1 |
1
지반 내 파이프라인의 상태를 탐지하기 위한 시스템에 있어서,파이프라인의 길이 방향을 따라 파이프라인의 주위에 2차원적 또는 3차원적으로 배열되고 금속 물질을 구비하는 복수 개의 탐지 타겟들;상기 파이프라인으로부터 이격되게 지반에 매립되고, 2차원적 그리드 형태 또는 3차원적 그리드 형태를 가지고, 상기 복수 개의 탐지 타겟들이 형성하는 배열 구조가 유지되도록 상기 복수 개의 탐지 타겟들을 지지하고, 지반 내 외력에 의해 형태가 변형되도록 구성된 지지체; 및지반 위에서 지반 내 상기 복수 개의 탐지 타겟들의 존재를 탐지하기 위한 탐지기;를 포함하고,상기 복수 개의 탐지 타겟들은 파이프라인의 주위에 2차원적 또는 3차원적으로 배열되는 시스템
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 복수 개의 탐지 타겟들은 파이프라인의 길이 방향인 제1방향을 따라 배열되는 복수 개의 제1 탐지 타겟들; 및상기 제1방향에 교차하는 제2방향을 따라 배열되는 복수 개의 제2 탐지 타겟들;을 포함하는 시스템
|
3 |
3
제2항에 있어서,상기 복수 개의 탐지 타겟들은 상기 제1방향 및 상기 제2방향에 각각 교차하는 제3방향을 따라 배열되는 복수 개의 제3 탐지 타겟들을 더 포함하는 시스템
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 탐지기가 상기 복수 개의 탐지 타겟들의 존재를 탐지하도록 파이프라인의 길이 방향을 따라 지반 위에 형성된 홈을 더 포함하고,상기 홈의 깊이는 상기 복수 개의 탐지 타겟들의 존재를 탐지하는 상기 탐지기의 탐지 심도에 기초하여 설정되는 시스템
|
5 |
5
제4항에 있어서,상기 탐지기를 포함하며 지반 위에서 상기 홈을 따라 이동 가능한 이동체를 더 포함하는 시스템
|
6 |
6
제1항에 있어서,상기 탐지기로부터 상기 복수 개의 탐지 타겟들의 존재에 관한 정보를 수신하여 파이프라인의 상태를 결정하는 프로세서를 더 포함하는 시스템
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 탐지기는 지반 투과 가능한 설정 주파수 대역의 전자기파를 이용하여 상기 복수 개의 탐지 타겟들의 존재를 탐지하는 시스템
|
8 |
8
지반 내 파이프라인의 상태를 탐지하기 위한 시스템에 있어서,파이프라인의 길이 방향을 따라 파이프라인의 주위에 2차원적 또는 3차원적으로 배열되고 금속 물질을 구비하는 복수 개의 탐지 타겟들;상기 파이프라인으로부터 이격되게 지반에 매립되고, 2차원적 그리드 형태 또는 3차원적 그리드 형태를 가지고, 상기 복수 개의 탐지 타겟들이 형성하는 배열 구조가 유지되도록 상기 복수 개의 탐지 타겟들을 지지하고, 외력에 의해 변형되도록 구성된 지지체;지반 위에서 전력을 발생시키도록 구성된 전력 발생 장치; 및파이프라인의 길이 방향을 따라 지반에 형성된 전기적 라인;을 포함하고,상기 전력 발생 장치와 상기 전기적 라인 사이에 커플링되며 발생되는 전자기파에 의해 상기 복수 개의 탐지 타겟들의 존재가 탐지되는 시스템
|
9 |
9
제8항에 있어서,상기 전력 발생 장치를 포함하며 지반 위에서 상기 전기적 라인을 따라 이동 가능한 이동체를 더 포함하는 시스템
|
10 |
10
제8항에 있어서,전자기파에 의해 탐지된 복수 개의 탐지 타겟들의 존재에 관한 정보를 수신하여 파이프라인의 상태를 결정하는 프로세서를 더 포함하는 시스템
|
11 |
11
제8항에 있어서,상기 복수 개의 탐지 타겟들은 파이프라인의 길이 방향인 제1방향을 따라 배열되는 복수 개의 제1 탐지 타겟들; 및상기 제1방향에 교차하는 제2방향을 따라 배열되는 복수 개의 제2 탐지 타겟들;을 포함하는 시스템
|
12 |
12
제11항에 있어서,상기 복수 개의 탐지 타겟들은 상기 제1방향 및 상기 제2방향에 각각 교차하는 제3방향을 따라 배열되는 복수 개의 제3 탐지 타겟들을 더 포함하는 시스템
|