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고감도 온도 센서 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2021004688
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고감도 온도 센서 및 이의 제조방법을 개시한다. 본 발명의 실시예에 따른 고감도 온도 센서의 제조방법은 팽창기판 상에 제1 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자를 포함하는 제1 나노 입자층을 형성하는 단계; 상기 제1 나노 입자층의 제1 유기 리간드를 제2 유기 리간드로 치환하여 크랙을 포함하는 제1 온도 감지층을 형성하는 단계; 상기 제1 온도 감지층 상에 포토레지스트를 도포 및 식각하여 상기 제1 온도 감지층이 노출된 영역 및 상기 포토레지스트가 잔류한 영역을 형성하는 단계; 상기 제1 온도 감지층 상에 상기 제1 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자를 포함하는 제2 나노 입자층을 형성하는 단계; 상기 제2 나노 입자층의 제1 유기 리간드를 무기 리간드로 치환하여 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 온도 감지층 상의 상기 포토레지스트가 잔류한 영역을 제거하여 전극 및 제1 온도 감지부를 형성하는 단계; 상기 전극 및 상기 제1 온도 감지부 상에 제1 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자를 포함하는 제3 나노 입자층을 형성하는 단계; 상기 제3 나노 입자층의 제1 유기 리간드를 상기 제2 유기 리간드로 치환하여 크랙을 포함하는 제2 온도 감지층 및 제2 온도 감지부를 형성하는 단계; 및 상기 제2 온도 감지부 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G01K 7/16 (2006.01.01) G01N 27/12 (2006.01.01) H01B 1/02 (2006.01.01) H01B 5/14 (2006.01.01)
CPC G01K 7/16(2013.01) G01N 27/127(2013.01) H01B 1/02(2013.01) H01B 5/14(2013.01)
출원번호/일자 1020190130796 (2019.10.21)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0047115 (2021.04.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.10.21)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오승주 서울특별시 중구 청구로
2 방준성 경기도 고양시 일산서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2019-1073594-70
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.02.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0058238-84
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0255622-56
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번호 청구항
1 1
팽창기판 상에 제1 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자를 포함하는 제1 나노 입자층을 형성하는 단계;상기 제1 나노 입자층의 제1 유기 리간드를 제2 유기 리간드로 치환하여 크랙을 포함하는 제1 온도 감지층을 형성하는 단계;상기 제1 온도 감지층 상에 포토레지스트를 도포 및 식각하여 상기 제1 온도 감지층이 노출된 영역 및 상기 포토레지스트가 잔류한 영역을 형성하는 단계;상기 제1 온도 감지층 상에 상기 제1 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자를 포함하는 제2 나노 입자층을 형성하는 단계;상기 제2 나노 입자층의 제1 유기 리간드를 무기 리간드로 치환하여 전극층을 형성하는 단계;상기 제1 온도 감지층 상의 상기 포토레지스트가 잔류한 영역을 제거하여 전극 및 제1 온도 감지부를 형성하는 단계;상기 전극 및 상기 제1 온도 감지부 상에 제1 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자를 포함하는 제3 나노 입자층을 형성하는 단계;상기 제3 나노 입자층의 제1 유기 리간드를 상기 제2 유기 리간드로 치환하여 크랙을 포함하는 제2 온도 감지층 및 제2 온도 감지부를 형성하는 단계; 및상기 제2 온도 감지부 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 포토레지스트는 상기 제2 유기 리간드와 화학 결합을 형성하여 상기 제1 온도 감지층 상에 도포되는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 팽창기판은 외부 온도의 증가에 따라 열 팽창되며,상기 제1 온도 감지부 및 상기 제2 온도 감지부는 상기 크랙의 간격이 증가되어 상기 고감도 온도 센서의 저항 증가를 감지하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 팽창기판은 PDMS(polydimethylsiloxane)를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
5 5
제1항에 있어서,상기 팽창기판은 자외선-오존(UV-ozone) 및 APTES((3-aminopropyl)triethoxysilane) 처리되는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
6 6
제1항에 있어서,상기 팽창기판의 열 팽창 계수는 1
7 7
제1항에 있어서,상기 전도성 나노 입자는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 철(Fe) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
8 8
제1항에 있어서,상기 제1 유기 리간드는 TOPO(trioctylphosphineoxide), 옥타데칸올(octadecanol), 올레익산(oleic acid) 및 올레일아민(oleylamine) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
9 9
제1항에 있어서,상기 제2 유기 리간드는 MPA(3-mercaptopropionic acid), EDT(1,2-ethanedithiol), EDA(ethylenediamine), BDT(benzenedithiol), 피리딘(pyridine), TGA(methanethiosulfonyl-galactoside) 및 PDT (propanedithiol) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
10 10
제1항에 있어서,상기 무기 리간드는 황 이온(S2-), 염소 이온(Cl-), 브롬 이온(Br-), 티오시안산 이온(SCN-), 아이오딘 이온(I-), 이황화물 이온(HS-), 텔루륨 이온(Te2-), 수산화 이온(OH-), 사불화붕산 이온(BF4-) 및 육불화인산 이온(PF6-) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서의 제조방법
11 11
팽창기판;상기 팽창기판 상에 형성되고, 제2 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자에 의해 크랙이 형성되는 제1 온도 감지부를 포함하는 제1 온도 감지층;상기 제1 온도 감지층 상에 서로 이격되어 형성되고, 무기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자를 포함하는 제1 전극 및 제2 전극;상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 형성되고, 상기 제2 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자에 의해 크랙이 형성되는 제2 온도 감지부;상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 상에 형성되고, 상기 제2 유기 리간드로 둘러싸인 전도성 나노 입자에 의해 크랙이 형성되는 제2 온도 감지층; 및상기 제2 온도 감지부 상에 형성되는 보호층을 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서
12 12
제11항에 있어서,상기 팽창기판은 외부 온도의 증가에 따라 열 팽창되며,상기 제1 온도 감지부 및 상기 제2 온도 감지부는 상기 크랙의 간격이 증가되어 상기 고감도 온도 센서의 저항 증가를 감지하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서
13 13
제11항에 있어서,상기 팽창기판은 PDMS(polydimethylsiloxane)를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 온도 센서
14 14
제11항에 있어서,상기 팽창기판의 열 팽창 계수는 1
15 15
제11항에 있어서,상기 제1 온도 감지부 및 상기 제2 온도 감지부의 온도-저항 계수(temperature coefficient of resistance, TCR)는 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 고려대학교 (이공)일반연구자-신진 유연 적외선 아발란지 광검출기 응용을 위한 양자점 다중양자우물 개발 연구
2 과학기술정보통신부 고려대학교 (원천)미래소재디스커버리사업 Small form-factor용 초고효율 적외선 흡수 소재 개발