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넓이 방향으로 배열된 망(mesh) 구조의 나노기공을 가지며, 상기 나노기공은 두께방향으로 일방향성의 관통된 구조를 가지며, 넓이 방향의 기공 종횡비(aspect ratio)가 1 내지 2 이고 기공도가 30 내지 90%이며, 시차주사열량계(differential scanning calorimeter, DSC)에 의해 측정되는 용융엔탈피 값에 의해 얻어지는 결정화도가 40 내지 80% 인 고분자 또는 고분자복합재료 멤브레인
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제1항에 있어서,기공의 직경은 5 내지 500 nm이고, 기공 간 간격은 10 내지 500 nm인 고분자 또는 고분자복합재료 멤브레인
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어닐링(annealing)을 통해 주형의 나노세공 내에 포함된 고분자 용액이 주형의 표면에서 막 형태로 디웨팅(dewetting) 되도록 하는 단계; 상기 디웨팅된 고분자 용액의 일방향성 동결(uni-directional freezing) 단계; 및상기 동결에 의해 고형화된 재료를 용매 에칭 또는 동결 건조하여 멤브레인을 제조하는 단계를 포함하는 두께방향으로 일방향성의 관통된 구조의 나노기공을 가지는 고분자 또는 고분자복합재료 멤브레인의 제조방법
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제3항에 있어서,고분자는 C-F 결합을 갖는 불소계 고분자 및 소수성 고분자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 방법
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제4항에 있어서,불소계 고분자는 플루오린화비닐리덴(VDF), 테트라플루오로에틸렌(PTFE), 에틸렌테트라플루오로에틸렌(ETFE), 퍼플루오로알콕시알칸(PFA), 비닐플루오라이드(VF), 클로로트리플루오로에틸렌(CTFE), 플루오르화된 에틸렌프로필렌(FEP), 테트라플루오로에틸렌(TFE), 헥사플루오로프로필렌(HFP) 및 퍼플루오르(프로필 비닐 에테르)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 방법
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제4항에 있어서,소수성 고분자는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리설폰계, 폴리케톤계, 폴리에테르설폰계, 셀룰로오즈계, 셀룰로오즈아세테이트, 셀룰로오즈트라이아세테이트, 재생 셀룰로오즈, 아크릴수지계, 나일론계, 폴리아미드계, 에폭시계, 폴리이미드계 고분자 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 방법
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제3항에 있어서,고분자 용액은 물, 물 및 알코올의 혼합물, 또는 유기용매 하에서 고분자를 용해 또는 분산시켜 제조하는 방법
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제7항에 있어서,유기용매는 아세톤 나이트릴, 아세토페논, 아크릴로나이트릴, 싸이클로헥사논, N, N-디메틸아세트아마이드, N, N-디메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드, 1,4-다이옥산, 에틸 아세테이트, 헥사메틸 포스포아마이드, 메틸 아세테이트, 메틸 에틸 케톤, N-메틸-2-피롤리돈, 프로필렌-1,2-카보네이트, 테트라하이드로퓨란, 테트라메틸우레아, 트라이에틸 포스페이트, 트라이메틸 포스페이트 및 디메틸아세트산으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 방법
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제7항에 있어서,고분자는 용매 100 중량부에 대하여 0
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제3항에 있어서,고분자 용액은 산화티탄, 실리카, 훈증된 실리카(fumed silica), 실리콘 카바이드, 실리콘나이트라이드, 스피넬, 실리콘옥시카바이드, 유리분말, 유리섬유, 탄소섬유, 그라펜, 나노튜브, 금 미세입자, 은 미세입자, 알루미나, 마그네시아, 실리콘니트리드, 지르코니아, 지르코니움 카바이드, 시알론(sialon), 나시콘, 실세람(silceram), 뮬라이드, 알루미늄, 동, 니켈, 스틸계, 티타늄, 티타늄 카바이드 및 티타늄이붕소화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 무기물을 더 포함하는 방법
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제3항에 있어서,어닐링은 20 내지 25 ℃의 조건에서 30분 내지 24시간 동안 실시하는 방법
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제3항에 있어서,고분자 용액의 동결은 액체질소에 의해 주형의 나노세공의 두께방향과 동일한 방향으로 5 내지 1000 ㎛/s의 속도로 실시하는 방법
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제3항에 있어서,동결에 의해 고형화된 재료는 동결건조기 또는 용매 에칭 배스(bath)에서 1시간 내지 3일 동안 건조시키는 방법
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제3항에 있어서,나노세공을 갖는 주형을 제거하는 단계를 더 포함하는 방법
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제3항에 있어서,멤브레인의 용매 어닐링, 온도 어닐링, 신장 및 압착으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 강화 단계를 더 포함하는 방법
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제1항의 고분자 또는 고분자복합재료 멤브레인을 포함하는 다공성 지지체, 미세여과막, 방수성 및 통풍성을 동시에 갖는 막 또는 에너지소자의 확산조절용 막의 어느 하나를 포함하는 제품
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기판; 및상기 기판 상에 형성된 제1항의 고분자 또는 고분자복합재료 멤브레인을 포함하는 이차전지
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나노세공을 갖는 주형을 이용하여 고분자 용액의 어닐링(annealing), 일방향성 동결, 및 에칭 또는 동결 건조를 순차적으로 실시하여 두께방향으로 일방향성의 관통된 구조의 나노기공을 갖는 고분자 또는 고분자복합재료 멤브레인을 제조함에 있어서,상기 어닐링 시간을 30분 내지 24시간 동안 실시하여 기공의 크기를 제어하는 단계를 포함하는 두께방향으로 일방향성의 관통된 구조의 나노기공을 갖는 고분자 또는 고분자복합재료 멤브레인의 기공 크기 제어방법
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