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기판 상에 제1 금속산화물 코팅액을 도포하여 제1 금속산화물층을 형성하는 단계;상기 제1 금속산화물층이 형성된 기판 표면에 레이저를 조사하여 식각패턴을 형성하는 단계;상기 식각패턴이 형성된 기판 상에 촉매코팅액을 도포하여 촉매층을 형성하는 단계;상기 식각패턴에만 상기 촉매층이 남도록 상기 제1 금속산화물층을 제거하는 단계; 및무전해도금을 수행하여 상기 촉매층 상에 무전해도금층을 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 금속산화물층을 형성하는 단계에서,상기 제1 금속산화물 코팅액은 pH에 따라 용해가 가능하도록 인위적 결함을 가진 비화학양론조성의SixOy 물질을 포함하고, x및 y는 0초과 실수인 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 금속산화물층은 스프레이법(Spray), 스핀(Spin)코팅법 또는 딥(Deep)코팅법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 식각패턴은 레이저 조사 영역에서 상기 제1 금속산화물층 및 상기 기판의 일부 영역까지 레이저 식각되어 형성되는 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 식각패턴을 형성하는 단계에서,상기 레이저는 고체레이저, 기체레이저 또는 광섬유레이저인 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 촉매층을 형성하는 단계에서, 상기 촉매코팅액은 금속-제2 금속산화물 촉매 입자를 포함하되, 상기 제2 금속산화물은 상기 제1 금속산화물과 이종인 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제6항에 있어서,상기 금속-제2 금속산화물 촉매 입자에서, 상기 금속은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 코발트(Co), 니켈(Ni), 주석(Sn), 팔라듐(Pd) 또는 이리듐(Ir)을 포함하고, 상기 제2 금속산화물은 AlmOn, ZnmOn, RumOn, ZrmOn, CumOn, ComOn, CemOn, NbmOn, TamOn 또는 TimOn을 포함하고, m 및 n은 0초과 실수인 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 촉매층을 형성하는 단계는 스프레이법(Spray), 스핀(Spin)코팅법 또는 딥(Deep)코팅법에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 금속산화물층을 제거하는 단계는, 상기 제1 금속산화물층을 염기성 수용액에 함침하여 제거하거나, 함침 후 초음파 처리하여 제거하는 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항에 있어서,상기 무전해도금층을 형성하는 단계에서, 상기 무전해도금층은 구리(Cu), 니켈(Ni), 은(Ag) 또는 이들의 합금층인 것을 특징으로 하는 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법
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제1항의 금속산화물을 이용한 선택적 금속 패턴 형성 방법에 의해 제조된 금속 패턴 필름
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