| 1 |
1
제1 금속박과 제2 금속박을 장입하기 위한 제1 챔버,상기 제1 챔버 내에 구비되어 상기 제1 금속박 및 제2 금속박의 표면에 각각 플라즈마를 조사하는 이온건,플라즈마 처리된 상기 제1 금속박 및 제2 금속박이 이송되는 제2 챔버,상기 제2 챔버 내에 구비되어 플라즈마 처리된 상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박의 표면을 서로 접합하여 저압 압연하는 롤링유닛, 그리고상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버 간의 진공도 차이를 유지하도록 상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버 사이에 설치되는 컨덕턴스(conductance)를 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
제1 항에 있어서,플라즈마 처리된 상기 제1 금속박 및 상기 제2 금속박을 상기 제2 챔버로 이송하기 위한 가이드 롤러를 더 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 4 |
4
제3 항에 있어서,상기 가이드 롤러는 상기 제1 금속박 및 제2 금속박을 냉각하기 위한 냉각유로를 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 5 |
5
제1 항에 있어서,상기 이온건은 상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박을 각각 300w 내지 3Kw의 플라즈마 파워로 처리하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 6 |
6
제1 항에 있어서,상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박이 장착되도록 상기 제1 챔버 내에 구비되는 언와인더(un-winder); 및제조된 정밀층상복합소재를 감도록 상기 제2 챔버 내에 구비되는 와인더(winder)를 더 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 7 |
7
제6 항에 있어서,상기 언와인더에서 이송되는 상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박의 응력을 제어하도록 상기 제1 챔버 내에 구비되는 응력 제어장치를 더 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 8 |
8
제7 항에 있어서,상기 응력 제어장치는, 상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박에 인가되는 하중을 측정하기 위한 센서 및상기 센서에서 측정된 하중에 근거하여 응력을 조절하도록 설치되는 브레이크 장치를 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 9 |
9
제6 항에 있어서,상기 언와인더에서 이송되는 상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박의 단부의 위치를 조정하도록 상기 제1 챔버 내에 구비되는 위치제어 장치를 더 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 10 |
10
제9 항에 있어서,상기 위치제어 장치는,상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박의 단부 위치를 검출하는 센서 및상기 센서에서 검출된 위치에 근거하여 상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박의 단부 위치를 조절하는 액츄에이터를 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 11 |
11
제6 항에 있어서,상기 와인더는 10m/min 이하의 구동속도로 상기 언와인더로부터 플라즈마 처리와 저압압연 처리 동안에 상기 제1 금속박과 상기 제2 금속박을 이송하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 12 |
12
제1 항에 있어서,상기 제1 챔버는 10-5 내지 10-6 Torr의 진공도를 가지며, 상기 제2 챔버는 10-6 내지 10-7 Torr의 진공도를 갖는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 13 |
13
제1 항에 있어서,상기 롤링유닛은 1 내지 3 %의 압하율을 가하여 압연하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 14 |
14
제1 항에 있어서,상기 롤링유닛은 3000kg 이하의 압하하중으로 압연하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 15 |
15
제1 항에 있어서,상기 제1 금속박은 Cu 및 Cu 합금계로 이루어지고, 상기 제2 금속박은 Ni계, Al계, Al계, Ag계 또는 Au계 합금으로 이루어지는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 16 |
16
제1 항에 있어서,상기 이온건은 200 내지 300sccm의 고순도 Ar 가스를 주입하여 플라즈마를 발생시켜 제1 금속박과 제2 금속박을 표면처리하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
| 17 |
17
제1 항에 있어서,상기 롤링유닛은 0
|
| 18 |
18
제1 항에 있어서,상기 롤링유닛은 압하하중 값을 읽을 수 있는 로드셀 및 상기 로드셀에서 읽은 값을 표시할 수 있는 인디케이터를 포함하는 정밀층상복합소재의 제조장치
|
