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Ti 포일의 표면에 ITO 중간층을 형성하는 중간층 형성 단계; 및상기 Ti 포일의 표면에 형성된 ITO 중간층이 스커테루다이트 열전소재 측을 향하도록 Ti 포일을 스커테루다이트 열전소재의 표면에 접합하여 Ti 메탈라이징층을 형성하는 접합 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스커테루다이트 열전소재용 Ti 메탈라이징층의 형성 방법
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청구항 1에 있어서,상기 접합 단계가, 스커테루다이트 열전소재의 분말을 소결하는 과정에서 ITO 중간층이 형성된 Ti 포일을 함께 장입하여, 스커테루다이트 열전소재 분말을 소결하는 것과 동시에 표면에 Ti 메탈라이징층이 형성되는 소결 단계에 의해서 수행되는 것을 특징으로 하는 스커테루다이트 열전소재용 Ti 메탈라이징층의 형성 방법
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청구항 1에 있어서,상기 ITO 중간층의 두께가 500nm~1
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청구항 1에 있어서,상기 중간층 형성 단계가 스퍼터링에 의해서 수행되는 것을 특징으로 하는 스커테루다이트 열전소재용 Ti 메탈라이징층의 형성 방법
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청구항 2에 있어서,상기 소결 단계가 600~700℃ 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 Ti 메탈라이징층의 형성 방법
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스커테루다이트 열전소재의 표면에 형성되는 메탈라이징 구조로서,스커테루다이트 열전소재에 접하는 ITO 중간층; 및상기 ITO 중간층에 의해서 스커테루다이트 열전소재와 이격된 Ti 메탈라이징층을 포함하는 것을 특징으로 하는 스커테루다이트 열전소재용 Ti 메탈라이징 구조
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청구항 6에 있어서,상기 ITO 중간층의 두께가 500nm~1
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스커테루다이트 분말을 소결하여 스커테루다이트 열전소재를 제조하는 방법에 있어서,Ti 포일의 표면에 ITO 중간층을 형성하는 중간층 형성 단계; 및스커테루다이트 열전소재의 분말을 소결하는 소결 단계를 포함하며,상기 소결 단계에서, 스커테루다이트 열전소재의 분말과 ITO 중간층이 형성된 Ti 포일을 상기 ITO 중간층이 열전소재를 향하도록 함께 장입하여, 스커테루다이트 열전소재 분말을 소결하는 것과 동시에 표면에 Ti 메탈라이징층이 형성되는 것을 특징으로 하는 Ti 메탈라이징된 스커테루다이트 열전소재의 제조방법
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청구항 8에 있어서,상기 ITO 중간층의 두께가 500nm~1
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청구항 8에 있어서,상기 중간층 형성 단계가 스퍼터링에 의해서 수행되는 것을 특징으로 하는 Ti 메탈라이징된 스커테루다이트 열전소재의 제조방법
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청구항 8에 있어서,상기 소결 단계가 600~700℃ 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 Ti 메탈라이징된 스커테루다이트 열전소재의 제조방법
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표면에 메탈라이징층이 형성된 스커테루다이트 열전소재로서,상기 메탈라이징층이 Ti 재질의 메탈라이징층이고, Ti 메탈라이징층과 스커테루다이트 열전소재의 사이에 ITO 중간층이 위치하는 것을 특징으로 하는 Ti 메탈라이징된 스커테루다이트 열전소재
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청구항 12에 있어서,상기 ITO 중간층의 두께가 500nm~1
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