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친수성막 기판을 제작하는 단계;상기 친수성막 기판을 패터닝하는 단계; 상기 패터닝된 친수성막의 부분 영역에 소수성막을 코팅하여 가이드 기판을 제작하는 단계; 및상기 가이드 기판 상에 유무기 하이브리드 물질을 저온 스핀코팅하는 단계를 포함하는 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제1항에 있어서,상기 친수성막 기판을 제작하는 단계는용액 상태의 폴리스타이렌(polystyrene; PS) 혹은 폴리스타이렌이 혼합된 용액을 스핀코팅(Spin-coating), 딥 코팅(Deep coating), 드롭 캐스팅(Drop casting), 증기 증착(Vapor coating), 및 담금(Immersion) 중 어느 하나의 방식을 수행하거나, RIE(Reactive ion etching)로 플라즈마 처리 혹은 퍼나스(Furnace)로 열처리 하는 방식 중 적어도 하나를 이용하여 상기 친수성막 기판을 제작하는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제1항에 있어서,상기 친수성막을 패터닝하는 단계는상기 친수성막 기판을 나노임프린트 리소그래피 방법 및 RIE(Reactive ion etching) 방법으로 마이크로 이하 스케일(sub-micrometer scale)의 위치에 따른 표면 특성을 조절하여 패터닝하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제1항에 있어서,상기 가이드 기판을 제작하는 단계는상기 패터닝된 친수성막의 음영의 부분 영역에 스핀코팅(Spin-coating), 딥 코팅(Deep coating), 드롭 캐스팅(Drop casting), 증기 증착(Vapor coating), 및 담금(Immersion) 중 적어도 어느 하나의 방식으로 상기 소수성막을 코팅하여 상기 가이드 기판을 제작하는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제1항에 있어서,상기 가이드 기판을 제작하는 단계는상기 패터닝된 친수성막의 음영의 부분 영역에 상기 소수성막을 코팅하여 서로 다른 표면 에너지를 갖는 heptadefluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyltrichlorosilane(HDFS), polydimethylsiloxane(PDMS), dodecyltrichlorosilane(DDTS), hexamethyldisilazane (HMDS), octadecanethiol (ODT), 및 polystyrene(PS) 중 적어도 어느 하나를 포함한 친수성 물질 및 소수성 물질이 패터닝된 상기 가이드 기판을 제작하는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제1항에 있어서,상기 저온 스핀코팅하는 단계는상기 유무기 하이브리드 물질의 블록 공중합 고분자 용액을 -20℃ 내지 +15℃의 냉장 보관하여 용액의 온도를 낮추는 단계를 포함하는 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제6항에 있어서,상기 저온 스핀코팅하는 단계는상기 가이드 기판 상에 상기 온도를 낮춘 유무기 하이브리드 물질을 주입하고, 저온 스핀코팅(SAM-directed cold spin-casting) 기법을 이용하여 상기 가이드 기판 내 상기 온도를 낮춘 유무기 하이브리드 물질을 선택적으로 증착, 흡착 또는 코팅하여 블록 공중합 고분자 필름의 위치를 선택하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제7항에 있어서,상기 온도를 낮춘 유무기 하이브리드 물질은블록 공중합 고분자 용액, CdSe 및 PbS를 포함하는 양자점(Quantum dot) 용액, 그래핀 양자점 (Graphene quantum dot) 용액, 혹은 전도성 고분자 (Conductive polymer) 중 하나 인 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제6항에 있어서,상기 저온 스핀코팅하는 단계는상기 블록 공중합 고분자 용액을 이용하여 상기 가이드 기판 상에 50 나노 이하의 고해상도 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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제9항에 있어서,상기 블록 공중합 고분자 용액은50 나노 이하 패턴을 형성하는 PS-b-PMMA, PS-b-PDMS, PS-b-PEO, PS-b-PVP PS-b-P4VP 및 PS-b-P2VP 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 방법
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친수성막 기판;상기 친수성막 기판을 패터닝하는 패터닝부; 상기 패터닝된 친수성막의 부분 영역에 소수성막을 코팅하여 가이드 기판을 제작하는 가이드 기판 제작부; 및상기 가이드 기판 상에 유무기 하이브리드 물질을 저온 스핀코팅하는 저온 스핀코팅부를 포함하는 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 장치
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제11항에 있어서,상기 패터닝부는상기 친수성막 기판을 나노임프린트 리소그래피 방법 및 RIE(Reactive ion etching) 방법으로 마이크로 이하 스케일(sub-micrometer scale)의 위치에 따른 표면 특성을 조절하여 패터닝하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 장치
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제12항에 있어서,상기 가이드 기판 제작부는상기 패터닝된 친수성막의 음영의 부분 영역에 스핀코팅(Spin-coating), 딥 코팅(Deep coating), 드롭 캐스팅(Drop casting), 증기 증착(Vapor coating), 및 담금(Immersion) 중 적어도 어느 하나의 방식으로 상기 소수성막을 코팅하여 상기 가이드 기판을 제작하는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 장치
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제13항에 있어서,상기 가이드 기판 제작부는상기 패터닝된 친수성막의 음영의 부분 영역에 상기 소수성막을 코팅하여 서로 다른 표면 에너지를 갖는 heptadefluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyltrichlorosilane(HDFS), polydimethylsiloxane(PDMS), dodecyltrichlorosilane(DDTS), hexamethyldisilazane (HMDS), octadecanethiol (ODT), 및 polystyrene(PS) 중 적어도 어느 하나를 포함한 친수성 물질 및 소수성 물질이 패터닝된 상기 가이드 기판을 제작하는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 장치
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제11항에 있어서,상기 저온 스핀코팅부는상기 유무기 하이브리드 물질의 블록 공중합 고분자 용액을 -20℃ 내지 15℃의 냉장 보관하여 용액의 온도를 낮추는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 장치
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제15항에 있어서,상기 저온 스핀코팅부는상기 가이드 기판 상에 상기 온도를 낮춘 유무기 하이브리드 물질을 주입하고, 저온 스핀코팅(SAM-directed cold spin-casting) 기법을 이용하여 상기 가이드 기판 내 상기 온도를 낮춘 유무기 하이브리드 물질을 선택적으로 증착, 흡착 또는 코팅하여 블록 공중합 고분자 필름의 위치를 선택하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 장치
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제16항에 있어서,상기 저온 스핀코팅부는상기 블록 공중합 고분자 용액을 이용하여 상기 가이드 기판 상에 50 나노 이하의 고해상도 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는, 필름 패터닝을 위한 저온 스핀코팅 공정 장치
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