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입자들을 포함하는 분석 대상의 이미지를 준비하는 단계;상기 이미지에 대하여 랜덤 워크 시뮬레이션을 수행하여 상기 입자들의 클러스터 간 분산도를 계산하는 단계; 및상기 이미지에 대하여 구름 겹침 추정법을 수행하여 상기 입자들의 클러스터 내 분산도를 계산하는 단계를 포함하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 1 항에 있어서,상기 클러스터 간 분산도와 상기 클러스터 내 분산도를 곱하여 상기 분석 대상의 분산도를 계산하는 단계를 더 포함하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 1 항에 있어서,상기 이미지를 준비하는 단계는,상기 분석 대상의 이미지 I를 준비하는 단계를 포함하고,상기 이미지 I를 준비하는 단계는,상기 이미지 I로부터 상기 이미지 I의 크기, 전체 픽셀들 중에서 백색 픽셀들이 차지하는 비율(area fraction, AF), 상기 이미지 I에 있는 입자들의 개수(N), 픽셀 길이 환산 인자(ρp), 및 상기 입자들의 반지름(rk, for k=1,2,
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제 3 항에 있어서,상기 이미지 I는 상기 분석 대상의 현미경 이미지를 이진 행렬로 변환하여 형성되는 것을 특징으로 하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 3 항에 있어서,상기 이미지를 준비하는 단계는,상기 이미지 I와 동일한 AF를 가지면서 가장 나쁜 분산 상태를 나타내는 이미지 Iw를 준비하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 5 항에 있어서,상기 이미지 Iw의 픽셀 수는 상기 입자들의 평균 반지름을 이용하여 결정되는 것을 특징으로 하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 5 항에 있어서,상기 클러스터 간 분산도는 하기 식 1을 이용하여 계산되는 것을 특징으로 하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 7 항에 있어서,상기 랜덤 워크 시뮬레이션에서 워커의 걸음은 1 픽셀이고,상기 워커는 흑색 픽셀(공극 픽셀)을 향해서만 움직이고 백색 픽셀(입자 픽셀)을 향하게 되면 흡수되며, 흡수되지 않고 생존한 워커에 대하여 상기 랜덤 워크 시뮬레이션이 반복적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 5 항에 있어서,상기 클러스터 내 분산도는 하기 식 4를 이용하여 계산되는 것을 특징으로 하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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제 9 항에 있어서,상기 는 상기 분석 대상 내 상기 입자들의 분포 상태에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는 미세구조의 분산도 분석 방법
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