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능동 방사면을 이용하여 빔 조향 및 임피던스 조정이 가능한 배열 안테나 시스템으로서, 상기 배열 안테나 시스템은,복수의 유닛 셀들과 각 유닛 셀의 특성을 제어하는 제어회로로 구성되는 능동 방사면;각 유닛 셀 위에 배치되는 복수의 패치 안테나들; 및상기 능동 방사면을 통해 상기 복수의 패치 안테나들을 여기시키는 급전파를 공급하기 위한 급전선로를 포함하되,각 유닛 셀은 제어회로에 의해 상이한 방사 특성을 갖도록 제어되고, 상기 능동 방사면의 제어에 따라 상기 배열 안테나 시스템의 빔 조향 및 임피던스 조정이 가능한 것을 특징으로 하는, 배열 안테나 시스템
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제1항에 있어서,상기 유닛 셀은 인가되는 전압에 따라 유전율이 변화하는 액정을 포함하고,상기 제어회로는 각 유닛 셀마다 독립적으로 전압을 인가하여 액정의 유전율을 변화시킴으로써 각 유닛 셀의 방사 진폭 및 위상을 제어하거나 임피던스를 조정하는 것을 특징으로 하는, 배열 안테나 시스템
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제2항에 있어서,상기 액정의 유전율 변화에 따라 상기 패치 안테나의 유효 파장이 변화하고, 상기 유효 파장의 변화에 따라 특정 주파수에서 자유공간으로 방사되는 전파의 진폭 및 위상이 변화하는 것을 특징으로 하는, 배열 안테나 시스템
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제2항에 있어서,상기 액정은 인가되는 전압이 높을수록 유전율이 높아지는 것을 특징으로 하는, 배열 안테나 시스템
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제1항에 있어서,각 유닛 셀의 높이는 수십 내지 수백 um 인 것을 특징으로 하는, 배열 안테나 시스템
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