| 1 |
1
광도파로 영역 및 광소자 실장을 위한 트렌치 영역을 제공하는 기판과, 상기 기판의 광도파로 영역 일부분에 형성되며 하부 클래드, 코어 및 제 1 상부 클래드가 적층된 구조의 광도파로와, 상기 광도파로의 측벽과 인접되도록 상기 기판의 광도파로 영역에 형성된 제 2 상부 클래드와, 상기 기판의 트렌치 영역에 형성된 적어도 하나 이상의 테라스와, 광축이 상기 광도파로 코어의 중심과 정렬되도록 상기 테라스 상에 실장된 광소자와, 상기 광소자와의 전기적인 연결을 위해 상기 트렌치 영역에 형성된 패드 및 배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 광도파로의 하부 클래드, 코어 및 제 1 상부 클래드와 상기 제 2 상부 클래드는 열광학 특성이 서로 다른 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
|
| 3 |
3
제 2 항에 있어서, 상기 광도파로의 하부 클래드, 코어 및 제 1 상부 클래드는 실리카로 이루어지고, 상기 제 2 상부 클래드는 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
|
| 4 |
4
제 3 항에 있어서, 상기 하부 클래드를 이루는 실리카는 고압 열산화 실리카인 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 광도파로의 측벽이 광학적 거울면으로 형성된 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서, 상기 광도파로의 측벽에 상기 광소자로부터 발생되는 열에 의한 손상을 막기 위해 소정 두께의 실리카층이 더 구비된 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
|
| 7 |
7
광도파로 영역 및 광소자 실장을 위한 트렌치 영역으로 이루어지는 기판이 제공되는 단계와, 상기 기판 상에 하부 클래드층, 코어층 및 제 1 상부 클래드층을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 제 1 상부 클래드층, 코어층 및 하부 클래드층의 일부를 패터닝하여 상기 광도파로 영역의 일부분에 광도파로를 형성하고 상기 광도파로의 측벽을 광학적 거울면으로 만드는 단계와, 전체 상부면에 제 2 상부 클래드층을 형성한 후 상기 광도파로 영역의 제 2 상부 클래드층 상에 제 1 마스크 패턴을 형성하는 단계와, 상기 트렌치 영역의 노출된 제 2 상부 클래드층을 식각하여 트렌치를 형성하는 단계와, 상기 트랜치의 노출된 하부 클래드층 상에 제 2 마스크 패턴을 형성한 후 노출된 부분의 상기 하부 클래드층을 소정 깊이 식각하여 테라스를 형성하는 단계와, 상기 제 1 및 제 2 마스크 패턴을 제거한 후 상기 트렌치의 하부 클래드층 상에 솔더 패드 및 금속 배선 형성하는 단계와, 광축이 상기 광도파로 코어층의 중심과 정렬되도록 상기 테라스 상에 광소자를 실장하는 동시에 상기 솔더 패드 및 금속 배선과 상기 광소자를 전기적인 연결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
|
| 8 |
8
제 7 항에 있어서, 상기 광도파로의 하부 클래드층, 코어층 및 제 1 상부 클래드층과 상기 제 2 상부 클래드층은 열광학 특성이 서로 다른 물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
|
| 9 |
9
제 8 항에 있어서, 상기 광도파로의 하부 클래드층, 코어층 및 제 1 상부 클래드층은 실리카로 형성하고, 상기 제 2 상부 클래드층은 폴리머로 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
|
| 10 |
10
제 7 항에 있어서, 상기 제 2 상부 클래드층을 형성한 후 상기 광도파로의 단차로 인해 생긴 표면의 굴곡을 제거하기 위해 상기 제 2 상부 클래드층을 평탄화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
|
| 11 |
10
제 7 항에 있어서, 상기 제 2 상부 클래드층을 형성한 후 상기 광도파로의 단차로 인해 생긴 표면의 굴곡을 제거하기 위해 상기 제 2 상부 클래드층을 평탄화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
|
