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실리케이트 네트워크에 의한 나노 채널 형상의 실리카 골격, 상기 실리카 골격 내부의 Si와 탄소수 1~5의 직쇄 탄화수소에 의해 연결되는 질소원자(N)를 포함하는 폴리아닐린 (PANI) 사슬, 및 상기 폴리아닐린 사슬과 정전기적 상호작용으로 결합된 β-나프탈렌 설폰산 (NSA)에 의해 형성된 미셀 (micelle)을 포함하며,상기 폴리아닐린 사슬이 상기 나노 채널 벽 내부에 균일한 막을 형성하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질
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제 1 항에 있어서, 상기 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질이 정렬된 육각형 배열을 갖는 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질
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제 1 항에 있어서, 상기 탄소수 1~5의 직쇄 탄화수소가 프로필렌(propylene)인 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질
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제 1 항에 있어서, 상기 나노 채널 벽 내부의 균일한 막이 상기 나노 채널 구멍을 완전히 블로킹하지 않는 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질
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트리메톡시실릴프로필아닐린 (TMSPA)을 β-나프탈렌 설폰산 (NSA)에 녹이고 교반하는 단계;상기에서 제조된 용액에 암모늄 퍼설페이트 (APS)를 첨가하는 단계; 및상기 단계에서 형성된 침전물을 회수하여 세척 및 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 암모늄 퍼설페이트 (APS)를 일정한 속도로 교반하면서 드롭와이즈로 첨가하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 암모늄 퍼설페이트 (APS)의 첨가가 2~8℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 트리메톡시실릴프로필아닐린 (TMSPA) 분자들은, TMSPA 중의 -NH2 그룹과 상기 β-나프탈렌 설폰산(NSA) 중의 SO3- 그룹 사이의 정전기적 상호작용에 의하여, 구형 미셀에서 자기 조립을 과정을 수행하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질의 제조방법
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질로 형성되는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질 막
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트리메톡시실릴프로필아닐린 (TMSPA)을 β-나프탈렌 설폰산(NSA)에 용해시키는 단계;상기에서 제조된 용액을 ITO (Indium tin oxide) 작업전극, Ag/AgCl 기준전극, 및 백금 와이어 보조전극으로 이루어진 세개의 전극 셀 집합체 (electrode cell assembly) 내에서 전해시키는 단계; 및상기 ITO 작업전극의 표면에 형성된 막을 회수하는 단계를 포함하는 나노다공성 실리카-폴리아닐린 혼성 물질 막의 제조방법
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제 10 항에 있어서, 상기 전해는 0
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