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광을 출사하는 광원;광원에서 출사되는 광 중 일부를 변형 거울(deformable mirror)로 위상 변조하여 홀로그래픽 매질에 물체 광(object beam)으로 입사시키는 광학 엔진(Optical Engine); 및광원에서 출사되는 광 중 나머지를 홀로그래픽 매질(holographic material)에 참조 광(reference beam)으로 입사시키는 광학계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 1에 있어서,광원에서 출사되는 광 중 일부는 광학 엔진으로 전달하고, 나머지는 광학계 측으로 전달하는 제1 빔 스플리터(beam splitter);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 1에 있어서,광학 엔진은,입사되는 광을 특정 폭 만큼만 통과시키는 애퍼처(aperture);애퍼처를 통과한 광을 각기 다른 각도로 반사하여 광경로를 변경시키는 회전 거울(rotating mirror);회전 거울에서 출사되는 광을 위상 변조하여 홀로그래픽 매질로 반사하는 변형 거울;을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 3에 있어서,회전 거울는,제1 방향으로 θ°까지 회전하였다가, 제1 방향과 반대 방향인 제2 방향으로 θ°까지 회전하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 4에 있어서,변형 거울는,회전 거울의 회전에 의해, 입사 광의 입사 각이 특정 범위 내에서 변동되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 5에 있어서,특정 범위는,-2θ°내지 +2θ°인 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 3에 있어서,특정 폭은,변형 거울의 유효 폭과 동일한 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 3에 있어서,광학 엔진은애퍼처를 통과된 광을 반사하여 회전 거울로 입사시키고, 회전 거울에서 반사된 광을 투과시키는 제2 빔 스플리터;제2 빔 스플리터에서 투과되는 광을 전달하는 제1 렌즈와 제2 렌즈;제1 렌즈와 제2 렌즈를 통해 전달되는 광을 반사하여 변형 거울로 입사시키는 제3 빔 스플리터;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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청구항 8에 있어서,회전 거울과 제1 렌즈 간의 거리는,제1 렌즈의 초점 거리이고,제1 렌즈와 제2 렌즈 간의 거리는,제1 렌즈의 초점 거리와 제2 렌즈의 초점 거리의 합이며,제2 렌즈로부터 제2 빔 스플리터를 통한 변형 거울 까지의 광경로의 길이는,제2 렌즈의 초점 거리인 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린터
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광을 출사하는 단계;출사되는 광 중 일부를 변형 거울로 위상 변조하여 홀로그래픽 매질에 물체 광으로 입사시키는 단계; 및광원에서 출사되는 광 중 나머지를 홀로그래픽 매질에 참조 광으로 입사시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 프린팅 방법
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입사되는 광을 특정 폭 만큼만 통과시키는 애퍼처(aperture);애퍼처를 통과한 광을 각기 다른 각도로 반사하여 광경로를 변경시키는 회전 거울(rotating mirror);회전 거울에서 출사되는 광을 위상 변조하여 홀로그래픽 매질로 반사하는 변형 거울;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 엔진
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입사되는 광을 특정 폭 만큼만 통과시키는 단계;통과한 광을 각기 다른 각도로 반사하여 광경로를 변경시키는 단계;광경로가 변경되는 광을 위상 변조하여 홀로그래픽 매질로 반사하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 변조 방법
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