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마이크로 패턴과 나노 패턴이 함께 형성된 세포 배양용 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 나노 패턴은 동일한 간격으로 형성된 복수의 돌기 형상인, 세포 배양용 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 나노 패턴은 표면이 친수성 물질로 코팅된 것인, 세포 배양용 기판
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제 3 항에 있어서, 상기 친수성 물질은 금, 은, 티타늄 옥사이드, 크롬 옥사이드, 구리 옥사이드, 알루미늄 옥사이드 및 이산화 규소로 이루어진 군에서 선택되는 물질인 것인, 세포 배양용 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 나노 패턴은 UV 경화형 수지에 의해 형성되는 것인, 세포 배양용 기판
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제 5 항에 있어서, 상기 UV 경화형 수지는 폴리우레탄, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리우레탄 아크릴레이트, 실리콘 및 폴리다이메틸실록세인로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질로 구성되는 고분자인 것인, 세포 배양용 기판
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7
제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 패턴은 전도성 하이드로젤에 의해 형성되는 것인, 세포 배양용 기판
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제 7 항에 있어서, 상기 전도성 하이드로젤은 (i) 생체적합성 고분자 및 (ii) 환원된 산화 그래핀 및 금속 나노와이어 중 어느 하나 이상을 포함하는 것인, 세포 배양용 기판
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9
제 7 항에 있어서, 상기 마이크로 패턴은 기판에 형성된 나노패턴 상부에 형성되는 것인, 세포 배양용 기판
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10
제 9 항에 있어서, 상기 마이크로 패턴은 일 방향으로 연장되는 복수 개의 선형 구조를 포함하며, 상기 복수 개의 선형 구조는 소정의 간격을 사이에 두고 서로 이격되도록 기판상에 배치되는 것인, 세포 배양용 기판
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11
제 10 항에 있어서, 상기 소정의 간격은 100 μm 내지 500 μm 인, 세포 배양용 기판
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12
제 1 항에 있어서, 상기 세포 배양용 기판은 전압이 인가(apply)되는 것인, 세포 배양용 기판
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13
제 12 항에 있어서, 상기 전압은 5 V 내지 10 V로 인가 되는 것인, 세포 배양용 기판
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14
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세포 배양용 기판은 ECM(extracellular matrix) 기질로 코팅된 것인, 세포 배양용 기판
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15
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항의 세포 배양용 기판에 세포를 배양하는 단계를 포함하는 세포 배양 방법
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제 15 항에 있어서, 상기 세포를 배양하는 단계는 상기 세포 배양용 기판에 전압을 인가하여 세포를 배양하는 것인, 세포 배양 방법
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17
제 16 항에 있어서, 상기 전압의 인가는 마이크로 패턴이 배열된 방향에 수직방향으로 인가되는 것인, 세포 배양 방법
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18
제 16 항에 있어서, 상기 전압은 5 V 내지 10 V 로 인가 되는 것인, 세포 배양 방법
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