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기판부;상기 기판부 상에 제공되며 빛을 출사하는 표시부; 및상기 표시부를 커버하여 상기 표시부로 수분이 침투하는 것을 방지하는 봉지층을 포함하고,상기 봉지층은 사슬 상에 극성 작용기를 포함하는 고분자층; 및상기 고분자층의 두께 방향으로 침투된 무기 화합물을 포함하고,상기 무기 화합물은 상기 고분자층의 사슬 상의 상기 극성 작용기와 결합하여 상기 고분자층의 사슬 사이에 제공되는, 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 고분자층의 상기 극성 작용기는 -O-(ether), -C(O)O-(ester), -C(O)NH-(amide), -OC(O)O-(carbonate), -OH(alcohol), -SH(thiol), -NH2(amine), -NHC(O)NH-(urea), -OC(O)NH-(urethane), 및 -C(O)NH-C(O)-(imide)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는, 표시 장치
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제2항에 있어서,상기 고분자층의 상기 극성 작용기는 분자 내 C=O 결합을 포함하고,상기 무기 화합물은 무기 화합물 전구체 형태로 상기 고분자층 내부에 침투된 후 상기 C=O 결합과 반응하여 상기 고분자층 내 확산 및 산화됨으로써 제공되는, 표시 장치
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제2항에 있어서,상기 고분자층의 상기 극성 작용기는 분자 내 하이드록시(-OH) 작용기를 포함하고,상기 무기 화합물은 무기 화합물 전구체 형태로 상기 고분자층 내부에 침투된 후 상기 하이드록시(-OH) 작용기와 반응하여 상기 고분자층 내 확산 및 산화됨으로써 제공되는, 표시 장치
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제2항에 있어서,상기 고분자층의 상기 극성 작용기는 분자 내 아민(-NH2) 작용기를 포함하고,상기 무기 화합물은 무기 화합물 전구체 형태로 상기 고분자층 내부에 침투된 후 상기 아민(-NH2) 작용기와 반응하여 상기 고분자층 내 확산 및 산화됨으로써 제공되는, 표시 장치
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제2항에 있어서,상기 고분자층의 상기 극성 작용기는 분자 내 싸이올(-SH) 작용기를 포함하고,상기 무기 화합물은 무기 화합물 전구체 형태로 상기 고분자층 내부에 침투된 후 상기 싸이올(-SH) 작용기와 반응하여 상기 고분자층 내 확산 및 산화됨으로써 제공되는, 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 표시부는 복수 개의 화소를 포함하고,상기 봉지층은 상기 복수 개의 화소를 커버하되, 상기 무기 화합물은 상기 복수 개의 화소가 제공된 영역과 평면 상에서 중첩되도록 상기 봉지층 내에 제공되는, 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 고분자층은 아크릴계 고분자, 에스터계 고분자, 카보네이트계 고분자, 이미드계 고분자, 에테르계 고분자로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는, 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 봉지층은 복수 개의 분리된 세그먼트의 집합으로 제공되는, 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 봉지층은 10-6 g m-2 day-1 이하의 WVTR(water vapor transmission rate)을 나타내는, 표시 장치
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제1항에 있어서,고분자를 포함하고,상기 기판부에 포함되는 고분자는 -C-C-, -C=C-, -CF2-CF2-, 또는 -SiO-의 기능기 함량이 상기 극성 작용기 함량보다 많은, 표시 장치
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사슬 상에 극성 작용기를 포함하는 고분자층; 및상기 고분자층의 두께 방향으로 침투된 무기 화합물을 포함하고,상기 무기 화합물은 상기 고분자층의 사슬 상의 상기 극성 작용기와 결합하여 상기 고분자층의 사슬 사이에 제공되는, 필름 구조체
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제12항에 있어서,상기 고분자층은 아크릴계 고분자, 에스터계 고분자, 카보네이트계 고분자, 이미드계 고분자, 에테르계 고분자로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하고,상기 고분자층에 포함된 고분자의 종류에 따라 상기 무기 화합물의 상기 고분자층 침투 깊이가 다른, 필름 구조체
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신축 가능한 기판;상기 기판 상에 제공되며 사슬 상에 극성 작용기를 포함하며 신축 가능한 고분자층; 및상기 고분자층의 두께 방향으로 침투된 무기 화합물을 포함하고,상기 무기 화합물은 상기 고분자층의 사슬 상의 상기 극성 작용기와 결합하여 상기 고분자층의 사슬 사이에 제공되고,상기 기판은 -C-C-, -C=C-, -CF2-CF2-, 또는 -SiO-의 기능기 함량이 -O-(ether), -C(O)O-(ester), -C(O)NH-(amide), -OC(O)O-(carbonate), -OH(alcohol), -NH2(amine), -NHC(O)NH-(urea), -OC(O)NH-(urethane), 및 -C(O)NH-C(O)-(imide)로 이루어진 군에서 선택된 극성 작용기 함량보다 많은 고분자를 포함하는, 필름 구조체
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제1 고분자 필름 및 제2 고분자 필름을 준비하는 제1 단계;상기 제1 고분자 필름 및 제2 고분자 필름을 밀폐 챔버 내에 제공하고, 기설정된 압력의 무기 화합물 전구체 가스를 상기 밀폐 챔버 내에 제공하는 제2 단계; 상기 챔버 내의 상기 무기 화합물 전구체 가스를 퍼징하는 제3 단계, 기설정된 압력의 반응가스를 상기 밀폐 챔버 내에 제공하는 제4 단계; 및상기 챔버 내의 상기 반응가스를 퍼징하는 제 5단계를 포함하고,상기 제2, 3, 4 및 제5 단계는 적어도 1번 이상 반복되고,상기 제2 고분자 필름은 -C-C-, -C=C-, -CF2-CF2-, 또는 -SiO-의 기능기 함량이 상기 극성 작용기 함량보다 많은 고분자를 포함하고, 상기 제1 고분자 필름은 상기 제2 고분자 필름과 상이한 고분자를 포함하고,상기 제1 고분자 필름에 포함된 고분자 종류에 따라 상기 제2 단계 내지 상기 제5 단계의 반복 횟수, 상기 제2 단계에서 상기 무기 화합물 전구체 가스의 압력, 상기 제4 단계에서 상기 반응 가스의 압력, 상기 제2 단계 및 상기 제4 단계에서 상기 밀폐 챔버 내 온도를 제어하는, 필름 구조체 제조 방법
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