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높은 자기 이완율을 가지는 상자성 다핵금속착물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 조영제

  • 기술번호 : KST2014047480
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자기이완율 및 열역학적 안정성이 증가된 상자성 다핵 금속착물에 관한 것으로서, 구체적으로 새로운 형태의 DTPA-비스-아미드-히스티딘(DTPA-bis-amide-histidine) 리간드와 DTPA-비스-아미드-아스파르트산(DTPA-bis-amide-aspartic acid) 리간드의 합성 방법, 상기의 리간드를 이용하여 신규한 가돌리늄 착물([Gd(L)H2O]) 및 상기의 가돌리늄 착물을 이용하여 상자성 다핵 금속착물에 관한 것이다. 상자성 다핵 금속착물은 3개 이상의 금속(1개의 가돌리늄 및 2개의 금속이온)을 고정시킬 수 있어, 현재 상용화되고 있는 다른 조영제보다 뛰어난 자기이완율을 제공하는바, 현재 자기공명영상(MRI)의 대조 조영제로서 가장 절실하게 요구되고 있는 높은 자기이완율에 부합되는 것으로 MRI 조영제로 널리 적용될 수 있다. 히스티딘, 아스파르트산, 리간드, 가돌리늄 착물, 상자성 다핵 금속착물, 자기이완율, MR 조영제
Int. CL C07D 403/12 (2006.01) C07D 403/02 (2006.01) A61K 49/06 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020090082273 (2009.09.02)
출원인 경북대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1098136-0000 (2011.12.16)
공개번호/일자 10-2011-0024333 (2011.03.09) 문서열기
공고번호/일자 (20111226) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.02)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태정 대한민국 경상북도 경산시
2 장용민 대한민국 대구광역시 중구
3 김희경 대한민국 대구광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.09.02 수리 (Accepted) 1-1-2009-0539682-17
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0276954-90
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0568338-54
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-0568337-19
5 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0712962-61
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.26 수리 (Accepted) 4-1-2018-5051994-32
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.23 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136893-04
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 화합물: [화학식 1] 상기 식에서 R은 또는 이다
2 2
하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 가돌리늄 착물: [화학식 2] 상기 식에서 R은 또는 이다
3 3
하기 화학식 3으로 표시되는 상자성 다핵 금속착물: [화학식 3] 상기 식에서 R은 또는 이고, M은 상자성 금속이다
4 4
제3항에 있어서, 상기 상자성 금속은 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 구리 및 아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 상자성 다핵 금속착물
5 5
1) DTPA(DiethyleneTriamine PentaAcetic acid)-비스-안하이드라이드(DTPA-bis-anhydride)에 히스티딘(histidine) 또는 아스파르트산(aspartic acid)을 첨가하여 교반하는 단계(단계 1); 2) 상기 단계 1에서 제조된 혼합물의 용매를 모두 제거한 후 메탄올을 넣어 녹인 후 실리카 겔 크로마토그래피를 실시하는 단계(단계 2); 3) 상기 단계 2에서 얻어진 화합물을 아세톤에 침전시키는 단계(단계 3); 및 4) 상기 단계 3에서 얻어진 물질을 진공상태에서 건조하여 화합물를 얻는 단계(단계 4)를 포함하는, 제1항의 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조 방법
6 6
1) 제1항의 화학식 1로 표시되는 화합물을 증류수에 넣은 후, Gd2O3를 첨가하고 교반하여 혼합용액을 제조하는 단계(단계 1); 2) 단계 1에서 제조된 혼합용액 중에서 불순물 및 용매를 제거하는 단계(단계2); 및 3) 단계 2에서 제조된 물질을 3차 증류수에 녹인 후, 아세톤으로 침전시켜 고체를 수득하는 단계를 포함하는 제2항의 화학식 2로 표시되는 화합물의 가돌리늄 착물의 제조방법
7 7
1) 제2항의 화학식 2로 표시되는 화합물의 가돌리늄 착물에 상자성 금속 이온을 첨가하여 혼합용액을 제조하는 단계(단계 1); 및 2) 단계 1에서 제조된 혼합용액을 아세톤에 넣어 침전 시킨 후 필터 하여 건조시켜 가돌리늄 착물과 반응하지 않은 상자성 금속 이온을 제거하는 단계(단계 2)를 포함하는 제3항의 화학식 3으로 표시되는 상자성 다핵 금속착물의 제조방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 상자성 금속은 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 구리 및 아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 상자성 다핵 금속착물
9 9
제2항의 화학식 2로 표시되는 가돌리늄 착물을 포함하는 조영제
10 10
제3항 또는 제4항의 화학식 3으로 표시되는 상자성 다핵 금속착물을 포함하는 조영제
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2 US8822697 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2011027940 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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