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기판 상에 블록공중합체 층을 형성하는 단계;필터가 적용된 플라즈마 처리를 통해 상기 블록공중합체 층 표면의 가교반응을 유도하여 가교층을 도입하는 가교층 도입 단계; 및상기 가교층이 도입된 블록공중합체 층을 어닐링을 수행하여 상기 블록공중합체 층의 나노 구조가 수직으로 배향되는 어닐링 단계;를 포함하고,상기 필터는 상기 플라즈마에 의해 생성된 자외선을 차단하는 것인 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법
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기판 상에 블록공중합체를 코팅하는 단계;필터가 적용된 플라즈마 처리를 통해 상기 코팅된 블록공중합체를 제1 가교층으로 변환시키는 단계;상기 제1 가교층 상에 상기 블록공중합체와 동일한 블록공중합체를 포함하는 블록공중합체 층을 형성하는 단계; 및상기 제1 가교층 상에 형성된 블록공중합체 층을 어닐링을 수행하여 상기 블록공중합체 층의 나노 구조가 수직으로 배향되는 어닐링 단계;를 포함하고, 상기 필터는 상기 플라즈마에 의해 생성된 자외선을 차단하는 것인 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법
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기판 상에 블록공중합체를 코팅하는 단계;필터가 적용된 플라즈마 처리를 통해 상기 코팅된 블록공중합체를 제1 가교층으로 변환시키는 단계;상기 제1 가교층 상에 상기 블록공중합체와 동일한 블록공중합체를 포함하는 블록공중합체 층을 형성하는 단계;필터가 적용된 플라즈마 처리를 통해 블록공중합체 층 표면의 가교반응을 유도하여 제2 가교층을 도입하는 단계; 및상기 제1 가교층 및 제2 가교층을 포함하는 블록공중합체 층을 어닐링을 수행하여 상기 블록공중합체 층의 나노 구조가 수직으로 배향시키는 수직 배향 단계;를 포함하고,상기 필터는 상기 플라즈마에 의해 생성된 자외선을 차단하는 것인 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 필터는 자외선-가시광선 분광법(UV-Vis spectroscopy)에 의해 측정된 250 내지 550 nm 파장의 광 투과도가 10% 이하인 것이고,상기 가교층은 1 내지 10 nm의 두께를 갖는 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 필터는 플라즈마에서 생성된 자외선 및 이온을 동시에 차단하는 것인 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 비활성기체 플라즈마 또는 공기 플라즈마를 사용하는 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 블록공중합체는 제1 블록 및 제2 블록을 포함하고,상기 가교층의 접촉각(water contanct angle)은 상기 제1 블록의 접촉각 및 상기 제2 블록의 접촉각의 사이 값을 갖는 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법
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8
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조된 수직 배향된 블록공중합체 필름
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 수직 배향된 블록공중합체 필름의 제조방법을 포함하는 유도 자기조립 패턴(directed self-assembly pattern)의 제조방법
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10
가이드 패턴이 형성된 기판을 준비하는 단계;상기 가이드 패턴이 형성된 기판 상에 블록공중합체 층을 형성하는 단계;필터가 적용된 플라즈마 처리를 통해 블록공중합체 층 표면의 가교반응을 유도하여 가교층을 도입하는 가교층 도입 단계; 및상기 가교층이 도입된 블록공중합체 층을 어닐링을 수행하여 상기 블록공중합체 층의 나노 구조가 수직으로 배향되는 어닐링 단계;를 포함하고,상기 필터는 상기 플라즈마에 의해 생성된 자외선을 차단하는 것인 유도 자기조립 패턴의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 필터는 자외선-가시광선 분광법(UV-Vis spectroscopy)에 의해 측정된 250 내지 550 nm 파장의 광 투과도가 10% 이하인 것이고,상기 가교층은 1 내지 10 nm의 두께를 갖는 유도 자기조립 패턴의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 필터는 플라즈마에서 생성된 자외선 및 이온을 동시에 차단하는 것인 유도 자기조립 패턴의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 비활성기체 플라즈마 또는 공기 플라즈마를 사용하는 유도 자기조립 패턴의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 블록공중합체는 제1 블록 및 제2 블록을 포함하고,상기 가교층의 접촉각은 상기 제1 블록의 접촉각 및 상기 제2 블록의 접촉각의 사이 값을 갖는 유도 자기조립 패턴의 제조방법
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제10항 내지 제14항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조된 유도 자기조립 패턴
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