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스텐트의 표면에 제1 생분해성 고분자 및 약물의 혼합액을 초음파 분사하여 코팅층을 형성시키는 단계;상기 코팅층이 형성된 스텐트와 클로로포름 용매를 접촉시키는 단계; 및 25℃ 내지 80℃의 온도 조건에서 상기 용매를 증발시키는 단계를 포함하는 스텐트의 표면 개질 방법
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스텐트의 표면에 제1 생분해성 고분자 및 약물의 혼합액을 초음파 분사하여 코팅층을 형성시키는 단계; 및상기 코팅층이 형성된 스텐트의 표면에 제2 생분해성 고분자 및 용매를 포함하는 용액을 분사하는 단계를 포함하는 스텐트의 표면 개질 방법
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스텐트의 표면에 제1 생분해성 고분자 및 약물의 혼합액을 초음파 분사하여 코팅층을 형성시키는 단계;상기 코팅층이 형성된 스텐트를 20℃ 내지 150℃의 온도 조건으로 가열하는 단계를 포함하는 스텐트의 표면 개질 방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스텐트는 스테인리스 스틸, 코발트-크롬, 백금-크롬, 탄탈륨, 티타늄, 니티놀, 금, 백금, 은 및 그의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속 재질인 것인 방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 생분해성 고분자는 폴리글리콜산, 폴리-L-락트산, 폴리-D-락트산, 폴리-D,L-락트산, 폴리-e-카프로락톤, 폴리락트산-글리콜산 공중합체(PLGA), 폴리-L-락트산-e-카프로락톤 공중합체(PLCL), 폴리에틸렌글리콜, 폴리아미노산, 폴리안하이드라이드, 폴리오르쏘에스테르, 폴리디옥사논, 폴리포스파겐, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트, 셀룰로오스 트리 아세테이트 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것인 방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 생분해성 고분자는 2,000 내지 200,000의 분자량을 갖는 것인 방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 생분해성 고분자는 0
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 약물은 치옥트산, 시롤리무스, 파클리탁셀, 리오프로, 덱사메타손, 타크로리무스, 미코페놀릴산, 에스트라디올 및 질소 산화물(nitric oxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 방법
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제2항에 있어서, 상기 용매는 아세톤, 클로로포름, 에틸 아세테이트, 톨루엔, 벤젠, 메틸렌클로라이드, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 아세트 니트릴 및 자일렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 방법
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스텐트의 표면에 제1 생분해성 고분자 및 약물의 혼합액을 초음파 분사하여 코팅층을 형성시키는 단계;상기 코팅층이 형성된 스텐트와 테트라히드로퓨란 용매를 접촉시키는 단계; 및 25℃ 내지 80℃의 온도 조건에서 상기 용매를 1초 내지 200초 동안 증발시키는 단계를 포함하는 스텐트의 표면 개질 방법
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스텐트의 표면에 제1 생분해성 고분자 및 약물의 혼합액을 초음파 분사하여 코팅층을 형성시키는 단계;상기 코팅층이 형성된 스텐트와 아세톤, 에틸 아세테이트, 톨루엔, 벤젠, 메틸렌클로라이드, 다이옥산, 아세트 니트릴 및 자일렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 용매를 접촉시키는 단계; 및 25℃ 내지 80℃의 온도 조건에서 상기 용매를 증발시키는 단계를 포함하는 스텐트의 표면 개질 방법
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