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표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자, 이의 제조방법 및 용도

  • 기술번호 : KST2022003112
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법, 상기 제조방법에 의해 제조된 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자, 상기 나노입자의 리보핵단백질 전달용 용도, 및 상기 나노입자에 리보핵단백질을 담지하는 방법을 제공한다.
Int. CL C01B 33/18 (2006.01.01) A61K 9/51 (2006.01.01) A61K 31/7088 (2006.01.01) A61K 48/00 (2006.01.01)
CPC C01B 33/18(2013.01) A61K 9/5115(2013.01) A61K 31/7088(2013.01) A61K 48/00(2013.01) C01P 2004/34(2013.01) C01P 2004/64(2013.01)
출원번호/일자 1020200120002 (2020.09.17)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0037265 (2022.03.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.09.17)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이효진 서울특별시 성북구
2 김성찬 서울특별시 성북구
3 정영도 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.09.17 수리 (Accepted) 1-1-2020-0990198-02
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.01.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
(1) 양이온성 계면활성제를 염기성 용액에 용해시키는 단계;(2) 상기 단계 (1)에서 제조된 용액에 실리카 전구체 용액을 첨가하고 교반하여 다공성 실리카 나노입자를 제조하는 단계;(3) 상기 다공성 실리카 나노입자를 벤젠류 화합물 용액에 첨가하고 반응시켜 메조다공성 실리카 나노입자를 제조하는 단계; 및(4) 상기 메조다공성 실리카 나노입자에 아민계 화합물 용액을 첨가하고 환류시켜 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자를 제조하는 단계를 포함하는, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (1)에서, 양이온성 계면활성제는 세틸 트리메틸 암모늄 브로마이드 (Cethyl trimethyl ammonium bromide, CTAB) 또는 세틸 트리메틸 암모늄 클로라이드 (Cethyl trimethyl ammonium chloride, CTAC)인 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (2)에서, 실리카 전구체는 테트라메틸 오르쏘실리케이트 (tetramethyl orthosilicate, TMOS) 또는 테트라에틸 오르쏘실리케이트 (tetraethyl orthosilicate, TEOS)인 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (2)에서, 실리카 전구체 용액을 0
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (2) 이후에, 다공성 실리카 나노입자를 세척하는 단계를 더 포함하는 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
6 6
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (3)에서, 벤젠류 화합물은 벤젠, 트리메틸벤젠 (trimethylbenzene, TMB), 1,3,5-트리에틸벤젠 (1,3,5-triethylbenzene, TEB), TtBB (1,3,5-tri-tert-butylbenzene) 및 TiPB (1,3,5-Triisopropylbenzene)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
7 7
청구항 1에 있어서, 상기 벤젠류 화합물 용액은 벤젠류 화합물, 알코올 및 증류수의 혼합물인 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
8 8
청구항 7에 있어서, 상기 벤젠류 화합물, 알코올 및 증류수의 부피비는 1~2:1~2:1~2인 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
9 9
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (3)에서, 반응은 120 내지 200 ℃에서 수행되는 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
10 10
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (3)에서, 반응은 24 내지 72 시간 동안 수행되는 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
11 11
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (3) 이후에, 메조다공성 실리카 나노입자에 산성 용액을 첨가하고 환류시켜 양이온성 계면활성제를 제거하는 단계를 더 포함하는 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
12 12
청구항 1에 있어서, 상기 단계 (4)에서, 아민계 화합물은 3-아미노프로필트리에톡시실란 (3-Aminopropyltriethoxysilane, APTES), N(베타-아미노에틸)감마-아미노프로필메틸디메톡시실란 (N(beta-aminoethyl)gamma-aminopropylmethyldimethoxysilane, AEAPMDMS), N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민, N1-(3-트리메톡시실릴프로필)디에틸렌트리아민, (3-아미노프로필)트리메톡시실란, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]아닐린, 트리메톡시[3-(메틸아미노)프로필]실란, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필디메톡시메틸실란, TPPI (Trimethoxysilylpropyl modified polyethylenimine), p-아미노페닐트리메톡시실란, 1-아미노-2-(디메틸에톡시실릴)프로판으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자의 제조방법
13 13
청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의해 제조된 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자 및 리보핵단백질 (ribonucleoprotein, RNP)을 혼합하는 단계를 포함하는, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자에 RNP를 담지하는 방법
14 14
청구항 13에 있어서, 상기 혼합은 실온에서 10분 내지 3시간 동안 수행되는 것인 방법
15 15
15 내지 50 nm의 평균 기공 크기를 갖는, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자
16 16
청구항 15에 있어서, RNP 전달용인 것인 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자
17 17
청구항 16에 있어서, 상기 RNP는 Cas 단백질-RNP인 것인 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자
18 18
청구항 15에 있어서, 상기 나노입자는 40 내지 1000 nm의 직경을 갖는 것인, 표면 아민화 메조다공성 실리카 나노입자
19 19
청구항 15에 있어서, 상기 나노입자는 +20
20 20
청구항 15에 있어서, 상기 나노입자는 pH 7
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술연구원 바이오.의료기술개발(R&D) 나노구조체 기반 리보핵산단백질 및 오토파지 유도인자 전달 기술 개발 연구