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산화물 층 또는 유기물 층과 유기 고분자 층을 포함하는 하이브리드 층 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014047932
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 산화물 층 또는 유기물 층과, 유기 고분자 층을 포함하는 하이브리드 층과 이를 포함하는 절연층 및 유기 전계효과 트랜지스터와 같은 전자 소자에 관한 것으로서, 본 발명의 하이브리드 층은 산화물 층 또는 유기물 층; 및 상기 산화물 층 또는 상기 유기물 층과 화학적으로 결합된 유기 고분자 층;을 포함하는 하이브리드 층;을 포함한다.
Int. CL B32B 27/00 (2006.01) C08L 101/00 (2006.01) C08J 7/04 (2006.01) H01L 51/00 (2006.01)
CPC C08J 7/047(2013.01) C08J 7/047(2013.01) C08J 7/047(2013.01) C08J 7/047(2013.01) C08J 7/047(2013.01) C08J 7/047(2013.01)
출원번호/일자 1020120002902 (2012.01.10)
출원인 인하대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1417244-0000 (2014.07.01)
공개번호/일자 10-2012-0111957 (2012.10.11) 문서열기
공고번호/일자 (20140709) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020110028454   |   2011.03.29
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.01.10)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 미추홀구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 양회창 대한민국 인천 남구
2 장미 대한민국 충북 청원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 인하대학교 산학협력단 인천광역시 미추홀구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-0023974-24
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.03.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0223006-00
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2013.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0434981-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0500839-61
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.09.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0860365-28
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.09.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0860364-83
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.01.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0060947-29
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0196761-98
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2014.02.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0196764-24
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2014.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0212628-46
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.03.31 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0307247-13
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2014.06.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0443050-18
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.07.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5098802-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2016-5127132-49
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5036549-31
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266647-91
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번호 청구항
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산화물 층의 표면 상에, 히드록시기, 아만기, 카르복실기, 알콕시기, 또는 아마이드기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 극성 기능기를 도입하는 단계;드롭-캐스트법, 용액스프레이법, 잉크젯 프린팅법 또는 스크린 프린팅 법 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 상기 극성 기능기가 도입된 상기 산화물 층의 표면 상에, 유기 고분자를 도포하는 단계; 및상기 유기 고분자가 도포된 상기 산화물 층의 표면을 열처리하여, 상기 유기 고분자의 일 말단이 상기 극성 기능기와 반응하여 화학적으로 결합된 유기 고분자 층을 형성하는 단계;를 포함하는 하이브리드 층의 제조방법
15 15
제14 항에 있어서, 상기 산화물 층은 무기 산화물을 포함하는 단일층 또는 무기 산화물을 포함하는 다수 개의 층의 적층인 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
16 16
제15 항에 있어서, 상기 무기 산화물은 TiO2, SiO2, ZnO2, InZnO, Fe2O3, ZrO2, Al2O3, V2O5 및 Nb2O5로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 무기 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
17 17
유기물 층의 표면 상에, 히드록시기, 아만기, 카르복실기, 알콕시기, 또는 아마이드기로 이루어진 군에서 선택는 적어도 어느 하나를 포함하는 극성 기능기를 도입하는 단계;드롭-캐스트법, 용액스프레이법, 잉크젯 프린팅법 또는 스크린 프린팅 법 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 상기 극성 기능기가 도입된 상기 유기물 층의 표면 상에, 유기 고분자를 도포하는 단계; 및상기 유기 고분자가 도포된 상기 유기물 층의 표면을 열처리하여, 상기 유기 고분자의 일 말단이 상기 극성 기능기와 반응하여 화학적으로 결합된 유기 고분자 층을 형성하는 단계;를 포함하는 하이브리드 층의 제조방법
18 18
제14 항 또는 제 17항에 있어서, 상기 유기 고분자는 소수성 또는 친수성 고분자인 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
19 19
제14 항 또는 제 17항에 있어서, 상기 유기 고분자는 히드록시기; 카르복실기; -COOR1, -COOCOR1 또는 -CONR1R2로 표시되는 카르복실산 유도체; 아민기;이소시아네이트기; 및 -SiR1R2R3로 표시되는 실레인 유도체;로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나로 치환된 것임을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법,단, 상기 R1 내지 R3은 개별적으로 수소, 알콕시기, 할로겐족 원소 또는 탄소수 1 ~ 12의 알킬기 중 어느 하나이다
20 20
제14 항 또는 제 17항에 있어서, 상기 유기 고분자는 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리비닐리덴플루오라이드, 폴리트리클로로플루오로에틸렌, 폴리비닐플루오라이드, 폴리올레핀계, 폴리실란계, 폴리에스테르계, 폴리플루오르계, 폴리염화비닐계, 폴리아미드계, 폴리아크릴레이트계, 폴리스티렌계 및 이들의 공중합체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
21 21
제14 항 또는 제17 항에 있어서, 상기 유기 고분자는 중량 평균 분자량이 5,000 ~ 200,000 g/mol인 유기 고분자인 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
22 22
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23 23
제14 항 또는 제17 항에 있어서, 상기 유기 고분자 층을 3 ~ 20 nm 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
24 24
제14 항 또는 제17 항에 있어서, 상기 열처리는 50 ~ 200 ℃의 온도에서 1 ~ 10 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
25 25
제14 항 또는 제17 항에 있어서, 상기 열처리 이후, 세척하여 상기 유기 고분자 중 상기 극성 기능기와 결합하지 않은 잔여 유기 고분자를 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 층의 제조방법
26 26
제14항 또는 제17항의 방법으로 하이브리드 층을 제조하는 단계; 및상기 하이브리드 층에 유기 반도체를 습식 또는 진공 증착하는 단계;를 포함하는 유기 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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2 JP25535091 JP 일본 FAMILY
3 US09112161 US 미국 FAMILY
4 US20120248425 US 미국 FAMILY
5 WO2012134052 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
6 WO2012134052 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 JP2013535091 JP 일본 DOCDBFAMILY
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1 교육과학기술부 인하대학교 산학협력단 기본연구(모험) 분자-결정-구조 통합 제어된 압전성 고분자기반 플렉시블 나노 발전기