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실리콘 웨이퍼의 양면 중 제1면에 알루미늄층을 형성하는 제1단계;상기 실리콘 웨이퍼의 다른 제2면에 포토레지스트를 도포하고, 노광 및 현상하여 포토레지스트층을 패터닝 하는 제2단계;상기 포토레지스트층 패턴을 따라 상기 실리콘 웨이퍼에 메가소닉이 인가된 세정액을 분사하는 분사홀들을 형성하는 제3단계;상기 알루미늄층과 상기 포토레지스트층을 제거하는 제4단계; 및상기 실리콘 웨이퍼를 컷팅하여 실리콘 스택을 형성하는 제5단계를 포함하는 실리콘 웨이퍼 노즐 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1단계는알루미늄을 기상 증착하여 상기 알루미늄층을 형성하는 실리콘 웨이퍼 노즐 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제3단계는딥 리액티브 이온 에칭(deep Reactive Ion Etching) 공정으로 상기 분사홀들을 형성하는 실리콘 웨이퍼 노즐 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제4단계는？？ 에칭(wet etching)으로 상기 알루미늄층과 상기 포토레지스트층을 제거하는 실리콘 웨이퍼 노즐 제조방법
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메가소닉 세정 모듈에서 메가소닉이 인가된 세정액을 분사하도록 세정액 분사측에 구비되고 실리콘 웨이퍼를 컷팅하여 형성되는 실리콘 스택; 및 상기 실리콘 스택에 구비되는 복수의 분사홀들을 포함하는 실리콘 웨이퍼 노즐
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제5항에 있어서,상기 분사홀들은직경(D) 10~50㎛로 형성되는 실리콘 웨이퍼 노즐
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제6항에 있어서,상기 분사홀들은직경(D): 높이(H)의 비가 1:15~20인 실리콘 웨이퍼 노즐
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제7항에 있어서,상기 실리콘 웨이퍼는두께(t)가 150~350㎛로 형성되는 실리콘 웨이퍼 노즐
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세정액 공급구에 연결되는 세정액 수용 공간을 내부에 형성하고, 상기 세정액 수용 공간의 양측에 제1개구와 제2개구를 구비하는 바디;상기 제1개구에 설치되고 메가소닉이 인가된 세정액을 분사하는 복수의 분사홀을 구비하는 실리콘 웨이퍼 노즐; 및상기 제2개구에 설치되어 상기 세정액 수용 공간에 공급된 세정액에 메가소닉을 인가하는 진동소자를 포함하는 메가소닉 세정 모듈
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제9항에 있어서,상기 바디는상기 제1개구에 중심을 향하여 돌출되는 지지부를 구비하고,상기 실리콘 웨이퍼 노즐은상기 지지부에 장착되는 메가소닉 세정 모듈
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제10항에 있어서,상기 실리콘 웨이퍼 노즐은상기 세정액 수용 공간을 형성하는 상기 바디의 내면에 결합되는 스냅링으로 고정되는 메가소닉 세정 모듈
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제9항에 있어서,상기 바디는석영(quartz)으로 형성되는 메가소닉 세정 모듈
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세정액 공급구에 연결되는 세정액 수용 공간을 내부에 형성하고, 상기 세정액 수용 공간의 일측에 개구를 구비하는 바디;상기 개구의 반대측에서 상기 바디의 내부에 설치되어 상기 세정액 수용 공간에 공급된 세정액에 메가소닉을 인가하는 진동소자; 및상기 개구에 설치되고 메가소닉이 인가된 세정액을 분사하는 복수의 분사홀을 구비하는 실리콘 웨이퍼 노즐을 포함하는 메가소닉 세정 모듈
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