| 1 |
1
가스 공급관으로 공급되는 가스를 분산하여 아래로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐이 방사형으로 형성된 제1 샤워 헤드; 및상기 제1 샤워 헤드의 아래에 설치되며 상기 제1 샤워 헤드 보다 큰 분사면을 가지며, 상기 제1 샤워 헤드로부터 공급된 가스를 분산하여 아래에 위치하는 기판 위로 분사하는 복수의 제2 분사 노즐이 방사형으로 형성된 제2 샤워 헤드;를 포함하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 샤워 헤드는 원판 형태를 가지며, 원판의 중심에 대해서 방사형으로 상기 제1 및 제2 분사 노즐이 형성된 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 제1 샤워 헤드는 중심에 대한 이웃하는 제1 분사 노즐 간의 제1 방사 각도가 상기 제2 샤워 헤드의 이웃하는 제2 분사 노즐 간의 제2 방사 각도 보다는 큰 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 제1 방사 각도는 상기 제2 방사 각도의 2배인 것을 특징으로 하는 박막 증착용 샤워 헤드
|
| 5 |
5
제3항에 있어서,방사선 상에 형성된 분사 노즐의 개수는 상기 제2 샤워 헤드가 상기 제1 샤워 헤드 보다는 많은 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 6 |
6
제2항에 있어서, 상기 제1 샤워 헤드는,중심에 대해서 방사형으로 복수의 제1 관통 구멍이 형성된 제1 본체; 및상기 복수의 제1 관통 구멍에 각각 설치되어 상기 제1 본체의 하부면으로 돌출된 상기 복수의 제1 분사 노즐;을 포함하고,상기 제2 샤워 헤드는,중심에 대해서 방사형으로 복수의 제2 관통 구멍이 형성된 제2 본체; 및상기 복수의 제2 관통 구멍에 각각 설치되어 상기 제2 본체의 하부면으로 돌출된 상기 복수의 제2 분사 노즐;을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 7 |
7
제6항에 있어서,상기 제1 샤워 헤드는 중심에 제1 관통 구멍이 형성되어 있지 않고, 상기 제2 샤워 헤드는 중심에 상기 제2 관통 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 8 |
8
제6항에 있어서,상기 제1 및 제2 분사 노즐은 중심에 대해서 반경이 다른 복수 개의 원주 상에 형성된 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,동일 방사선 상에 위치하는 이웃하는 상기 제1 분사 노즐 간의 거리는 동일하고, 동일 방사선 상에 위치하는 이웃하는 상기 제2 분사 노즐 간의 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,동일 방사선 상에 위치하는 이웃하는 상기 제1 분사 노즐 간의 거리와 동일 방사선 상에 위치하는 이웃하는 상기 제2 분사 노즐 간의 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치용 샤워 헤드
|
| 11 |
11
상부면에 기판이 탑재되어 고정되는 스테이지; 및상기 스테이지 위에 설치되며, 상기 기판 위로 가스를 공급하는 샤워 헤드;상기 샤워 헤드로 가스를 공급하는 가스 공급관;을 포함하고,상기 샤워 헤드는,상기 가스 공급관으로 공급되는 가스를 분산하여 아래로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐이 방사형으로 형성된 제1 샤워 헤드; 및상기 제1 샤워 헤드의 아래에 설치되며 상기 제1 샤워 헤드 보다 큰 분사면을 가지며, 상기 제1 샤워 헤드로부터 공급된 가스를 분산하여 아래에 위치하는 상기 기판 위로 분사하는 복수의 제2 분사 노즐이 방사형으로 형성된 제2 샤워 헤드;를 포함하는 박막 증착 장치
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,상기 제2 분사 노즐과 상기 기판 간의 간격이 25mm일 때, 기판에서 1mm 내지 7mm 떨어진 위치에서의 가스의 유동 균일도가 다른 높이에 비해서 높게 나타내는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
|
