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광 통신 시스템의 광원 발생기에서 생성되는 광원의 파장 가변 시간을 단축시키기 위한 동작 온도 조절을 제어 및 감시하는 과정과, 상기 광원 발생기의 현재 동작 온도가 최종 목표 온도에 도달하면 상기 광원 발생 장치로 동작 전류를 공급하는 과정과, 상기 광원 발생기로의 상기 동작 전류를 제어 및 감시하는 과정과, 상기 동작 전류가 최종 동작 전류에 도달하면 상기 광원의 파장 가변을 중단하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 방법
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제1항에 있어서, 상기 광원의 파장 가변 시간을 단축시키기 위한 동작 온도 조절을 제어 및 감시하는 과정은, 제1구간의 온도 변화 제어 및 감시를 통해 상기 광원 발생기의 초기 동작 온도를 미리 설정된 1차 목표 온도로 조절하는 단계와, 상기 초기 동작 온도가 상기 1차 목표 온도에 도달하면, 제2구간의 온도 변화를 제어 및 감시를 통해 감시된 현재 동작 온도를 최종 목표 온도로 조절하는 단계와, 상기 제2구간의 온도 변화 제어 및 감시를 반복 수행하여 반복 수행에 따른 순환 시간을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 방법
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제2항에 있어서, 상기 광원 발생기의 초기 동작 온도를 미리 설정된 1차 목표 온도로 조절하는 단계는, 상기 최종 목표 온도와 상기 초기 동작 온도와의 차이 절대값과 상기 1차 목표 온도 결정값을 비교하는 단계와, 상기 차이 절대값이 상기 1차 목표 온도 절대값보다 큰 경우 상기 1차 목표 온도를 구하는 단계와, 상기 구한 1차 목표 온도로 상기 초기 동작 온도를 상기 제1구간의 온도 변화 범위만큼 조절하는 단계와, 상기 광원 발생기의 현재 동작 온도를 감시하여 현재 동작 온도가 상기 1차 목표 온도에 도달하였는지를 확인하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 방법
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제3항에 있어서, 상기 1차 목표 온도는 상기 최종 목표 온도와 상기 초기 동작 온도와의 차이값이 0보다 큰 경우 상기 초기 동작 온도와 상기 1차 목표 온도 결정값을 더하여 구함을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 방법
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제3항에 있어서, 상기 1차 목표 온도는 상기 최종 목표 온도와 상기 초기 동작 온도와의 차이값이 0보다 작은 경우 상기 초기 동작 온도에서 상기 1차 목표 온도 결정값을 뺀 값임을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 방법
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제2항에 있어서, 상기 최종 목표 온도와 상기 초기 동작 온도와의 차이값이 0인 경우 상기 광원 발생기로 상기 동작 전류를 공급하도록 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 방법
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광원을 발생하고, 제어 신호에 따라 동작 온도 및 동작 전류를 조절하는 광원 발생기와, 상기 광원 발생기의 동작 온도 조절 및 동작 전류를 제어하기 위한 제어 신호를 발생하고, 상기 동작 온도 및 동작 전류를 감시하여 광원의 파장 가변 시간을 단축시키며, 상기 광원 발생 장치의 현재 동작 온도가 최종 목표 온도에 도달하면 상기 광원 발생 장치로 동작 전류를 공급하는 제어 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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제7항에 있어서, 상기 제어 회로는 제1구간의 온도 변화 및 제2구간의 온도 변화 범위로 구분하여 상기 동작 온도를 조절하고, 상기 제2구간 온도 변화범위에서의 상기 동작 온도 조절을 위한 제어 및 감시를 반복 수행함에 따른 순환 시간을 조절함을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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제8항에 있어서, 상기 제어회로는 상기 최종 목표 온도와 초기 동작 온도와의 차이 절대값이 상기 1차 목표 온도 절대값보다 큰 경우 상기 1차 목표 온도를 구하고, 구해진 상기 1차 목표 온도로 상기 초기 동작 온도를 큰 폭으로 조절하여 상기 초기 동작 온도가 상기 1차 목표 온도에 도달하면, 상기 제2구간의 온도 변화만큼 상기 광원 발생기의 현재 동작 온도를 조절 및 감시하여 상기 최종 목표 온도가 되도록 제어함을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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제9항에 있어서, 상기 1차 목표 온도는 상기 최종 목표 온도와 상기 초기 동작 온도와의 차이값이 0보다 큰 경우 상기 초기 동작 온도와 상기 1차 목표 온도 결정값을 더한 값이고, 상기 최종 목표 온도와 상기 초기 동작 온도와의 차이값이 0보다 작은 경우 상기 초기 동작 온도에서 상기 1차 목표 온도 결정값을 뺀 값임을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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제7항에 있어서, 상기 제어 회로는 상기 동작 전류가 최종 동작 전류에 도달하면 상기 광원의 파장 가변을 중단함을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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제7항에 있어서, 상기 제어 회로는,상기 광원 발생기의 동작 온도를 제어하기 위한 제어 신호를 발생하는 동작 온도 제어부와, 상기 광원발생기로부터 감시된 동작 온도를 확인하는 동작 온도 감시부와, 상기 광원 발생기의 동작 전류를 제어하기 위한 제어 신호를 발생하는 동작 전류 제어부와, 상기 동작 절류 제어부로부터의 신호를 수신하여 상기 광원발생기로 공급되는 동작 전류를 감시하는 동작 전류 감시부와, 상기 감시된 동작 온도 및 동작 전류에 따라 상기 광원 발생기로의 제어 신호 발생을 제어하는 제어기를 포함하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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제12항에 있어서, 상기 제어 회로는, 상기 광원 발생기로부터의 신호에 따라 파장 가변을 감시하여 제어부로 통보하는 파장 감시부와, 상기 광원 발생기부터의 신호에 따라 전력을 감시하여 상기 제어기로 통보하는 전력 감시부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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제7항에 있어서, 상기 광원 발생기는, 상기 제어 회로로부터 발생되는 제어 신호에 따라 현재 동작 온도를 조절하는 열전 냉각기와, 상기 열전 냉각기에 의해 조절된 현재 동작 온도를 감시하는 온도 감시기와, 상기 광원을 발생하는 레이저 다이오드와, 상기 발생되는 광원의 일부를 투과시켜 광원의 파장에 의존하는 광량을 변화하여 출력하는 에탈론 필터와, 상기 에탈론 필터를 투과한 광을 전기 신호로 변환하는 광 파장 감시기와, 상기 발생되는 광원의 일부를 전기 신호로 변환하여 상기 레이저 다이오드의 광 전력을 감시하는 광 세기 감시기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광통신 시스템에서의 광원 파장 가변 제어 장치
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