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가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022004926
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서는, 반도체 물질 기판, 상기 반도체 물질 기판 위에 형성된 절연막, 상기 반도체 물질 기판의 일부와 이종 접합되고 상기 절연막의 일부와 연결되도록 형성된 반도체 박막 물질, 상기 반도체 박막 물질 위에 형성된 가스분자 흡착유도 물질, 상기 반도체 물질 기판 위에 상기 반도체 박막 물질과 이격되도록 형성된 제1 전극, 및 상기 절연막 위에 상기 반도체 박막 물질과 연결되도록 형성된 제2 전극을 포함한다.
Int. CL G01N 27/12 (2006.01.01)
CPC G01N 27/12(2013.01) G01N 27/127(2013.01) G01N 27/128(2013.01) G01N 27/045(2013.01)
출원번호/일자 1020200142343 (2020.10.29)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0057261 (2022.05.09) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.10.29)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유우종 경기도 수원시 장안구
2 김영래 경기도 수원시 장안구
3 펜탄루안 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 심경식 대한민국 서울시 강남구 역삼로 *** 동아빌딩 *층(에스와이피특허법률사무소)
2 홍성욱 대한민국 서울시 강남구 역삼로 *** 동아빌딩 *층(에스와이피특허법률사무소)
3 인비전 특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, *층(대치동, 동산빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.10.29 수리 (Accepted) 1-1-2020-1154369-50
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2021.01.13 수리 (Accepted) 1-1-2021-0047036-96
3 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2021.08.02 수리 (Accepted) 1-1-2021-0891051-90
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.08.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.10.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2022-0025989-15
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0123304-70
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2022-0406207-18
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.04.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0406208-53
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번호 청구항
1 1
반도체 물질 기판; 상기 반도체 물질 기판 위에 형성된 절연막; 상기 반도체 물질 기판의 일부와 이종 접합되고 상기 절연막의 일부와 연결되도록 형성된 반도체 박막 물질; 상기 반도체 박막 물질 위에 형성된 가스분자 흡착유도 물질; 상기 반도체 물질 기판 위에 상기 반도체 박막 물질과 이격되도록 형성된 제1 전극; 및 상기 절연막 위에 상기 반도체 박막 물질과 연결되도록 형성된 제2 전극을 포함하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
2 2
제1항에 있어서,상기 반도체 물질 기판은, 쿼츠, 유리 및 플렉서블한 폴리머 기판 중에서 어느 하나 위에 다른 반도체 박막 물질을 증착하여 상기 증착된 다른 반도체 박막 물질을 상기 반도체 물질 기판으로 형성되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
3 3
제2항에 있어서,상기 증착된 반도체 박막 물질은 메탈 옥사이드(Metal Oxide) 계열, 실리콘 계열 및 오가닉(Organic) 물질 중에서 어느 하나의 물질을 포함하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
4 4
제1항에 있어서,상기 절연막은, 상기 반도체 물질 기판 위에 상기 형성된 반도체 박막 물질과 연결된 제2 전극과의 이격을 위한 절연막으로 증착되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
5 5
제1항에 있어서,상기 반도체 박막 물질은, 페르미 준위의 변화가 가능한 반도체 물질, 옥사이드 반도체 및 2차원 물질 중에서 어느 하나로 이루어진 반도체 박막 물질로 형성되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
6 6
제1항에 있어서,상기 절연막은, 옥사이드 기반 절연체 물질 또는 2차원 물질 기반 절연막 물질로 이루어진 절연막으로 형성되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
7 7
제1항에 있어서,상기 가스분자 흡착유도 물질은, 금속나노입자, 옥사이드 나노물질, 옥사이드 나노물질과 혼합한 물질 및 카본나노튜브 중에서 어느 하나의 물질로 이루어진 가스분자 흡착유도 물질로 형성되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
8 8
제1항에 있어서,상기 가스분자 흡착유도 물질은, 상기 반도체 박막 물질 위에 서로 이격된 복수의 가스분자 흡착유도 물질로 형성되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
9 9
제1항에 있어서,상기 가스분자 흡착유도 물질에 가스 분자가 결착되면, 상기 반도체 물질 기판과 상기 반도체 박막 물질 사이의 에너지 장벽에 의한 소자 전류가 변화되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
10 10
제9항에 있어서,상기 소자 전류의 전류량 변화는 상기 반도체 물질 기판과 상기 반도체 박막 물질 사이의 페르미 준위 변화에 대하여 지수로 비례하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서
11 11
반도체 물질 기판을 형성하는 단계; 상기 반도체 물질 기판 위에 절연막을 형성하는 단계; 상기 반도체 물질 기판의 일부와 이종 접합되고 상기 절연막의 일부와 연결되도록 반도체 박막 물질을 형성하는 단계; 상기 반도체 박막 물질 위에 가스분자 흡착유도 물질을 형성하는 단계; 상기 반도체 물질 기판 위에 상기 반도체 박막 물질과 이격되도록 제1 전극을 형성하는 단계; 및 상기 절연막 위에 상기 반도체 박막 물질과 연결되도록 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
12 12
제11항에 있어서,상기 반도체 물질 기판을 형성하는 단계는, 쿼츠, 유리 및 플렉서블한 폴리머 기판 중에서 어느 하나 위에 다른 반도체 박막 물질을 증착하여 상기 증착된 다른 반도체 박막 물질을 상기 반도체 물질 기판으로 형성하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
13 13
제12항에 있어서,상기 증착된 반도체 박막 물질은 메탈 옥사이드(Metal Oxide) 계열, 실리콘 계열 및 오가닉(Organic) 물질 중에서 어느 하나의 물질을 포함하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
14 14
제11항에 있어서,상기 절연막을 형성하는 단계는, 상기 반도체 물질 기판 위에 상기 형성된 반도체 박막 물질과 연결된 제2 전극과의 이격을 위한 절연막을 증착하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
15 15
제11항에 있어서,상기 반도체 박막 물질을 형성하는 단계는, 페르미 준위의 변화가 가능한 반도체 물질, 옥사이드 반도체 및 2차원 물질 중에서 어느 하나로 이루어진 반도체 박막 물질을 형성하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
16 16
제11항에 있어서,상기 절연막을 형성하는 단계는, 옥사이드 기반 절연체 물질 또는 2차원 물질 기반 절연막 물질로 이루어진 절연막을 형성하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
17 17
제11항에 있어서,상기 가스분자 흡착유도 물질을 형성하는 단계는, 금속나노입자, 옥사이드 나노물질, 옥사이드 나노물질과 혼합한 물질 및 카본나노튜브 중에서 어느 하나의 물질로 이루어진 가스분자 흡착유도 물질을 형성하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
18 18
제11항에 있어서,상기 가스분자 흡착유도 물질을 형성하는 단계는, 상기 반도체 박막 물질 위에 서로 이격된 복수의 가스분자 흡착유도 물질을 형성하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
19 19
제11항에 있어서,상기 가스분자 흡착유도 물질에 가스 분자가 결착되면, 상기 반도체 물질 기판과 상기 반도체 박막 물질 사이의 에너지 장벽에 의한 소자 전류가 변화되는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
20 20
제19항에 있어서,상기 소자 전류의 전류량 변화는 상기 반도체 물질 기판과 상기 반도체 박막 물질 사이의 페르미 준위 변화에 대하여 지수로 비례하는, 가스분자 흡착유도 물질을 포함한 전계 가변형 가스 센서 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 성균관대학교 산학협력단 정보통신방송혁신인재양성(R&D) ICT명품인재양성(성균관대학교)
2 과학기술정보통신부 전자부품연구원 국민위해인자에 대응한 기체분자식별·분석기술개발 사업 액상 마약류 수용체 2D 나노 물질 자가 조립 소재 및 탄성파 기반 센서 기술 개발