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비반응성 키랄 도판트와 반응성 네마틱 메조겐을 혼합한 후 경화함으로써, 나선형 구조의 콜레스테릭 액정을 형성하는 단계; 및상기 콜레스테릭 액정으로부터 키랄 도판트를 제거하면서도 나선형 구조가 유지된, 고상의 나선형 액정을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 광결정 구조체는 광결정 필름 형태로,상기 광결정 필름은 평행하게 쌓인 표면 처리된 두 개의 기판 사이에 비반응성 키랄 도판트와 반응성 네마틱 메조겐의 혼합물을 주입한 후 경화함으로써, 나선형 구조의 콜레스테릭 액정 필름을 형성하는 단계; 및상기 두 개의 기판 중 상부 기판을 제거하고, 경화된 콜레스테릭 액정 필름으로부터 나선형 구조를 유지하면서 키랄 도펀트를 제거하여, 고상의 나선형 액정 필름을 형성하는 단계;를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 광결정 구조체는 광결정 구체로 고상의 액적(droplet) 또는 중공형 셀(hollow shell) 형태이고,상기 광결정 구체는 미세유체 장치를 이용하여 제조되는 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 비반응성 키랄 도펀트 및 반응성 네마틱 메조겐은 각각 5~50중량% 및 95~50중량%로 혼합되는 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 광결정 구조체는 광 밴드 갭의 파장 범위가 350 내지 650nm인 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 광결정 구조체는 톨루엔, 벤젠, THF, 피리딘 및 아닐린으로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 하나의 용매에서, 고상의 광결정 구조체에 비해 1
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제 1 항에 있어서,상기 광결정 구조체는 온도가 30 내지 55℃로 증가할 때, 광 밴드 갭의 파장 범위가 500 내지 650nm인 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 키랄 도판트는 C15, CB15, CM21, R/S-811, CM44, CM45, CM47, R/S-2011, R/S-3011, R/S-4011, R/S-5011 및 R/S-1011로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 도판트인 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 반응성 네마틱 메조겐은, RM 82, RM 257, RM308 및 RMM727로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 메조겐인 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체의 제조방법
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제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 광결정 구조체의 제조방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는, 고상 상태의 나선형 광결정 구조체
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제 10 항에 따른 고상 상태의 나선형 광결정 구조체를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는, 센서
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제 11 항에 있어서,상기 센서는 온도 또는 습도 센서인 것을 특징으로 하는, 센서
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