는 것을 포함하는 펠리클의 제조 방법
7 7
제6 항에 있어서, 상기 제3 영역은 상기 제2 영역 상에 제공되는 것을 포함하고, 상기 예비 펠리클 구조체는, 상기 제3 영역에서 상기 3차 식각된 직후, 열처리 건조되는 것을 포함하는 펠리클의 제조 방법
8 8
제6 항에 있어서, 상기 제1 영역 내지 상기 제3 영역 사이에, 온도 차이에 의한, 상기 식각 용액의 대류 현상이 발생하는 것을 포함하는 펠리클의 제조 방법
9 9
제1 항에 있어서, 상기 식각 용액은 식각 용기 내에 제공되고, 상기 식각 용기의 입구에 배치된 외부 열원부를 이용하여 식각된 상기 예비 펠리클 구조체가 열처리 건조되는 것을 포함하는 펠리클의 제조 방법
10 10
예비 펠리클 구조체를 식각하는 식각 용액이 제공되는 식각 용기;상기 식각 용액 내에 제공되어, 상기 식각 용액의 온도를 제어하는 내부 열원부; 및상기 식각 용기의 입구에 배치되어, 식각된 상기 예비 펠리클 구조체가 상기 식각 용액으로부터 꺼내지는 동시에 식각된 상기 예비 펠리클 구조체를 열처리 건조하는 외부 열원부를 포함하는 펠리클 제조 장치
11 11
제10 항에 있어서, 상기 내부 열원부는, 상기 식각 용기의 하단에 제공되고, 제1 온도의 상기 식각 용액을 갖는 제1 영역을 생성하는 제1 내부 열원부; 및상기 제1 내부 열원부 상에 제공되고, 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도의 상기 식각 용액을 갖는 제2 영역을 생성하는 제2 내부 열원부를 포함하는 펠리클 제조 장치
12 12
제11 항에 있어서, 상기 내부 열원부는, 상기 제2 내부 열원부 상에 제공되고, 상기 제1 온도보다 낮은 제3 온도의 상기 식각 용액을 갖는 제3 영역을 생성하는 제3 내부 열원부를 더 포함하는 펠리클 제조 장치
13 13
제10 항에 있어서, 상기 예비 펠리클 구조체와 체결되고, 상기 예비 펠리클 구조체를 상기 식각 용액 내에서 이동시키는 승강 모듈을 더 포함하는 펠리클 제조 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 (사)한국반도체연구조합 산업기술혁신사업 / 산업핵심기술개발사업 / 전자정보디바이스산업원천기술개발사업(RCMS) 1x nm급 Defect Free EUVL을 위한 마스크 세정 공정 및 펠리클 개발