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3단자 시냅스 소자 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022017533
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 3단자 시냅스 소자 및 그 제조 방법이 개시된다. 개시되는 일 실시예에 따른 3단자 시냅스 소자는, 제1 열차단층, 제1 열차단층의 상부에 마련되는 채널 영역, 제1 열차단층의 상부에 채널 영역과 접하고 상호 이격되어 마련되는 소스 전극과 드레인 전극, 채널 영역의 상부에 마련되는 이온 전달층, 및 이온 전달층의 상부에 마련되는 게이트 전극을 포함한다.
Int. CL H01L 45/00 (2006.01.01)
CPC H01L 45/1206(2013.01) H01L 45/08(2013.01) H01L 45/141(2013.01) H01L 45/145(2013.01) H01L 45/16(2013.01) G06N 3/063(2013.01)
출원번호/일자 1020210029314 (2021.03.05)
출원인 경북대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0125465 (2022.09.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.03.05)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 우지용 대구광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 백두진 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***, *층(양재동, 혜산빌딩)(시공특허법률사무소)
2 유광철 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 *** *층 (양재동, 혜산빌딩)(시공특허법률사무소)
3 권성현 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 *** 혜산빌딩 *층(시공특허법률사무소)
4 김정연 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 *** *층(양재동, 혜산빌딩)(시공특허법률사무소)
5 강일신 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***, *층 혜산빌딩(양재동)(시공특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2021-0262433-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.12.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2022.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2022-0117657-53
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.07.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0510986-54
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2022-0945231-46
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.09.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0945203-78
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번호 청구항
1 1
제1 열차단층;상기 제1 열차단층의 상부에 마련되는 채널 영역;상기 제1 열차단층의 상부에 상기 채널 영역과 접하고 상호 이격되어 마련되는 소스 전극과 드레인 전극;상기 채널 영역의 상부에 마련되는 이온 전달층; 및상기 이온 전달층의 상부에 마련되는 게이트 전극을 포함하는, 3단자 시냅스 소자
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 제1 열차단층은, 상기 채널 영역 보다 열 전도도가 낮은 물질로 이루어지는, 3단자 시냅스 소자
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 제1 열차단층은, 상기 이온 전달층에서 상기 채널 영역으로 이동하는 활성 이온의 이동도를 증가시켜 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 사이의 전류 변화 폭을 증가시키도록 마련되는, 3단자 시냅스 소자
4 4
청구항 3에 있어서, 상기 이온 전달층은, 전해질 물질로 이루어지고, 상기 활성 이온은, H+, Li+, Na+, Cu+, Ag+ 및 O2- 중에서 선택되는 하나 이상의 이온을 포함하는, 3단자 시냅스 소자
5 5
청구항 3에 있어서,상기 제1 열차단층은, 열 전도도가 기 설정된 임계 전도도 이하인 복수 개의 층이 적층되어 마련되는, 3단자 시냅스 소자
6 6
청구항 5에 있어서, 상기 복수 개의 층은, 열 전도도가 서로 다른 물질로 이루어지는 층이 교대로 적층되어 마련되는, 3단자 시냅스 소자
7 7
청구항 1에 있어서, 상기 제1 열차단층은, 기 설정된 임계 열 전도도 이하의 이원계 산화물, 삼성분계 산화물, 및 칼코지나이드 계열 화합물 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어지는, 3단자 시냅스 소자
8 8
청구항 1에 있어서, 상기 3단자 시냅스 소자는, 상기 이온 전달층의 측면을 감싸며 마련되는 제2 열차단층을 더 포함하는, 3단자 시냅스 소자
9 9
청구항 1에 있어서, 상기 3단자 시냅스 소자는, 상기 이온 전달층의 측면 및 상기 게이트 전극의 상부를 감싸며 마련되는 제2 열차단층을 더 포함하는, 3단자 시냅스 소자
10 10
청구항 1에 있어서, 상기 3단자 시냅스 소자는, 상기 게이트 전극의 상부에 마련되는 제2 열차단층을 더 포함하는, 3단자 시냅스 소자
11 11
청구항 8에 있어서, 상기 제2 열차단층은, 상기 이온 전달층 보다 열 전도도 및 이온 전도도가 낮은 물질로 이루어지는, 3단자 시냅스 소자
12 12
청구항 8 내지 청구항 10 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제2 열차단층은, 상기 이온 전달층에서 상기 채널 영역으로 이동하는 활성 이온의 이동도를 증가시켜 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 사이의 전류 변화 폭을 증가시키도록 마련되는, 3단자 시냅스 소자
13 13
채널 영역;상기 채널 영역과 접하여 마련되고, 상호 이격되는 소스 전극과 드레인 전극;상기 채널 영역의 상부에 마련되는 이온 전달층;상기 이온 전달층의 상부에 마련되는 게이트 전극; 및상기 이온 전달층의 측면 및 상기 게이트 전극의 상부 중 하나 이상에 마련되는 열차단층을 포함하는, 3단자 시냅스 소자
14 14
청구항 13에 있어서, 상기 열차단층은, 상기 이온 전달층 보다 열 전도도 및 이온 전도도가 낮은 물질로 이루어지는, 3단자 시냅스 소자
15 15
청구항 13에 있어서, 상기 열차단층은, 상기 이온 전달층에서 상기 채널 영역으로 이동하는 활성 이온의 이동도를 증가시켜 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 사이의 전류 변화 폭을 증가시키도록 마련되는, 3단자 시냅스 소자
16 16
청구항 15에 있어서, 상기 이온 전달층은, 전해질 물질로 이루어지고, 상기 활성 이온은, H+, Li+, Na+, Cu+, Ag+ 및 O2- 중에서 선택되는 하나 이상의 이온을 포함하는, 3단자 시냅스 소자
17 17
청구항 13에 있어서, 상기 열차단층은, 기 설정된 임계 열 전도도 이하의 이원계 산화물, 삼성분계 산화물, 및 칼코지나이드 계열 화합물 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어지는, 3단자 시냅스 소자
18 18
열차단층을 형성하는 단계;상기 열차단층의 상부에 채널 영역을 형성하고, 상기 열차단층의 상부에서 상기 채널 영역과 접하되 상호 이격하여 소스 전극과 드레인 전극을 형성하는 단계;상기 채널 영역의 상부에 이온 전달층을 형성하는 단계; 및상기 이온 전달층의 상부에 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하는, 3단자 시냅스 소자의 제조방법
19 19
채널 영역과 접하여 소스 전극과 드레인 전극을 각각 형성하는 단계;상기 채널 영역의 상부에 이온 전달층을 형성하는 단계;상기 이온 전달층의 상부에 게이트 전극을 형성하는 단계; 및상기 이온 전달층의 측면 및 상기 게이트 전극의 상부 중 하나 이상에 열차단층을 형성하는 단계를 포함하는, 3단자 시냅스 소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 경북대학교 차세대지능형반도체기술개발사업(R&D) 웨이퍼 레벨 양이온 제어형 3단자 뉴로모픽 시냅스 소재 및 소자 개발