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하나 이상의 파장의 빔을 동시에 각각 발생시키는 제1, 2 광원과,
상기 제1, 2 광원으로부터 발생된 빔을 집속시키는 렌즈와,
상기 렌즈에 의해 집속된 빔을 리트로(Littrow) 회절 조건 및 리트만(Littman-Metcalf) 회절 조건에 따라 각각 회절시키는 제1, 2 회절부로 구성된 이중 회절격자를 포함하며,
상기 이중 회절격자의 제1, 2 회절부에 의해 회절된 각 빔의 비팅(beating)에 의해 테라헤르츠파가 생성되는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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제 1항에 있어서,
상기 이중 회절격자의 제1 회절부는 제1 파장에서 리트로(Littrow) 회절 조건을 만족할 수 있도록 제1 격자 주기를 가지며, 상기 이중 회절격자의 제2 회절부는 제2 파장에서 리트만(Littman-Metcalf) 회절 조건을 만족할 수 있도록 제2 격자 주기를 갖는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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제 2항에 있어서,
상기 제1 광원으로부터 상기 제1 파장의 빔과 상기 제2 파장의 빔이 발생되며, 상기 제1 파장의 빔과 상기 제2 파장의 빔은 일정한 파장 간격을 갖는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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제 3항에 있어서,
상기 제1 광원으로부터 발생된 제1 파장의 빔은 상기 이중 회절격자의 제1 회절부에서 리트로(Littrow) 회절 조건에 따라 회절되어 상기 제1 광원으로 입사되는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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5
제 4항에 있어서,
상기 리트로 회절 조건에 따라 회절된 제1 파장의 빔에 의해 상기 제1 광원이 발진하는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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6
제 3항에 있어서,
상기 제1 광원으로부터 발생된 제2 파장의 빔은 상기 이중 회절격자의 제2 회절부에서 리트만(Littman-Metcalf) 회절 조건에 따라 회절되어 상기 제2 광원으로 입사되는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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7
제 6항에 있어서,
상기 리트만 회절 조건에 따라 회절된 제2 파장의 빔에 의해 상기 제2 광원이 발진하는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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8
제 3항에 있어서,
상기 제1, 2 파장의 빔이 상기 이중 회절격자의 제1, 2 회절부에서 각각 회절되어 상기 회절된 제1, 2 파장의 빔의 비팅(beating)에 의해 소정의 파장 간격을 갖는 테라헤르츠파가 생성되는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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9
제 1항에 있어서,
상기 제2 광원이 레이저 다이오드 어레이로 구성된 경우,
상기 제1 광원이 리트로(Littrow) 회절 조건에 의해 발진하고, 상기 레이저 다이오드 어레이 중 어느 하나의 레이저 다이오드가 리트만(Littman-Metcalf) 회절 조건에 의해 발진하는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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10
제 1항에 있어서,
인가되는 전기 신호에 따라 굴절률이 변화되는 가변 편향기가 상기 리트만(Littman-Metcalf) 회절이 일어나는 경로상에 배치된 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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11
제 10항에 있어서,
상기 가변 편향기의 굴절률 변화에 따라 상기 이중 회절격자의 제2 회절부에서 리트만(Littman-Metcalf) 회절 조건에 의해 회절된 빔의 파장이 연속적으로 가변되어 상기 테라헤르츠파의 주파수가 가변되는 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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12
제 1항에 있어서,
상기 제1, 2 광원은 하나 이상의 파장의 빔을 동시에 각각 발생시키는 페브리-페롯(Fabry-Perot) 반도체 레이저인 것을 특징으로 하는 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자
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