맞춤기술찾기

이전대상기술

레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작장치

  • 기술번호 : KST2015079234
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야본 발명은 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치에 관한 것임.2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제본 발명은 레이저 직접묘화에 의해 마스크나 별도의 추가공정 없이 고분자 기판에 레이저빔을 직접 조사하는 단순한 공정으로 고분자의 굴절률을 변화시켜 손쉽게 정밀한 광도파로를 제작할 수 있는, 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치를 제공하고자 함.3. 발명의 해결방법의 요지본 발명은 광반응성 고분자 기판, 상기 광반응성 고분자 기판을 이송하기 위한 이송 스테이지, 및 줌기능이 있는 줌대물렌즈를 구비한 광도파로 제작 장치에 있어서, 레이저빔을 출력하기 위한 레이저 광원; 상기 레이저 광원에서 출력된 레이저빔의 광출력을 조절하고 변조하기 위한 변조수단; 상기 변조수단에서 출력된 빔의 노이즈를 제거하고 평행광을 확보하기 위한 렌즈부; 상기 렌즈부에서 출력된 빔의 경로를 변경시키기 위한 반사수단; 상기 반사수단에서 출력된 빔을 분리하기 위한 빔분리수단; 레이저빔의 경로차를 이용한 간섭무늬 형성을 통해 묘화공정 전에 초점을 확인할 수 있도록 하기 위한 초점확인수단; 광파워를 검출하기 위한 수광소자; 상기 변조수단과 상기 이송 스테이지를 제어하고, 상기 수광소자로부터 파워값을 입력받아 상기 입력받은 파워값의 변화에 따라 압전변환수단을 구동·제어하기 위한 제어수단; 및 상기 제어수단으로부터의 구동제어신호에 따라 상기 줌대물렌즈의 위치를 순간적으로 미세조정하기 위한 상기 압전변환수단을 포함함.4. 발명의 중요한 용도본 발명은 광통신 시스템 등에 이용됨. 광통신, WDM, 광도파로, 레이저, 묘화, 카메라, 압전변환기, 렌즈
Int. CL G02B 6/12 (2006.01)
CPC G02B 6/13(2013.01) G02B 6/13(2013.01)
출원번호/일자 1020030054576 (2003.08.07)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0542828-0000 (2006.01.05)
공개번호/일자 10-2005-0015645 (2005.02.21) 문서열기
공고번호/일자 (20060120) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.08.07)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 안승호 대한민국 대전광역시유성구
2 이우진 대한민국 전라북도전주시덕진구
3 윤근병 대한민국 대전광역시유성구
4 최태구 대한민국 대전광역시유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2003.08.07 수리 (Accepted) 1-1-2003-0291494-73
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.01.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.02.15 수리 (Accepted) 9-1-2005-0007204-44
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0312041-68
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2005-0484955-60
6 의견서
Written Opinion
2005.09.21 수리 (Accepted) 1-1-2005-0526624-37
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.09.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0526623-92
8 등록결정서
Decision to grant
2005.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0657909-29
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광반응성 고분자 기판, 상기 광반응성 고분자 기판을 이송하기 위한 이송 스테이지, 및 줌기능이 있는 줌대물렌즈를 구비한 광도파로 제작 장치에 있어서,레이저빔을 출력하기 위한 레이저 광원;상기 레이저 광원에서 출력된 레이저빔의 광출력을 조절하고 변조하기 위한 변조수단;상기 변조수단에서 출력된 빔의 노이즈를 제거하고 평행광을 확보하기 위한 렌즈부;상기 렌즈부에서 출력된 빔의 경로를 변경시키기 위한 반사수단;상기 반사수단에서 출력된 빔을 분리하기 위한 빔분리수단;레이저빔의 경로차를 이용한 간섭무늬 형성을 통해 묘화공정 전에 초점을 확인할 수 있도록 하기 위한 초점확인수단;광파워를 검출하기 위한 수광소자;상기 변조수단과 상기 이송 스테이지를 제어하고, 상기 수광소자로부터 파워값을 입력받아 상기 입력받은 파워값의 변화에 따라 압전변환수단을 구동·제어하기 위한 제어수단; 및상기 제어수단으로부터의 구동제어신호에 따라 상기 줌대물렌즈의 위치를 순간적으로 미세조정하기 위한 상기 압전변환수단을 포함하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 레이저 광원에서 출력되는 레이저빔은,실질적으로, TEM01모드인 것을 특징으로 하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 렌즈부는,상기 레이저 광원과 상기 변조수단을 거쳐 나온 빔을 제 1 렌즈로 입사시켜 빔의 크기를 줄인 후에, 미세한 핀홀(Pin hole)을 통과시켜 노이즈를 제거한 다음에, 다시 상기 제 1 렌즈와 반대형상의 제 2 렌즈를 통과시켜 빔을 평행광으로 만드는 것을 특징으로 하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 줌대물렌즈는,광도파로의 폭에 따라 상기 광반응성 고분자 기판의 표면에 집속되는 레이저빔의 크기를 미세 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 빔분리수단은,상기 반사수단에서 출력되어 입사되는 레이저빔을 두 개의 빔으로 분리하고, 다시 반사에 의해 합해진 이들 빔을 상기 초점확인수단으로 출력하는 것을 특징으로 하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
6 6
제 1 항에 있어서,상기 수광소자는,상기 광반응성 고분자 기판의 표면의 불균일에 의한 높이 차이를 보정하기 위해 별도의 추가 광원을 이용하지 않고, 상기 광반응성 고분자 기판에서 반사되는 레이저빔의 광파워를 검출하여 상기 제어수단으로 출력하는 것을 특징으로 하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
7 7
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어수단은,상기 수광소자로부터 입력되는 광파워를 모니터링하고 상기 모니터링한 결과를 이용하여 상기 압전변환수단을 제어하여 광파워가 자동으로 일정하게 유지되도록 하고 묘화공정 중 일정한 초점거리를 확보하여 자동으로 초점이 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
8 7
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어수단은,상기 수광소자로부터 입력되는 광파워를 모니터링하고 상기 모니터링한 결과를 이용하여 상기 압전변환수단을 제어하여 광파워가 자동으로 일정하게 유지되도록 하고 묘화공정 중 일정한 초점거리를 확보하여 자동으로 초점이 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 레이저 묘화 기법을 이용한 고분자 평면형 광도파로 제작 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.