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하기 화학식 4 내지 화학식 6 중 어느 하나로 표시되는 화합물을 포함하는 분산액을 기판 상에 코팅하는 단계; 및상기 코팅된 기판을 열처리 하는 단계를 포함하는, 나노 박막의 제조 방법:[화학식 4];[화학식 5];[화학식 6];상기 화학식 4 내지 화학식 6 에서,R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소, 또는 선형 또는 분지형의 C1-10 알킬기임
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제 1 항에 있어서,상기 분산액은 나노 소재를 추가 포함하는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 나노 소재는 상기 화학식 4 내지 화학식 6 중 어느 하나로 표시되는 화합물에 의해 상기 기판 상에 임베딩(embedding)되는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 열처리는 20℃ 내지 300℃에서 수행되는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 나노 소재는 나노와이어, 나노입자, 나노튜브, 나노섬유, 나노로드 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택된 형상의 물질을 포함하는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 나노 소재는 Ag, Au, Pt, Al, Cu, Cr, V, Mg, Ti, Sn, Pb, Pd, W, Ni, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택된 금속을 포함하는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 나노 소재는 은(Ag) 나노와이어를 포함하는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 분산액은 이소프로필알코올, 물, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세롤, 프로필글리콜, 펜타에리스리톨, 비닐알코올, 폴리비닐알코올, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 용매를 포함하는 것인,나노 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 플라스틱 기판, 유리 기판, 실리콘 기판, 실리콘 옥사이드 기판, 테프론 필름 기판, 사파이어 기판, 질화물 기판, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 기판을 포함하는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 플라스틱 기판은 폴리에틸렌 테레프타레이트(PET), 폴리 에테르술폰(PES), 폴리 에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리 카보네이트(PC), 폴리 스티렌(PS), 폴리 이미드(PI), 폴리 에틸린(PE), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 플라스틱 기판을 포함하는 것인, 나노 박막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 코팅은 바코팅, 스핀 코팅, 노즐 프린팅, 스프레이 코팅, 슬롯다이코팅, 그라비아 프린팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 전기수력학적 젯 프린팅, 전기분무, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되어 수행되는 것인,나노 박막의 제조 방법
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