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1
시료를 이동 또는 회전시키는 스테이지;
상기 시료의 분석을 위한 탐지광을 투사하는 광원;
상기 탐지광을 반사하는 기준 거울;
상기 탐지광을 상기 기준 거울 및 상기 시료 측으로 분배하는 광 분배기; 및
상기 탐지광을 분석하여 상기 시료의 특성을 판별하는 분석 장치
를 포함하고,
상기 광 분배기는 상기 기준 거울 및 상기 시료로부터 반사되는 상기 탐지광을 상기 분석 장치 측으로 제공하는 간섭계형 시료 형상 측정 장치
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제1항에 있어서,
상기 스테이지는,
상기 시료를 이동 또는 회전시킨 정보를 상기 분석 장치 측으로 제공하는 간섭계형 시료 형상 측정 장치
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3 |
3
제1항에 있어서,
상기 광 분배기는,
이동 또는 회전하여 상기 시료 측으로 탐지광을 분배하고, 상기 광 분배기의 이동 또는 회전한 정보를 상기 분석 장치 측으로 제공하는 간섭계형 시료 형상 측정 장치
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4 |
4
제2항에 있어서,
상기 분석 장치는,
상기 스테이지가 상기 시료를 이동 또는 회전시킨 정보에 기초해 상기 탐지광을 분석하여 상기 시료의 특성을 판별하는 간섭계형 시료 형상 측정 장치
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5
스테이지가 시료를 이동 또는 회전시키는 단계;
광원이 상기 시료의 분석을 위한 탐지광을 투사하는 단계;
기준 거울이 상기 탐지광을 반사하는 단계;
광 분배기가 상기 탐지광을 상기 기준 거울 및 상기 시료 측으로 분배하고, 상기 기준 거울 및 상기 시료로부터 반사되는 상기 탐지광을 분석 장치 측으로 제공하는 단계 - 상기 분석 장치는 상기 기준 거울 및 상기 시료로부터 반사되는 상기 탐지광의 간섭 무늬를 분석함 -; 및
상기 분석 장치가 상기 탐지광을 분석하여 상기 시료의 특성을 판별하는 단계
를 포함하는 간섭계형 시료 형상 측정 방법
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6 |
6
제5항에 있어서,
상기 스테이지가 시료를 이동 또는 회전시키는 단계는,
상기 스테이지가 상기 시료를 이동 또는 회전시킨 정보를, 상기 분석 장치 측으로 제공하는 단계
를 더 포함하는 간섭계형 시료 형상 측정 방법
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7 |
7
제5항에 있어서,
상기 기준 거울 및 상기 시료로부터 반사되는 상기 탐지광을 분석 장치 측으로 제공하는 단계는,
상기 광 분배기가 이동 또는 회전하여 상기 시료 측으로 상기 탐지광을 분배하는 단계; 및
상기 광 분배기의 이동 또는 회전한 정보를 상기 분석 장치 측으로 제공하는 단계
를 더 포함하는 간섭계형 시료 형상 측정 방법
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8
제6항에 있어서,
상기 분석 장치가 상기 탐지광을 분석하여 상기 시료의 특성을 판별하는 단계는,
상기 분석 장치가 상기 스테이지가 상기 시료를 이동 또는 회전시킨 정보에 기초해 상기 탐지광을 분석하여 상기 시료의 특성을 판별하는 단계
인 간섭계형 시료 형상 측정 방법
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