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기판 상에 베이스층을 형성하는 단계; 상기 베이스층 상에 0
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제1항에 있어서,상기 베이스층은, 감광성 수지 및 금속촉매를 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 패턴 형성방법
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제4항에 있어서,상기 감광성 수지는 플라스틱 수지 및 감광성 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 베이스층의 두께는 0
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제4항에 있어서,상기 금속촉매는, Pd(팔라듐), Ni(니켈), Cu(구리), Fe(철), Ag(은), Au(금), Pt(백금) 및 Co(코발트)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 패턴 형성방법
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제7항에 있어서,상기 Pd(팔라듐)을 포함하는 촉매는, PdCl2, PdSO4, Pd(NO3)2, K2[PdCl4], [Pd(NH3)4Cl2], 및 [Pd(NH3)2(NO2)2]로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 팔라듐염을 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 패턴 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 내화학층은, 초발수성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 패턴 형성방법
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제10항에 있어서, 상기 초발수성 화합물은, 아크릴 실리콘 화합물, 알킬 사슬 실리콘 화합물, 알킬 실리콘 화합물, 플루오르 화합물 및 알루미늄 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 패턴 형성방법
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