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하부 클래드층; 상기 하부 클래드층 상에 형성되며, 광파를 전송하는 코아층; 및 상기 코아층의 상부에 형성되는 상부 클래드층을 포함하되, 상기 상부 클래드층 및 하부 클래드층 중 적어도 어느 하나가, 적어도 두 개의 클래드층들을 포함하고, 상기 적어도 두 개의 클래드층들은 상기 광파가 입출력되는 입출력 영역과 상기 광파가 변조되는 능동 영역에서, 상기 코아층과의 굴절률차가 서로 다르도록, 서로 다른 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광도파로
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제 1 항에 있어서, 상기 굴절률차는, 상기 입출력 영역에 비해 상기 능동 영역에서 큰 것을 특징으로 하는 광도파로
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제 1 항에 있어서, 상기 적어도 두개의 클래드층들 중 굴절률이 큰 클래드층은, 상기 입출력 영역에 형성된 것을 특징으로 하는 광도파로
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 큰 클래드층은, 상기 입출력 영역에서부터 상기 능동 영역까지 연장되어 형성되되, 상기 능동 영역에 비해 상기 입출력 영역에서 두껍게 형성된 것을 특징으로 하는 광도파로
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 큰 클래드층은, 상기 능동 영역에서 상기 코아층의 립 구조나 채널 구조의 광도파로를 경계로 양측으로 분리되어 형성된 것을 특징으로 하는 광도파로
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제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 큰 클래드층은, 상기 입출력 영역과 상기 능동 영역의 근접영역에서, 상기 입출력 영역에서 상기 능동 영역 방향으로 경사면의 테이퍼 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 광도파로
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7
제 6 항에 있어서, 상기 테이퍼 영역에서는, 일부가 상기 상부 클래드층의 적어도 두개의 클래드층들 중 굴절률이 작은 클래드층의 일부와 테이퍼 형태로 중첩된 것을 특징으로 하는 광도파로
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8
제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 큰 클래드층은, 상기 능동 영역에서 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 작은 클래드층과 중첩된 것을 특징으로 하는 광도파로
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9
제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 작은 클래드층은, 상기 능동 영역에서부터 상기 입출력 영역까지 연장되어 형성되되, 상기 입출력 영역에 비해 상기 능동 영역에서 두껍게 형성된 것을 특징으로 하는 광도파로
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10
제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 작은 클래드층은, 상기 능동 영역과 상기 입출력 영역의 근접영역에서, 상기 능동 영역에서 상기 입출력 영역 방향으로 경사면의 테이퍼 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 광도파로
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11
제 10 항에 있어서, 상기 테이퍼 영역에서는, 일부가 상기 상부 클래드층의 적어도 두개의 클래드층들 중 굴절률이 큰 클래드층의 일부와 테이퍼 형태로 중첩되는 것을 특징으로 하는 광도파로
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12
제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 작은 클래드층은, 상기 입출력 영역에서 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 큰 클래드층과 중첩된 것을 특징으로 하는 광도파로
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13
제 1 항에 있어서, 상기 상부 클래드층의 적어도 두 개의 클래드층들 중 굴절률이 작은 클래드층은, 상기 입출력 영역에서 상기 코아층의 립 구조나 채널 구조의 광도파로를 경계로 양측으로 분리된 것을 특징으로 하는 광도파로
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14
제 1 항에 있어서, 상기 능동 영역에는, 전기광학 효과를 이용하여 상기 광파를 변조시키기 위하여, 상기 상부 클래드층의 상부에 형성되는 상부전극; 및 상기 하부 클래드층의 하부에 형성되는 하부전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로
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15
제 1 항에 있어서, 상기 능동 영역에는, 열광학 효과를 이용하여 상기 광파를 변조시키기 위하여, 상기 상부 클래드층의 상부에 형성되는 상부전극; 및 상기 하부 클래드층의 하부에 형성되는 열흡수층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로
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16
제 15 항에 있어서, 상기 열흡수층은, 기판으로 기능하는 것을 특징으로 하는 광도파로
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(a) 광섬유와 결합되는 입출력 영역과, 상기 광섬유로부터 전송되는 광파를 변조시키는 능동 영역으로 정의되는 기판을 제공하는 단계; (b) 상기 기판 상에 하부 클래드층을 형성하는 단계; (c) 상기 하부 클래층 상에 코아를 코팅한 후, 일부를 패터닝하여 립 구조나 채널 구조의 광도파로를 갖는 코아층을 형성하는 단계; (d) 상기 코아층 상에 상기 코아층의 굴절률보다 작은 제1 상부 클래드층을 형성하는 단계; (e) 상기 능동 영역의 상기 립 구조나 채널 구조의 광도파로의 상부 표면이 노출되도록, 상기 제1 상부 클래드층을 식각하는 단계; 및 (f) 상기 (e) 단계에서 식각되는 부위에 상기 제1 상부 클래드층의 굴절률보다 작은 제2 상부 클래드층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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18
제 17 항에 있어서, 상기 (b) 단계전에, 상기 능동 영역의 상기 기판 상에 하부전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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19
제 17 항에 있어서, 상기 (f) 단계후에, 상기 능동 영역의 상기 제2 상부 클래드층 상에 상부전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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20
제 17 항에 있어서, 상기 기판은, 실리콘기판, Ⅲ-Ⅴ족 반도체기판 및 유리기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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21
제 17 항에 있어서, 상기 기판은, 열흡수체용 기판인 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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제 17 항에 있어서, 상기 (e) 단계에서, 상기 제1 상부 클래드층은, 상기 능동 영역 방향으로 비스듬하게 테이퍼 형태로 식각되는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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23
(a) 광섬유와 결합되는 입출력 영역과, 상기 광섬유로부터 전송되는 광파를 변조시키는 능동 영역으로 정의되는 기판을 제공하는 단계; (b) 상기 기판 상에 하부 클래드층을 형성하는 단계; (c) 상기 하부 클래층 상에 코아를 코팅한 후, 일부를 패터닝하여 립 구조나 채널 구조의 광도파로를 갖는 코아층을 형성하는 단계; (d) 상기 코아층 상에 상기 코아층의 굴절률보다 작은 제1 상부 클래드층을 형성하는 단계; (e) 상기 입출력 영역의 상기 립 구조나 채널 구조의 광도파로의 상부 표면이 노출되도록, 상기 제1 상부 클래드층을 식각하는 단계; 및 (f) 상기 (e) 단계에서 식각되는 부위에 상기 제1 상부 클래드층의 굴절률보다 큰 제2 상부 클래드층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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제 23 항에 있어서, 상기 (e) 단계에서, 상기 제1 상부 클래드층은, 상기 입출력 영역 방향으로 비스듬하게 테이퍼 형태로 식각되는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조방법
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