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망간 도핑된 InZnP 양자점 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2020013130
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요약 본 발명은 양자점 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, InZnP 양자점를 호스트 물질로 하여 합성 재현성과 광학 효율이 높은 망간 도핑된 InZnP 양자점을 제공하기 위한 것이다. 본 발명은 인듐 아세테이트(Indium acetate), 아연 아세테이트(zinc acetate) 및 트리스트리메티실릴 포스핀(tristrimethylsilyphosphine)을 반응시켜 합성한 InZnP 양자점을 포함하고, 상기 InZnP 양자점은 망간으로 도핑된 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점 및 그의 제조 방법을 제공한다.
Int. CL C09K 11/02 (2006.01.01) C09K 11/70 (2006.01.01) B82Y 20/00 (2017.01.01) B82Y 30/00 (2017.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01)
CPC C09K 11/02(2013.01) C09K 11/02(2013.01) C09K 11/02(2013.01) C09K 11/02(2013.01) C09K 11/02(2013.01)
출원번호/일자 1020190027287 (2019.03.11)
출원인 한국전자기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0108547 (2020.09.21) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.07.09)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한철종 경기도 용인시 수지구
2 김지용 충청남도 천안시 서북구
3 이정민 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박종한 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 * (구로동, 에이스하이엔드타워*차) ***호(한림특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.03.11 수리 (Accepted) 1-1-2019-0243903-50
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2019-0700821-57
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.03.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.06.11 수리 (Accepted) 9-1-2020-0022858-98
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.11.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0773356-87
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번호 청구항
1 1
인듐 아세테이트(Indium acetate), 아연 아세테이트(zinc acetate) 및 트리스트리메티실릴 포스핀(tristrimethylsilyphosphine)을 반응시켜 합성한 InZnP 양자점을 포함하고,상기 InZnP 양자점은 망간으로 도핑되어 광학 효율을 증가시킨 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점
2 2
제1항에 있어서,상기 InZnP 양자점에 대한 망간의 도핑비율은 0
3 3
제1항에 있어서, 상기 망간 도핑된 InZnP 양자점은 도핑전 InZnP 양자점 보다 스트로크 시프트(stokes shift)가 넓은 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점
4 4
제1항에 있어서,상기 망간 도핑된 InZnP 양자점은 도핑전 InZnP에 비하여 포토루미네선스 피크(Photoluminescence Peak) 파장이 길어진 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점
5 5
제1항에 있어서,상기 망간 도핑된 InZnP 양자점은 도핑전 InZnP 양자점 보다 반치폭(FWHM)이 감소한 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점
6 6
제1항에 있어서,상기 InZnP 양자점은,상기 인듐 아세테이트 및 상기 아연 아세테이트를 반응기에 넣고 가열하고,상기 트리스트리메티실릴 포스핀과 1-옥타데센(1-octadecene) 혼합물을 상기 반응기에 주입하여 합성하는 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점
7 7
제1항에 있어서,상기 망간 도핑된 InZnP 양자점은,상기 합성한 InZnP 양자점에 원-포트 반응(one pot reaction)으로 올레산 망간을 주입하고 온도를 점진적으로 증가시킨 후 소정의 시간동안 유지시켜 망간으로 도핑된 InZnP의 합성 재현성을 높인 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점
8 8
인듐 아세테이트(Indium acetate), 아연 아세테이트(zinc acetate) 및 트리스트리메티실릴 포스핀(tristrimethylsilyphosphine)을 반응시켜 InZnP 양자점을 합성하는 단계; 및상기 InZnP 양자점을 망간으로 도핑하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점 제조 방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 InZnP 양자점을 합성하는 단계는,상기 인듐 아세테이트 및 상기 아연 아세테이트를 반응기에 넣고 가열하는 단계; 및상기 트리스트리메티실릴 포스핀과 1-옥타데센(1-octadecene) 혼합물을 상기 반응기에 주입하여 합성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점 제조 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 InZnP 양자점을 합성하는 단계는, 상기 인듐 아세테이트 및 상기 아연 아세테이트 및 올레산(oleic acid)을 반응기에 넣고 진공 조건에서 가열하는 단계;상기 반응기에 1-옥타데센을 주입하고 가열하는 단계;상기 반응기를 질소 분위기로 전환한 후 가열하는 단계; 및상기 트리스트리메티실릴 포스핀과 1-옥타데센 혼합물을 상기 반응기에 주입하여 합성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점 제조 방법
11 11
제8항에 있어서, 상기 InZnP 양자점을 망간으로 도핑하는 단계는,상기 합성한 InZnP 양자점에 원-포트 반응(one pot reaction)으로 올레산 망간을 주입하는 단계; 및온도 조건을 달리하여 상기 망간 도핑의 합성 재현성을 증가시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점 제조 방법
12 12
제11항에 있어서, 상기 InZnP 양자점을 망간으로 도핑하는 단계에서 온도 조건은,온도를 점진적으로 증가시킨 후 소정의 시간 동안 온도를 유지하는 것을 특징으로 하는 망간 도핑된 InZnP 양자점 제조 방법
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1 EP03708536 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY

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1 산업통상자원부 전자부품연구원 신재생에너지핵심기술개발사업 에너지 하베스팅 및 단열 성능을 고려한 창호형 태양광 모듈 개발